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주사전자현미경(Scanning Electron Microscope; SEM) 측정 대상인 3차원 구조의 비전도성 샘플 표면에, 원자층 증착법(Atomic Layer Deposition; ALD)을 이용하여 80℃의 저온에서 금속을 증착시켜 전도성 박막을 코팅하는 것으로서,a) 반응 챔버 내에 주사전자현미경(Scanning Electron Microscope; SEM) 측정 대상인 3차원 구조의 비전도성 샘플을 배치하는 단계;b) 상기 반응 챔버 내의 샘플 위로 기화된 금속 전구체인 [(1,2,5,6-η)-1,5-hexadiene]dimethylplatinum(Ⅱ)(HDMP)를 공급 및 흡착시키는 단계;c) 퍼징가스를 공급하여 반응 챔버로부터 잉여의 기화된 금속 전구체를 제거하는 단계;d) 금속 전구체가 흡착된 샘플 위에 반응가스로서 산소(O2)를 공급 및 반응시켜 전도성 백금(Pt) 박막을 형성하는 단계;e) 퍼징가스를 공급하여 반응 챔버로부터 잉여의 반응가스 및 반응 부산물을 제거하는 단계; 및f) 원하는 두께의 전도성 백금(Pt) 박막이 획득될 때까지 상기 b) 단계 내지 e) 단계를 순차적으로 반복 수행하는 단계;를 포함하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제1항에 있어서,상기 비전도성 샘플은 열에 취약한 샘플인 것을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제2항에 있어서,상기 열에 취약한 샘플은 바이오 샘플인 것을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제3항에 있어서,상기 바이오 샘플은 세포 또는 박테리아인 것을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제1항에 있어서,상기 비전도성 샘플은 표면에 미세 요철이 형성된 구조의 샘플인 것을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제1항에 있어서,상기 전도성 박막은 10~50 Å 범위의 얇은 두께로 코팅되는 것을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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제1항에 있어서,상기 전도성 박막의 두께는 원자층 증착 공정의 단위 사이클 횟수를 변경하여 조절되는 것임을 특징으로 하는,선명한 SEM 측정을 위한 3차원 전도성 코팅 방법
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