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a) 환원된 산화 그래핀(Reduced Graphene Oxide; RGO) 콜로이드 용액을 준비하는 단계; 및b) 상기 환원된 산화 그래핀(RGO) 콜로이드 용액을 스프레이 노즐을 통해 마이크로 독립액적의 형태로 가열된 집전체 표면 위에 스프레이 분사시켜, 환원된 산화 그래핀(RGO) 입자들이 과열증발(Superheated evaporation)하는 마이크로 액적 계면을 따라 자가조립(Self-assembly)되도록 하는 단계;를 포함하고,상기 자가조립(Self-assembly)된 환원된 산화 그래핀(RGO) 입자들은 미세기공을 갖는 폼 형상(Foam-like)의 3차원 그래핀 구조체를 형성하며,상기 3차원 그래핀 구조체는 RGO 콜로이드 용액의 농도, 용매의 종류, 용매에 포함되는 유기용매의 몰분율, 용액 분사량 또는 상기 집전체의 온도에 의하여 형상 조절이 가능하며, 형성된 3차원 그래핀 구조체는 슈퍼커패시터(Supercapacitor)의 전극 소재로 사용되는 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 집전체는 금(Au), ITO 또는 FTO가 코팅된 유리 기판 또는 금속 박막인 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제1항에 있어서,c) 형성된 3차원 그래핀 구조체 위에 금속 입자를 코팅하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 금속 입자는 MnO2, RuO2, NiO, Ni(OH)2, V2O5, Fe2O3, TiO2, Li4Ti5O12, Co(OH)2 및 Co3O4 중에서 선택된 금속 산화물인 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 환원된 산화 그래핀(RGO) 콜로이드 용액의 용매는 증류수 단일 용매, 또는 증류수 및 휘발성 유기용매가 혼합된 2성분 용매이고,상기 환원된 산화 그래핀(RGO) 콜로이드 용액의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 스프레이 노즐을 통해 마이크로 독립액적의 크기가 10 μm로 조절된 후 분사되는 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 3차원 그래핀 구조체의 미세기공의 크기는 0
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제1항에 있어서,상기 슈퍼커패시터는 전기이중층 커패시터(Electrical double layer type capacitor; EDLC) 또는 하이브리드 커패시터(Hybrid capacitor)인 것을 특징으로 하는,스프레이 분사를 이용한 슈퍼커패시터용 3차원 그래핀 전극의 제조방법
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제1항 내지 제4항 또는 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따라 3차원 그래핀 전극을 1쌍 제작한 후,제작된 1쌍의 전극을 황산 용액으로 적신 다음,그 사이에 멤브레인을 개재하고 압착하는 과정을 포함하는,슈퍼커패시터의 제조방법
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