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자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2019033967
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따르면 복잡한 프로세스없이 쉽게 스핀 코팅 방법을 통해 잔디 모양의 Sb2Se3 나노 니들 어레이를 기판 상에 제조한다. 단결정 Sb2Se3의 우선적인 [001] 성장이 첫 번째 스핀 코팅 중에 발생하며, 후속 스핀 코팅 반복시 계면 결함이 생성되어 Sb2Se3 나노 니들의 나이테와 같은 성장을 가져온다. TiO2와 Pt를 순차적으로 표면 개질 한 후, 광전극으로부터 전해질로의 전하 이동에 대한 저항이 현저하게 감소하여 높은 광전류를 얻을 수 있으며, 다양한 광전기화학 장치에 적용될 수 있다.
Int. CL H01L 31/0216 (2014.01.01) H01L 31/18 (2006.01.01) B05D 1/00 (2006.01.01) B05D 3/02 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) C23C 16/06 (2006.01.01) B82Y 20/00 (2017.01.01)
CPC H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01) H01L 31/02168(2013.01)
출원번호/일자 1020170003838 (2017.01.10)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1859863-0000 (2018.05.14)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180628) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.01.10)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 문주호 대한민국 서울특별시 서대문구
2 양우석 대한민국 서울특별시 서대문구
3 이형수 대한민국 서울특별시 서대문구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김권석 대한민국 서울특별시 서초구 논현로**, B동 *층(양재동, 삼호물산빌딩)(아이피맥스특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-0031653-00
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.04.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.06.12 수리 (Accepted) 9-1-2017-0018626-70
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2017.07.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-0689483-33
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.10.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0738421-09
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.12.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1284515-08
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.12.22 수리 (Accepted) 1-1-2017-1284436-99
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2018.03.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0219325-74
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.04.17 수리 (Accepted) 1-1-2018-0380772-55
10 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2018.04.17 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0380789-20
11 수수료 반환 안내서
Notification of Return of Official Fee
2018.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0062124-13
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2018.05.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0312917-08
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 준비하는 단계;Sb 함유 전구체 및 상기 Sb 함유 전구체의 제 1 용매를 포함하는 제 1 용액을 준비하는 단계; Se 함유 전구체 및 상기 Se 함유 전구체의 제 2 용매를 포함하는 제 2 용액을 준비하는 단계;상기 제 1 용액과 상기 제 2 용액을 혼합하여 제 3 용액을 생성하는 단계;상기 제 3 용액을 상기 기판 상에 코팅하여, 상기 기판의 주면에 대해 수직 방향으로 우선 배향되고 서로 이격된 나노로드들을 형성하는 초기 단계; 및상기 제 3 용액을 적어도 1 회 이상 반복 코팅함으로써, 상기 서로 이격된 나노로드들 사이의 간격에 의한 모세관 힘에 의해 상기 나노로드들이 상기 나노로드들의 성장 방향을 따라 점점 가늘어지면서 자체 지향된 형태로 상기 나노로드들을 성장시켜 나노니들들을 형성하는 반복 코팅 단계를 포함하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 Sb2Se3 나노 구조체에 TiO2 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 TiO2 는 원자층증착법(ALD)에 의해 200 ~ 400회의 증착 주기로 형성하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 TiO2 증착 후 Sb2Se3 나노 구조체를 공기 중에서 어닐링하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 Sb2Se3 나노 구조체에 Pt 층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 제 2 용액 제조 시 Thioglycolic acid, Mercaptosuccinic acid, 3-Mercaptopropionic acid, 4-mercaptobutyric acid, 6-Mercaptohexanoic acid, 8-Mercaptooctanoic acid, 11-Mercaptoundecanoic acid, 12-Mercaptododecanoic acid, 16-Mercaptohexadecanoic acid 중에서 선택되는 제1용매와, Ethanolamine, Diethanolamine, Triethanolamine 중에서 선택되는 제2용매를 공용매로 사용하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
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제6항에 있어서, 상기 공용매 중 상기 제1용매와 상기 제2용매의 혼합 비율을 달리하여 최종 Sb2Se3 나노 구조체의 광전기화학 특성을 변화시키는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 혼합된 전구체 용액은 N2가 채워진 글로브 박스 내부의 핫플레이트에서 교반하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 제 3 용액의 코팅은 2 ~ 8회 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 자체 지향 Sb2Se3 나노 구조체 제조방법
10 10
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