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참조광을 반사하는 위상변화미러; 및상기 위상변화미러를 이동시켜 참조광의 광경로길이를 변화시키는 액추에이터;를 포함하고,상기 액추에이터는 인가되는 전압에 따라 부피가 변화하는 적층 세라믹 커패시터(MLCC)인 것을 특징으로 하되,상기 적층 세라믹 커패시터에 전압을 인가하는 전압공급장치; 및상기 전압공급장치에서 공급되는 전압 세기를 제어하는 컨트롤러;를 포함하며,참조광의 위상변화가 필요 없는 경우, 상기 컨트롤러는 전압인가신호를 상기 전압공급장치에 내리지 않으며, 상기 전압공급장치는 상기 적층 세라믹 커패시터에 전압이 인가하지 않고,참조광의 위상 변화가 필요할 경우, 상기 컨트롤러는 필요한 위상변화에 대응되는 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량을 산출하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량에 대응되는 전압인가신호를 상기 전압공급장치에 전달하고, 상기 전압공급장치는 상기 컨트롤러로부터 전달받은 전압인가신호에 대응되는 전압을 상기 적층 세라믹 커패시터에 인가하며, 상기 적층 세라믹 커패시터에 인가된 전압에 따라 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피가 변하면서 상기 위상변화미러가 이동됨에 따라 참조광의 위상이 변화되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템
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제1항에 있어서,상기 적층 세라믹 커패시터는 상기 위상변화미러의 일측면에 결합되어 인가되는 전압에 따라 상기 위상변화미러의 위치를 변화시키는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템
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제1항에 있어서,상기 디지털 홀로그래피 시스템은 빛이 촬상 대상을 통과하는 투과형 또는 빛이 촬상 대상에 반사되는 반사형인 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템
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제1항에 있어서,상기 적층 세라믹 커패시터의 일측에는 고정플레이트가 결합되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템
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제1항에 있어서,상기 적층 세라믹 커패시터는 단수 또는 복수개가 포함되는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템
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참조광의 위상을 변화시키는 엑추에이터를 적층 세라믹 커패시터로 이용하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 일면에는 위상변화미러가 결합되는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법에 있어서,상기 적층 세라믹 커패시터에 제1전압을 인가하여 오브젝트의 제1홀로그램을 획득하는 단계; 및상기 적층 세라믹 커패시터에 상기 제1전압과 상이한 제2전압을 인가하여 오브젝트의 제2홀로그램을 획득하는 단계를 포함하되,상기 제1전압은 제2전압보다 더 낮고,참조광의 위상변화에 필요한 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량을 산출하고, 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피변화량에 필요한 전압을 상기 적층 세라믹 커패시터에 공급하여 상기 적층 세라믹 커패시터의 부피를 변화시켜 상기 위상변화미러를 이동시켜서 참조광의 위상을 변화시키는 것을 특징으로 하는 디지털 홀로그래피 시스템의 제어방법
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