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그래핀을 포함하는 제1 도전층을 준비하는 단계; 및상기 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 포함하는 제2 도전층을 배치하는 단계를 포함하고,상기 제2 도전층을 배치하는 단계는상기 제1 도전층 상에 금속 나노와이어를 도포하여 예비 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 예비 코팅층에 압력 및 광(light)을 동시에 가하여 상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는광원이 내부에 배치되어 있는 제1 투명 롤러를 이용하여 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는상기 제1 투명 롤러를 커버하는 차광막을 배치한 후 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노와이어를 용접하는 단계는상기 금속 나노와이어 상호 간의 접합 부분이 융착되는 단계인 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 도전층을 준비하는 단계는제1 롤러에 감겨 있는 상기 제1 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 도전층을 배치하는 단계 이후에상기 제2 도전층이 배치된 상기 제1 도전층이 제2 롤러에 감겨지는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 도전층을 준비하는 단계는베이스 기판 상에 상기 제1 도전층을 배치하는 단계를 포함하고,상기 제1 도전층을 배치하는 단계는제1 롤러에 감겨 있는 상기 제1 도전층이 풀려 나오는 제1 단계; 및제3 롤러에 감겨 있는 베이스 기판이 풀려 나오는 제2 단계를 포함하며,상기 제1 단계 및 상기 제2 단계는 동시에 수행되는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 도전층은 다층 구조를 갖는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 도전층 상에 그래핀을 포함하는 제3 도전층을 배치하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 제3 도전층을 배치하는 단계는제4 롤러에 감겨 있는 상기 제3 도전층이 풀려 나오는 단계를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제9항에 있어서,상기 제3 도전층은 다층 구조를 갖는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 예비 코팅층을 용액조(chemical bath)에 침지시켜 상기 금속 나노와이어를 화학적 용접(chemical welding)하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 용액조는 NaCl, NaBr, NaI, KCl, FeCl2, AlCl3, MgCl2, CaCl2, NH4F, 또는 이들의 조합을 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 용액조는 극성 용매를 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제12항에 있어서,상기 금속 나노와이어를 화학적 용접하는 단계 이후에상기 예비 코팅층을 수조에 침지시켜 세척하는 단계를 더 포함하는 것인 투명 전극의 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노와이어는 은 나노와이어인 것인 투명 전극의 제조 방법
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