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역 에프 형태의 안테나 장치에 있어서,기판의 적어도 일면에 형성되어 방사할 신호를 급전 받고, 상기 급전 받은 신호를 방사하는 방사부;상기 기판의 일면에 형성되어 상기 방사부를 접지하는 접지부; 및상기 기판의 타면에 형성되고, 미리 설정된 주파수에서 상기 급전된 신호의 위상을 조절하도록 기 설정된 간격으로 반복 배치되는 인공자기도체; 를 포함하며,상기 인공자기도체는 상기 기판의 타면에서 미리 결정된 거리만큼 이격되어 배치되는 전기 용량성 소자, 상기 전기 용량성 소자와 상기 접지부를 전기적으로 연결하는 비아, 및 상기 전기 용량성 소자 양측에 형성되어 상기 전기 용량성 소자와 상기 비아를 전기적으로 연결하는 연결부를 포함하고, 상기 전기 용량성 소자, 상기 연결부 및 상기 비아는 하나의 폐회로로 연결되고, 상기 인공자기도체는 상기 연결된 폐회로를 이용하여 상기 급전된 신호의 위상을 조절하며,상기 폐회로의 공진 주파수는 서로 다른 폐회로에 포함된 인접한 비아 사이의 거리를 고려하여 설정되는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제1항에 있어서,상기 방사부와 상기 접지부를 전기적으로 상호 연결시키는 급전부; 를 더 포함하고,상기 방사부는 상기 급전부를 통하여 상기 방사할 신호를 급전 받는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제1항에 있어서, 상기 방사부 및 상기 접지부는 상기 기판의 적어도 일면에 미리 코팅된 전도체를 에칭하여 형성되고, 상기 미리 설정된 주파수는 상기 인공자기도체의 전기적 성질에 따른 공진 주파수로 마련되는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제2항에 있어서, 상기 접지부는상기 기판에서 상기 방사부와 동일면에 전도체로 형성되고, 상기 급전부 및 상기 방사부에 포함된 적어도 하나의 방사 부재와 전기적으로 연결되어 접지되는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제2항에 있어서, 상기 인공자기도체는상기 기판에 마련되어 상기 기판을 관통하여 상기 접지부까지 연결되는 비아 홀을 통하여 상기 기판에 고정되고,상기 방사부에 인접한 상기 접지부의 가장자리에서 배치되어 상기 급전된 신호의 위상을 조절하는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제2항에 있어서, 상기 방사부는일단이 상기 급전부에 연결되는 제1암, 상기 제1암의 타단에서 상기 제1암의 양측으로 연장되는 제2암 및 상기 제2암의 상기 제1암과 연결된 단부와 반대 단부에서 절곡 연장되어 상기 제1암과 소정의 간격을 두고 형성되는 제3암을 포함하고,상기 제1암, 상기 제2암 및 상기 제3암을 통하여 상기 급전된 신호를 방사하는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제8항에 있어서, 상기 제2암은 상기 접지부와 수평으로 대향되고, 상기 제1암 및 상기 제3암과 연결되는 단부의 폭이 서로 다르게 형성되며, 상기 제1암의 양측으로 연장되되 상기 형성된 제3암의 반대측으로 더 길게 연장되는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제7항에 있어서, 상기 비아는상기 비아 홀 내부에 구조적으로 체결되어 상기 전기 용량성 소자와 상기 접지부를 전기적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제2항에 있어서, 상기 비아는상기 연결부 각각으로부터 상기 기판을 관통하여 상기 접지부에 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제3항에 있어서, 상기 방사부에서 방사된 신호는 전류 신호를 포함하고, 상기 방사된 신호의 주파수는 상기 공진 주파수와 동일한 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제13항에 있어서, 상기 인공자기도체는상기 공진 주파수에서 상기 방사부의 적어도 일부 및 상기 방사부에 인접한 상기 접지부의 가장자리의 적어도 일부에 흐르는 전류 신호의 위상을 동일하게 조절하는 것을 특징으로 하는 안테나 장치
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제1항에 있어서,상기 방사부의 일면에 형성된 기판을 더 포함하는 안테나 장치
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