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플라즈마 발생부(400);상기 플라즈마 발생부(400)로 마이크로웨이브를 전송하는 마이크로웨이브 발생부(200); 상기 플라즈마 발생부(400)에 플라즈마 소스 가스를 주입하는 플라즈마 소스 가스 주입부(600);상기 플라즈마 발생부(400)로 마이크로웨이브를 전송하기 위한 마이크로웨이브 전송라인(300); 및상기 플라즈마 발생부(400)에 구비되어, TE10 모드의 상기 마이크로웨이브 전송라인(300) 종단부에 구비되어 자기장을 유도하고, 유도된 상기 자기장이 중심부에 전기장을 유도하여 플라즈마를 발생시키는 TM0m0모드로 변환하는 원형 공진기(410);를 포함하되, 상기 플라즈마 발생부(400)에중심에 배치되는 중심전극을 포함하고 상기 TE10 모드에 의해 유입되는 전자파가 상기 중심전극의 팁에서 전기장이 유도됨에 따라 플라즈마를 발생시키는 동축모드로 변환하는 동축선 공진기(430)가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서,상기 플라즈마 발생부(400)에상기 TE10 모드 및 상기 TM0m0모드의 상호작용, 또는 상기 TE10 모드, 상기 TM0m0모드, 및 상기 동축모드의 상호작용에 의해 발생된 플라즈마가 전자파를 모두 흡수하여 손실(loss)없이 플라즈마 발생이 가능하도록 TM01모드의 원형 도파관(420)이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서, 상기 플라즈마 발생부(400)는외부의 점화부(800)에 의해 점화되어 유도된 전기장에 의해 플라즈마를 발생시키는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서,상기 플라즈마 발생부(400)는 상기 마이크로웨이브 발생부(200)에서 발생하는 메인 마이크로웨이브에 의해 방전 전압이 형성되어 자연점화로 플라즈마를 발생시키는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 3항에 있어서, 상기 원형 도파관(420)은 탄화수소체 연료, 재료 분말에 해당되는 피처리물을 주입할 수 있는 지지체로 작용하는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서,상기 원형 공진기(410)의 직경(Df)은 특정주파수에 대한 공명주파수일 때의 직경(D0) 보다 작게 형성되는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 3항에 있어서,상기 원형 도파관(420)에 별도의 전자파 소스를 설치하여 전자파를 추가 유입시켜, 상기 원형 공진기(410)로부터 유입되는 플라즈마에 TM01모드의 전자파 에너지를 공급하여 볼륨을 확대하는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서,상기 동축선 공진기(430)는 플라즈마 소스 가스를 스월형태로 주입하는 상기 플라즈마 소스 가스주입부(600)의 기능을 동시에 수행하는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 9항에 있어서,상기 동축선 공진기(430)는스월가스와 별도로 플라즈마의 길이(젯형태)를 길게하여 상기 원형 공진기(410) 내부로 점화용 플라즈마를 유입시키는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항에 있어서,상기 동축선 공진기(430)의 상기 중심전극 팁에서 발생한 플라즈마가 상기 원형 공진기(410) 안으로 유입되고, 상기 전자파가 상기 원형 공진기(410)의 플라즈마에 의해 모두 흡수되는 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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제 2항 또는 제 3항에 있어서,상기 원형 공진기(410)에 의해 변환되는 상기 TM0m0 모드에서 상기 m은 양의 정수인 것을 특징으로 하는 전자파 플라즈마 토치
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