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원형 고리 형상이고, 상기 원형 고리형상의 원주방향을 따라 소정의 패턴으로 연속된 슬릿 및 상기 슬릿의 주변에서 상기 원주방향을 따라 배열되어 서로 대향하는 제1, 제2 자석들을 포함하는 환형 안테나;상기 슬릿에 전자기파를 공급하도록 상기 환형 안테나에 전자기파 커플링되어 있는 도파관; 및상기 환형 안테나 내부의 직경보다 작은 직경을 갖고 상기 환형 안테나와 동축상에 배치되어 환형 안테나 내부에 대향하는 타겟, 상기 타겟의 배면의 가운데에 위치한 코어자석 및 상기 코어자석의 주변에서 상기 코어자석을 에워싸도록 배치된 하나 이상의 주변자석을 포함하는 스퍼터장치를 포함하고,상기 제1 자석들은 상기 원형 고리 형상의 제1 안쪽가장자리원을 따라 배열되고 상기 제2 자석들은 상기 원형 고리 형상의 제2 안쪽가장자리원을 따라 배열되어 상기 슬릿의 연장방향을 가로지르는 제1 자기장을 형성하고,상기 코어자석 및 주변자석은 상기 환형 안테나 내부에 대향하는 타겟의 표면에 제2 자기장을 형성하고,상기 주변자석은 상기 제1 자석들 또는 제2 자석들과 근접하여 상기 제1 자기장 및 제2 자기장과 연속되는 제3 자기장을 형성하는 것을 특징으로 하는,마이크로웨이브 대전류 금속이온원
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제1항에 있어서,상기 스퍼터장치는 상기 타겟, 코어자석 및 주변자석을 수용하는 수용부; 및상기 타겟 및 수용부에 전원을 인가하는 전원공급부를 포함하고,상기 전원공급부는 직류전원(DC) 또는 고주파전원(RF)을 이용한 전원을 상기 타겟에 인가하도록 구성되는 것을 특징으로 하는,마이크로웨이브 대전류 금속이온원
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제1항에 있어서,상기 마이크로웨이브 대전류 금속이온원은,상기 환형 안테나 및 상기 스퍼터장치의 타겟, 코어자석 및 주변자석을 내부에 수용하며, 내부가 진공인 진공챔버; 및상기 스퍼터장치의 위치의 반대편에서 상기 진공챔버의 측면으로부터 상기 진공챔버와 멀어지는 방향으로 순차적으로 배열된 둘 이상의 전극들을 더 포함하고, 각각의 전극은 내부공간을 갖는 콘 형상이고 콘 형상의 첨단부는 개구가 형성되어 상기 진공챔버 및 각각의 전극은 서로 유체소통 가능하게 연결되어 있고,상기 순차적으로 배열된 전극들은 그 배열 순서에 따라 상기 진공챔버에 주어지는 전압으로부터 점차 감소하는 전압이 인가되는 것을 특징으로 하는,마이크로웨이브 대전류 금속이온원
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제3항에 있어서,상기 순차적으로 배열된 전극들 중 맨 끝 전극의 앞단에 배치되고 상기 맨 끝 전극보다 낮은 전압이 인가되는 추가의 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로웨이브 대전류 금속이온원
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제3항에 있어서,상기 순차적으로 배열된 전극들 중 맨 끝 전극 후단에 배치되고 상기 맨 끝 전극보다 낮은 전압이 인가되는 제1 추가의 전극; 및상기 제1 추가의 전극 후단에 배치되고 상기 맨 끝 전극과 같거나 작고 제1 추가의 전극보다 큰 전압이 인가되는 제2 추가의 전극을 더 포함하는 것을 특징으로 하는,마이크로웨이브 대전류 금속이온원
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