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진공챔버;원통형 도파관으로서, 상기 원통형 도파관의 길이방향에 대해 소정의 각도로 기울어져 있고 원통의 길이방향을 따라 각각 일정 거리 이격되어 배열되는 다수의 슬롯을 포함하는 원통형 도파관;상기 원통형 도파관의 외면에 밀착하는 실링층을 형성하되, 상기 원통형 도파관 내부와 이의 외부인 진공챔버의 압력차를 견딜 수 있는 두께로 실링된 유전체층; 및상기 원통형 도파관의 양단으로 전자파를 공급하는 제1 및 제2 마그네트론을 포함하고,상기 원통형 도파관은 상기 슬롯 및 유전체층이 상기 진공챔버의 내부에 위치하도록 상기 진공챔버 내에 삽입된 것을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 원통형 도파관의 양단에 위치하고 전자파 소통 가능하게 각각 연결되며, 직각도파관의 모드를 원통형 도파관 모드를 전화시키는 제1 및 제2 모드컨버터; 및상기 제1 및 제2 모드컨버터와 상기 제1 및 제2 마그네트론 사이에 전자파 소통가능하게 각각 연결된 제1 및 제2 직각도파관을 더 포함하고,상기 제1 및 제2 마그네트론은 상기 제1 및 제2 직각도파관으로 전자파를 제공함을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 슬롯은 λg/2 파장의 배수 거리만큼 서로 이격되어 있음을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제3항에 있어서,상기 슬롯은 상기 원통형 도파관의 길이방향에 45도 내지 90도 사이의 각을 이룸을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 및 제2 직각도파관은 TE10 도파관이고,상기 제1 및 제2 모드컨버터는 TE10에서 TE11모드로의 전환을 위한 컨버터이며,상기 원통형도파관은 TE11 도파관임을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제1항에 있어서,상기 원통형 도파관은 상기 진공챔버 상단을 가로 방향으로 관통하고, 상기 슬롯들이 상기 진공챔버의 내부에서 상기 진공챔버의 하단을 향하도록 설치된,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제6항에 있어서,상기 진공챔버 내부에 위치한 상기 슬롯 주위에 플라즈마가 형성됨을 특징으로 하는, 챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제6항에 있어서,상기 플라즈마 처리 장치는 롤투롤 장치임을 특징으로 하는,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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제8항에 있어서,상기 원통형 도파관은 둘 이상이 상기 진공챔버의 상단에 병렬로 롤투롤 진행방향으로 설치된,챔버 내부에서 전자파를 방출하여 플라즈마를 생성하는 플라즈마 처리 장치
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