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나노다이아몬드 또는 나노다이아몬드 복합체에 대기압 O2 플라즈마를 가열 없이 처리함으로써 상기 나노다이아몬드에 포함된 비-나노다이아몬드 성분을 선택적으로 제거하는 단계;를 포함하고, 상기 O2 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량은 1%인나노다이아몬드의 정제 방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노다이아몬드 복합체는, 펠렛, 벌크, 나노 박막, 또는 필름 형태를 가지는 나노다이아몬드 복합체를 포함하는 것인, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제 1 항에 있어서,상기 나노다이아몬드 복합체는 나노다이아몬드 및 고분자 물질을 동시에 함유하는 것을 포함하는 것인, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제3항에 있어서, 상기 고분자 물질은 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리아크릴산, 폴리（메틸메타크릴레이트) 및 폴리스티렌으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것인, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 비-나노다이아몬드 성분은 그래파이트 또는 비결정성 탄소를 포함하는 것인, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제 1 항에 있어서,상기 비-나노다이아몬드 성분이 상기 O2 플라즈마에 의해 발생되는 활성 산소에 의해 선택적으로 제거되는 것을 포함하는 것인, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제1항에 있어서, 상기 O2 플라즈마 발생을 위한 입력 전압은 2kV 이상인 것을 특징으로 하는, 나노다이아몬드의 정제 방법
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제 1 항에 있어서,상기 O2 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량을 0
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1) 나노다이아몬드에 안정화제를 첨가하는 단계; 2) 초음파를 조사하여 분산시켜 분산 용액을 얻는 단계; 3) 분산용액에 고분자를 첨가하고 교반하는 단계;4) 나노다이아몬드 고분자 복합체를 포함하는 박막을 제조하는 단계;5) 상기 박막에 대기압 산소 플라즈마를 가열 없이 처리하는 단계; 를 포함하고,상기 산소 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량은 1%인 나노다이아몬드 고분자 박막의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 고분자는 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리아크릴산, 폴리（메틸메타크릴레이트) 및 폴리스티렌으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 나노다이아몬드 고분자 박막의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 안정화제는 SDS(sodium dodecyl sulfate), SDBS(sodium dodecylbenzenesulfonate 트리톤 X-100, 트리톤 X-114만니톨, 락토스, 소르비톨, 크실리톨, 수크로스, 트레할로스, 만노스, 말토스, 락토스, 글루코스, 라피노스, 셀로비오스, 겐티오비오스, 이소말토스, 아라비노스, 글루코사민, 프록토오스, 트윈-20, 트윈-80 및 이들 안정화제의 조합물로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는, 나노다이아몬드 고분자 박막의 제조 방법
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이동 스테이지 상에 나노다이아몬드를 함유하는 나노다이아몬드 복합체 필름을 위치시키는 단계; 및상기 나노다이아몬드 복합체 필름에 팁-노즐을 통해 발생되는 대기압 O2 플라즈마를 가열 없이 국지적으로 처리함으로써 상기 나노다이아몬드 복합체 필름 상에 패턴을 형성하는 단계; 를 포함하고, 상기 O2 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량은 1%인 나노다이아몬드 패턴의 형성 방법
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제 18 항에 있어서,상기 패턴의 굵기는 상기 팁-노즐의 내부 지름에 따라 조절되는 것을 포함하는 것인, 나노다이아몬드 패턴의 형성 방법
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제 18 항에 있어서,상기 패턴의 모양은 상기 이동 스테이지를 이동시킴으로써 조절되는 것을 포함하는 것인, 나노다이아몬드 패턴의 형성 방법
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나노다이아몬드를 함유하는 나노다이아몬드 복합체에 대기압 O2 플라즈마를 가열 없이 처리하는 단계; 를 포함하고,상기 O2 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량은 1%인나노다이아몬드 복합체의 전기전도도를 감소시키는 방법
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나노다이아몬드를 함유하는 나노다이아몬드 복합체에 대기압 O2 플라즈마를 가열 없이 처리하는 단계; 를 포함하고, 상기 O2 플라즈마를 위한 캐리어 가스 대비 산소 가스의 유량은 1%인 나노다이아몬드 복합체의 열전도율을 향상시키는 방법
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