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나노 구멍이 형성된 교정 시편;상기 교정 시편을 틸팅 가능한 고니어미터; 및상기 나노 구멍의 투영 면적에 기초하여 상기 교정 시편의 실제 틸팅 각도를 측정 가능한 제어부를 포함하고,상기 교정 시편은,시료를 지지하기 위한 플레이트; 및상기 플레이트 상에 도포되고 상기 나노 구멍을 구비한 필름을 포함하는 투과 전자 현미경
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2
제 1 항에 있어서,상기 제어부는, 요구 틸팅 각도를 포함하는 틸팅 명령을 수신하여, 상기 요구 틸팅 각도 및 상기 실제 틸팅 각도 사이의 틸팅 오차를 산출 가능한 투과 전자 현미경
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제 2 항에 있어서상기 제어부는 상기 틸팅 오차에 기초하여 상기 고니어미터를 추가로 작동시키는 투과 전자 현미경
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나노 구멍이 형성된 교정 시편;상기 교정 시편을 틸팅 가능한 고니어미터; 및상기 나노 구멍의 투영 면적에 기초하여 상기 교정 시편의 실제 틸팅 각도를 측정 가능한 제어부를 포함하고,상기 제어부는, 요구 틸팅 각도를 포함하는 틸팅 명령을 수신하여, 상기 요구 틸팅 각도 및 상기 실제 틸팅 각도 사이의 틸팅 오차를 산출 가능하고,상기 제어부는 상기 틸팅 오차에 기초하여 상기 고니어미터를 추가로 작동시키고,상기 제어부는 상기 틸팅 오차를 저장 가능한 저장부를 포함하고,상기 제어부는 새로운 틸팅 명령이 입력될 경우, 미리 저장된 상기 틸팅 오차에 기초하여 상기 고니어미터를 작동시키는 투과 전자 현미경
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5
제 1 항에 있어서,상기 제어부는 암시야상 방법으로 상기 나노 구멍의 투영 면적을 측정 가능한 투과 전자 현미경
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삭제
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7
제 1 항에 있어서,상기 나노 구멍은 상기 플레이트의 수직한 방향으로 형성되는 원기둥 형상인 투과 전자 현미경
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8
제 7 항에 있어서,상기 나노 구멍의 높이는 일정한 투과 전자 현미경
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9
제 1 항에 있어서,상기 교정 시편은,상기 필름 상에 도포되고, 상기 나노 구멍이 위치된 지점을 길이 방향으로 통과하는 라인을 구비하는 코팅 레이어를 더 포함하는 투과 전자 현미경
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10
제 9 항에 있어서,상기 라인이 형성된 곳에서 상기 코팅 레이어의 두께는, 상기 라인이 형성되지 않은 곳에서 상기 코팅 레이어의 두께보다 작은 투과 전자 현미경
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11 |
11
제 10 항에 있어서,상기 코팅 레이어는,상기 라인을 따라 일정 간격으로 형성되는 복수 개의 눈금을 포함하는 투과 전자 현미경
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12
제 9 항에 있어서,상기 코팅 레이어의 소재는 금(gold)인 투과 전자 현미경
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13
제 1 항에 있어서,상기 제어부는 상기 교정 시편의 실제 틸팅 각도를 아래의 수학식 1 및 수학식 2에 기초하여 결정하는 투과 전자 현미경
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14
교정 시편에 나노 구멍을 형성하는 단계;상기 교정 시편을 틸팅하는 단계; 및상기 나노 구멍의 투영 면적에 기초하여 상기 교정 시편의 실제 틸팅 각도를 측정하는 단계를 포함하고,상기 교정 시편은,시료를 지지하기 위한 플레이트; 및상기 플레이트 상에 도포되고 상기 나노 구멍을 구비한 필름을 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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15
제 14 항에 있어서,상기 교정 시편을 틸팅하는 단계는,요구 틸팅 각도를 포함하는 틸팅 명령을 입력받는 단계; 및고니어미터가 상기 요구 틸팅 각도에 기초하여 상기 교정 시편을 작동시키는 단계를 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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제 15 항에 있어서,상기 실제 틸팅 각도 및 요구 틸팅 각도 사이의 틸팅 오차를 산출하는 단계를 더 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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17
제 16 항에 있어서,상기 틸팅 오차에 기초하여 상기 고니어미터를 추가로 작동시키는 단계를 더 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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제 17 항에 있어서,상기 틸팅 오차를 저장하는 단계를 더 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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제 14 항에 있어서,상기 교정 시편 상에 상기 나노 구멍의 위치를 표시하기 위한 라인을 구비하는 코팅 레이어를 도포하는 단계를 더 포함하는 틸팅 각도 제어 방법
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