| 1 |
1
복수의 렌즈를 포함하고,각각의 상기 복수의 렌즈는 나노패턴이 형성된 코팅층을 포함하는 것이고,상기 코팅층은, 각각의 상기 복수의 렌즈 굴절률 기준 ± 10% 범위의 굴절률을 가지는 것이며,450 nm 내지 1600 nm의 파장 범위에서 평균 70 % 이상의 투과율을 가지고,450 nm 내지 1000 nm의 파장 범위에서 80 % 이상의 투과율을 가지고,1000 nm 내지 1600 nm의 파장 범위에서 60% 이상의 투과율을 가지는 것이며,상기 코팅층은 단일 물질로 구성되는 것이고,상기 나노패턴은, 원기둥 및 포물기둥으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 반복 배열을 포함하는 것이며,상기 나노패턴의 높이 및 주기는, 각각, 100 nm 내지 600 nm인 것인,광대역 대물렌즈
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 코팅층은,반사방지 코팅층인 것인,광대역 대물렌즈
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
삭제
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 나노패턴은,허니컴 구조를 포함하는 것인,광대역 대물렌즈
|
| 6 |
6
제1항에 있어서,상기 코팅층은, 실리콘옥사이드, 티타늄옥사이드, 알루미늄옥사이드, 탄탈륨옥사이드, 실리콘나이트라이드, 및 마그네슘플로라이드로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 어느 하나를 포함하는 것인,광대역 대물렌즈
|
| 7 |
7
제1항에 있어서,상기 코팅층은,굴절률이 1
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
복수의 렌즈 표면 각각에 단일 공정으로 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 코팅층에 나노패턴을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 복수의 렌즈 표면 각각에 단일 공정으로 코팅층을 형성하는 단계는,상기 코팅층으로서 사용되는 단일 물질을 선정한 후, 상기 단일 물질을 포함하는 용액을 준비하는 단계; 및상기 복수의 렌즈를 상기 단일 물질을 포함하는 용액에 담가 상기 복수의 렌즈에 코팅층을 형성하는 단계;를 포함하는 것인,제1항, 제2항, 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항의 광대역 대물렌즈의 제조 방법
|
| 11 |
11
삭제
|
| 12 |
12
삭제
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,상기 코팅층에 나노패턴을 형성하는 단계는,상기 코팅층에 나노 입자를 형성하는 단계; 상기 나노 입자가 형성된 코팅층을 식각하는 단계; 및상기 코팅층에 형성된 나노 입자를 제거하는 단계;를 포함하고, 상기 나노 입자의 크기는 30 nm 내지 300 nm인 것인,광대역 대물렌즈의 제조 방법
|
