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플라즈마 챔버의 진공 포트의 플랜지에 장착되고 플라즈마 방출 광을 투과시키고 복수의 각주파수의 정현파 전압에 의하여 구동되는 부유 탐침을 포함하는 유전체 창문부; 및상기 플랜지와 상기 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 스월유동 제공부;를 포함하고,상기 유전체 창문부는:투명한 재질의 유전체 창문 몸체; 및외부의 전기 회로와 연결되고 상기 플라즈마 챔버의 내부를 바라보도록 배치되고 상기 유전체 창문 몸체의 일면 상에 배치되고 상기 부유 탐침의 전극으로 동작하는 패턴 전극;을 포함하고,상기 유전체 창문부는 상기 패턴 전극을 덮도록 배치된 유전체층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 스월유동 제공부는:사각형 단면을 가지는 토로이달 형상을 가지는 스월 유동 몸체부; 토로이달 형상을 가지고 상기 스월 유동 몸체부 내에 매설되고 외부로부터 공급되는 가스를 저장하는 버퍼부; 및상기 버퍼부의 원주 상에 일정한 간격으로 배치되어 토출되는 가스에 방위각 성분의 속도를 제공하는 복수의 노즐부를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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플라즈마 챔버의 진공 포트의 플랜지에 장착되고 플라즈마 방출 광을 투과시키고 복수의 각주파수의 정현파 전압에 의하여 구동되는 부유 탐침을 포함하는 유전체 창문부; 및상기 플랜지와 상기 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 스월유동 제공부;를 포함하고,상기 유전체 창문부는:투명한 재질의 유전체 창문 몸체; 및외부의 전기 회로와 연결되고 상기 플라즈마 챔버의 내부를 바라보도록 배치되고 상기 유전체 창문 몸체의 일면 상에 배치되고 상기 부유 탐침의 전극으로 동작하는 패턴 전극;을 포함하고,상기 패턴 전극은 투명 전도성 금속산화물인 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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플라즈마 챔버의 진공 포트의 플랜지에 장착되고 플라즈마 방출 광을 투과시키고 복수의 각주파수의 정현파 전압에 의하여 구동되는 부유 탐침을 포함하는 유전체 창문부; 및상기 플랜지와 상기 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 스월유동 제공부;를 포함하고,상기 유전체 창문부는:투명한 재질의 유전체 창문 몸체; 및외부의 전기 회로와 연결되고 상기 플라즈마 챔버의 내부를 바라보도록 배치되고 상기 유전체 창문 몸체의 일면 상에 배치되고 상기 부유 탐침의 전극으로 동작하는 패턴 전극;을 포함하고,상기 패턴 전극은 원형 와셔 형상인 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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제1 항에 있어서,상기 플라즈마 챔버의 보조 진공 포트의 보조 플랜지에 장착되고 상기 유전체 창문부를 마주보도록 배치된 보조 유전체 창문부;상기 보조 플랜지와 상기 보조 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 보조 스월유동 제공부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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제6 항에 있어서,상기 유전체 창문부를 바라보고 상기 플라즈마 챔버의 외부에 배치된 렌즈부; 상기 보조 유전체 창문부를 바라보고 상기 플라즈마 챔버의 외부에 배치된 보조 렌즈부; 상기 보조 렌즈부를 통하여 자외선 영역의 광대역 광을 플라즈마에 제공하는 광원부; 및상기 렌즈부를 통하여 수집된 광대역 광의 흡수 스펙트럼을 분석하는 분광기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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플라즈마 챔버의 진공 포트의 플랜지에 장착되고 플라즈마 광을 투과시키는 투명한 재질의 유전체 창문부; 상기 플랜지와 상기 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 스월유동 제공부; 및상기 유전체 창문부의 일면 상에 배치되고 부유 탐침의 전극으로 동작하는 패턴 전극을 포함하는 유연성 인쇄회로 기판을 포함하고,상기 패턴 전극은 외부의 전기 회로와 연결되고 상기 플라즈마 챔버의 내부를 바라보도록 배치되고,상기 부유 탐침은 복수의 각주파수의 정현파 전압에 의하여 구동되고,상기 유연성 인쇄회로 기판은 외부 회로와 상기 패턴 전극을 전기적으로 연결하기 위한 전극 연장부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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플라즈마 챔버의 진공 포트의 플랜지에 장착되고 플라즈마 광을 투과시키는 투명한 재질의 유전체 창문부; 상기 플랜지와 상기 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 스월유동 제공부; 및상기 유전체 창문부의 일면 상에 배치되고 부유 탐침의 전극으로 동작하는 패턴 전극을 포함하는 유연성 인쇄회로 기판을 포함하고,상기 패턴 전극은 외부의 전기 회로와 연결되고 상기 플라즈마 챔버의 내부를 바라보도록 배치되고,상기 부유 탐침은 복수의 각주파수의 정현파 전압에 의하여 구동되고,상기 유전체 창문부는 중심에 돌출된 유전체 창문 돌출부를 더 포함하고,상기 유연성 인쇄회로 기판은 상기 유전체 창문 돌출부 상에 배치되는 제1 유연성 인쇄회로 기판과 상기 제1 유연성 인쇄회로 기판과 이격되어 상기 유전체 창문의 가장 자리에 배치되는 제2 유연성 인쇄호로 기판을 포함하고,상기 제1 유연성 인쇄회로 기판은 중심에 개구부를 가지고 상기 패턴 전극을 가지고,상기 제2 유연성 인쇄회로 기판은 상기 패턴 전극과 전기적으로 연결되고 외부 회로와 상기 패턴 전극을 전기적으로 연결하기 위한 전극 연장부를 구비하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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제8 항에 있어서,상기 플라즈마 챔버의 보조 진공 포트의 보조 플랜지에 장착되고 상기 유전체 창문부를 마주보도록 배치된 보조 유전체 창문부;상기 보조 플랜지와 상기 보조 유전체 창문부 사이에 배치되어 상기 유전체 창문부의 일면에 스윌 유동을 제공하는 보조 스월유동 제공부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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제11 항에 있어서,상기 유전체 창문부를 바라보고 상기 플라즈마 챔버의 외부에 배치된 렌즈부; 상기 보조 유전체 창문부를 바라보고 상기 플라즈마 챔버의 외부에 배치된 보조 렌즈부; 상기 보조 렌즈부를 통하여 자외선 영역의 광대역 광을 플라즈마에 제공하는 광원부; 및상기 렌즈부를 통하여 수집된 광대역 광의 흡수 스펙트럼을 분석하는 분광기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 모니터링 장치
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