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전자빔을 생성하는 전자총;상기 전자총에서 방출된 전자빔을 시료에 조사시키는 조사 광학계; 상기 시료를 고정시키는 시료 홀더를 구비하고 이동 가능한 시료 스테이지;상기 시료에 투과된 전자빔을 확대해 주는 대물 렌즈;상기 대물 렌즈를 통과한 전자빔을 하측으로 전달하는 결상 광학계;상기 결상 광학계를 통과한 전자빔을 가시광선으로 변환하여 사용자에게 시료 이미지를 제공하는 형광 스크린;상기 형광 스크린에서 가시광선으로 변환된 상기 시료 이미지를 수집하는 이미징 장치;상기 이미징 장치에 수집된 시료 이미지에 기준 관심 영역 및 기준 패턴을 지정할 수 있는 입력부;상기 기준 패턴에 기초하여 상기 이미징 장치에 수집된 시료 이미지의 패턴을 인식하여 이미지 보정을 수행하는 제어부; 및상기 제어부에서 보정된 이미지를 출력하는 디스플레이를 포함하고,상기 입력부는 상기 디스플레이 상의 좌표계를 기준으로 시료 이미지의 위치를 조절할 수 있는 조절 신호를 사용자로부터 입력받을 수 있고,상기 제어부는,상기 기준 관심 영역 내에 설정된 기준 패턴의 중심에 해당하는 초기 좌표 및 기준 패턴의 스케일을 측정하는 기준 파라미터 측정부;상기 기준 패턴을 이용하여 상기 이미징 장치로부터 수집된 시료 이미지에서 기준 패턴과 대응하는 측정 패턴을 추적하여 매칭하는 패턴 매칭부;상기 패턴 매칭부를 통해 매칭된 상기 측정 패턴의 중심에 해당하는 측정 좌표, 회전각 및 측정 패턴의 스케일을 산출하는 매칭 파라미터 측정부;상기 기준 파라미터 측정부 및 매칭 파라미터 측정부에서 측정된 데이터를 바탕으로 측정 좌표를 기준으로 목표 관심 영역을 설정하는 목표 관심 영역 설정부;설정된 상기 목표 관심 영역의 시료 이미지를 생성하여 상기 디스플레이로 전달하는 이미지 생성부;상기 조절 신호를 상기 시료 이미지 상의 좌표계로 변환하여 조절 변환 신호를 형성하는 좌표 변환부;상기 좌표 변환부에서 출력되는 조절 변환 신호를 상기 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지로 인가되는 제어 신호로 변환하는 신호 변환부; 및상기 신호 변환부에서 변환된 제어 신호를 통해 상기 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지를 제어하는 보정부를 포함하는 투과전자현미경 장치
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제 1 항에 있어서,상기 제어부는상기 목표 관심 영역 설정부에서 설정한 목표 관심 영역이 상기 이미징 장치에서 측정한 시료 이미지의 프레임을 벗어나는 경우, 상기 조사 광학계, 시료 스테이지 또는 결상 광학계를 제어하여 상기 측정 패턴의 측정 좌표가 기준 패턴의 초기 좌표와 일치 하도록 상기 시료 이미지를 이동시키는 보정부를 더 포함하는 투과전자현미경 장치
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시료를 투과한 전자빔이 형광 스크린을 통해 가시광선으로 변환된 시료 이미지를 이미징 장치를 통해 수집하는 초기 영상 수집 단계;상기 이미징 장치를 통해 수집된 상기 시료 이미지에 기준 관심 영역 및 기준 패턴을 지정하는 기준 설정 단계;상기 기준 관심 영역 내에 선정된 기준 패턴의 중심에 해당하는 초기 좌표 및 기준 패턴의 스케일을 측정하는 기준 파라미터 측정 단계;상기 기준 패턴을 이용하여 상기 이미징 장치로부터 수집된 시료 이미지에서 기준 패턴과 대응하는 측정 패턴을 추적하여 매칭하는 패턴 추적 단계;상기 측정 패턴의 중심에 해당하는 측정 좌표, 회전각 및 측정 패턴의 스케일을 측정하는 매칭 파라미터 측정 단계;상기 매칭 파라미터 측정 단계에서 측정된 데이터를 바탕으로, 측정 좌표를 기준으로 목표 관심 영역을 설정하는 목표 관심 영역 설정 단계;상기 목표 관심 영역의 시료 이미지를 디스플레이로 출력하는 출력 단계;상기 패턴 추적 단계에서 상기 시료 이미지 상에서 기준 패턴과 매칭되는 패턴을 발견하였는지 여부를 확인하는 패턴 확인 단계;상기 패턴 확인 단계에서 매칭되는 패턴이 없는 경우, 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지를 조작하여 상기 시료 이미지가 생성되는 위치를 조절하는 제 1 하드웨어 조절 단계; 위치가 변경된 시료 이미지 상에서 기준 패턴과 매칭되는 패턴을 다시 추적하는 패턴 재추적 단계; 및상기 패턴 재추적 단계에서 매칭된 측정 패턴의 측정 좌표를 기준 패턴의 초기 좌표로 이동시키기 위해 상기 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지를 제어하는 제 2 하드웨어 조절 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 이미지 보정 방법
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제 5 항에 있어서,상기 제 1 하드웨어 조절 단계 및 제 2 하드웨어 조절 단계 중 어느 하나의 단계에서는, 상기 시료 스테이지를 조작하여 상기 시료 이미지가 생성되는 위치를 조절하고, 나머지 단계에서는, 상기 조사 광학계 또는 결상 광학계를 조작하여 상기 시료 이미지가 생성되는 위치를 조절하는 투과전자현미경 장치의 이미지 보정 방법
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시료를 투과한 전자빔이 형광 스크린을 통해 가시광선으로 변환된 시료 이미지를 이미징 장치를 통해 수집하는 초기 영상 수집 단계;상기 이미징 장치를 통해 수집된 상기 시료 이미지에 기준 관심 영역 및 기준 패턴을 지정하는 기준 설정 단계;상기 기준 관심 영역 내에 선정된 기준 패턴의 중심에 해당하는 초기 좌표 및 기준 패턴의 스케일을 측정하는 기준 파라미터 측정 단계;상기 기준 패턴을 이용하여 상기 이미징 장치로부터 수집된 시료 이미지에서 기준 패턴과 대응하는 측정 패턴을 추적하여 매칭하는 패턴 추적 단계;상기 측정 패턴의 중심에 해당하는 측정 좌표, 회전각 및 측정 패턴의 스케일을 측정하는 매칭 파라미터 측정 단계;상기 매칭 파라미터 측정 단계에서 측정된 데이터를 바탕으로, 측정 좌표를 기준으로 목표 관심 영역을 설정하는 목표 관심 영역 설정 단계;상기 목표 관심 영역의 시료 이미지를 디스플레이로 출력하는 출력 단계;상기 목표 관심 영역이 상기 시료 이미지의 프레임을 벗어났는지 여부를 확인하는 프레임 확인 단계;상기 프레임 확인 단계에서 상기 목표 관심 영역이 상기 시료 이미지의 프레임을 벗어나 있는 경우, 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지를 조작하여 상기 시료 이미지가 생성되는 위치를 조절하는 제 1 하드웨어 조절 단계; 위치가 변경된 시료 이미지 상에서 기준 패턴과 매칭되는 패턴을 다시 추적하는 패턴 재추적 단계; 및패턴 재추적 단계에서 매칭된 측정 패턴의 측정 좌표를 기준 패턴의 초기 좌표로 이동시키기 위해 상기 조사 광학계, 결상 광학계 또는 시료 스테이지를 제어하는 제 2 하드웨어 조절 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 이미지 보정 방법
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제 1 항에 기재된 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법에 있어서,상기 디스플레이에 출력되는 시료 이미지가 나타나는 방향에 따른 보정 좌표계를 기준으로 상기 시료 이미지의 위치를 조절하기 위한 조절 신호를 생성하는 조절 신호 입력 단계;상기 이미징 장치를 통해 상기 시료 이미지가 생성되는 방향에 따른 기준 좌표계를 기준으로 상기 조절 신호를 조절 변환 신호로 변환하는 좌표 변환 단계;상기 조절 변환 신호를 상기 시료 이미지의 위치를 조절할 수 있는 제어 신호로 변환하는 신호 변환 단계; 및상기 제어 신호를 통해 상기 시료 이미지의 위치를 조절하는 제어 신호 입력 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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제 9 항에 있어서,상기 기준 좌표계 및 보정 좌표계 사이의 좌표 변환을 수행하기 위한 좌표 변환 행렬을 생성하는 좌표 변환 준비 단계를 더 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 좌표 변환 단계는, 상기 조절 신호에 상기 좌표 변환 행렬의 역행렬을 곱함으로써 상기 조절 신호를 생성하는 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 신호 변환 단계는, 상기 조절 변환 신호를 상기 조사 광학계를 제어할 수 있는 조사 광학계 제어 신호로 변환하는 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 신호 변환 단계는, 상기 조절 변환 신호를 상기 결상 광학계를 제어할 수 있는 결상 광학계 제어 신호로 변환하는 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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제 10 항에 있어서,상기 신호 변환 단계는, 상기 조절 변환 신호를 상기 시료 스테이지를 제어할 수 있는 시료 스테이지 제어 신호로 변환하는 단계를 포함하는 투과전자현미경 장치의 시료 이미지 위치를 조절하는 방법
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