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마이크로웨이브를 공급하는 도파관; 일방향으로 긴 원통형으로 형성되고, 단부를 통하여 상기 마이크로웨이브를 공급받아 내부에 진행파(progressive wave)를 형성하는 원형도파관; 및상기 도파관과 상기 원형도파관을 직접 연결하여 상기 마이크로웨이브를 상기 원형도파관에 직접 전달하는 연결도파관;을 포함하는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 연결도파관과 상기 도파관은 상기 원형도파관의 양측에 대칭되도록 한 쌍이 구비되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 원형도파관은 일측에 길이 방향으로 적어도 하나 이상의 슬릿이 형성되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 원형도파관은수직방향으로 관통하여 슬릿이 형성되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 원형도파관은수평방향으로 관통하여 처리 대상물이 통과하는 통과공과 수직방향으로 관통하여 슬릿이 형성되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 연결도파관은상기 도파관과 연결되는 일측의 단면 형상은 사각형상이고, 상기 원형도파관과 연결되는 타측의 단면 형상은 원형상으로 형성되되, 일측에서 타측으로 갈수록 단면 넓이가 점차 넓어지는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 도파관은 튜너와 연결되고, 상기 튜너와 상기 도파관 사이에는, 상기 도파관과, 상기 연결도파관 및 상기 원형도파관의 내부를 진공상태로 유지시키면서 상기 연결도파관 및 상기 원형도파관의 내부로 상기 마이크로웨이브를 입사하는 진공창이 배치되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 원형도파관의 외주면에 배치되는 영구자석을 더 포함하는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 연결도파관과 상기 원형도파관이 내부에 수용되는 진공챔버를 더 포함하고, 상기 진공챔버 내부로 가스가 공급되고, 상기 원형도파관에 형성된 슬릿을 통해 상기 마이크로웨이브가 배출되어 상기 원형도파관의 외측에 플라즈마가 발생되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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제1항에 있어서,상기 원형도파관은내부로 가스가 공급되어 상기 원형도파관 내부에서 플라즈마가 발생되는 선형 마이크로웨이브 플라즈마 발생장치
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