| 1 |
1
전자빔 리소그래피 오버레이(overlay) 방법에 있어서,스테이지 상에 기판을 배치하는 단계;상기 기판 상에 제1 얼라인 마크(align mark) 및 제2 얼라인 마크를 표시하는 단계; 및상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크 중 적어도 하나에 기초하여 상기 스테이지를 수평 방향 및 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동시키면서 전자빔의 기준 조사면에 얼라인(align)시키는 얼라인 단계를 포함하고,상기 얼라인 단계는, 상기 스테이지를 대각선 방향으로 적어도 1회 이동하면서 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크를 상기 기준 조사면의 중심에 얼라인시키는 단계;상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크 중 적어도 하나와 상기 기준 조사면의 중심에 위치한 표시와 얼라인시키기 위해 상기 스테이지를 회전시키는 단계; 및상기 스테이지의 회전 이후에 변환된 좌표계에 기초하여 상기 스테이지를 수평 방향 또는 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동시키면서 상기 기준 조사면에 얼라인시키는 단계를 포함하는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 서로 대각선 방향으로 상기 기판의 중심에서 대칭적으로 위치하는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 3 |
3
제1항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 십자 형상을 갖는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 4 |
4
제1항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 금을 포함하는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 5 |
5
제1항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 상기 기준 조사면과의 얼라인 오차를 측정하기 위한 눈금이 표시되어 있는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
삭제
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
제1항에 있어서, 상기 얼라인 단계는 상기 기준 조사면의 회전에 의해 발생한 백 래쉬(back-lash)를 보상하기 위해 상기 스테이지를 수평 방향 또는 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동시키는 단계를 더 포함하는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 10 |
10
제1항에 있어서, 상기 기판은 중앙에 사각형 형상의 중앙 얼라인 마크를 더 포함하는 것인, 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 11 |
11
제1항에 있어서, 상기 얼라인 단계는 상기 기판의 중앙 얼라인 마크와 상기 기준 조사면의 중앙에 표시된 중앙 영역과의 얼라인시키는 단계를 포함하는 전자빔 리소그래피 오버레이 방법
|
| 12 |
12
전자빔 리소그래피 장치에 있어서,기판이 상부에 배치되도록 구성된 스테이지;상기 기판 상으로 전자빔을 조사하도록 구성된 전자빔 조사기;상기 스테이지의 수평 방향 또는 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로의 이동 및 회전을 제어하기 위한 컴퓨터; 및상기 컴퓨터의 명령에 기초하여 상기 스테이지를 이동시키기 위한 위치 제어 회로를 포함하며,상기 기판은 제1 얼라인 마크(align mark) 및 제2 얼라인 마크를 포함하고 있고,상기 스테이지가 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크 중 적어도 하나에 기초하여 수평 방향 및 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동되면서 전자빔의 기준 조사면과 얼라인(align)되도록 구성되며,상기 스테이지는 대각선 방향으로 적어도 1회 이동하면서 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크를 상기 기준 조사면의 중심에 얼라인되고, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크 중 적어도 하나와 상기 기준 조사면의 중심에 위치한 표시와 얼라인시키기 위해 상기 스테이지가 회전되고, 상기 스테이지의 회전 이후에 변환된 좌표계에 기초하여 상기 스테이지를 수평 방향 또는 수직 방향 중 적어도 하나의 방향으로 이동시키면서 상기 기준 조사면에 얼라인되도록 구성되는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 13 |
13
제12항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 서로 대각선 방향으로 상기 기판의 중심에서 대칭적으로 위치하는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 14 |
14
제12항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 십자 형상을 갖는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 15 |
15
제12항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 금을 포함하는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 16 |
16
제12항에 있어서, 상기 제1 얼라인 마크 및 상기 제2 얼라인 마크는 상기 기준 조사면과의 얼라인 오차를 측정하기 위한 눈금이 표시되어 있는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 17 |
17
제12항에 있어서, 상기 전자빔 조사기는 상기 컴퓨터와 서로 통신함으로써 상기 전자빔의 조사 방향 및 세기를 제어하는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 18 |
18
제12항에 있어서, 나노 구조체의 나노 패턴 형상과 관련된 패턴 데이터를 생성하기 위한 패턴 생성기를 더 포함하는 전자빔 리소그래피 장치
|
| 19 |
19
제12항에 있어서, 상기 기판은 상부에 레지스트가 형성되어 있는 것인, 전자빔 리소그래피 장치
|
| 20 |
20
제12항에 있어서, 상기 전자빔의 기준 조사면과 상기 기판 상에 표시된 얼라인 마크의 얼라인 여부를 확인하기 위한 디스플레이를 더 포함하는 전자빔 리소그래피 장치
|
