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리소그래피 장치의 구동부에 연결되어 이동되며, 광원부로부터 제공되는 빛을 집광시켜 기판에 조사하는 헤더로서,상기 구동부에 연결되는 몸체;상기 몸체의 일면에 제공되며 빛이 투과 가능한 지지체; 및상기 지지체에 제공되고, 빛이 입사되는 방향으로 볼록하게 형성되고, 빛이 입사되는 최외곽면에 슬릿이 형성된 하나 이상의 집광렌즈를 포함하고,상기 집광렌즈는,상기 슬릿을 형성하는 금속막; 및상기 금속막 상에 교대로 적층되는 다수 개의 유전체층들과 다수 개의 금속층들을 포함하고,상기 지지체는 상기 집광렌즈가 설치되기 위한 반원 형상의 단면을 갖는 홈을 포함하고,상기 금속막은, 크롬, 알루미늄, 은, 금, 플래티늄, 티타늄, 탄탈륨, 니켈, 아연, 구리, 코발트 중 하나의 금속 또는 그 이상이 조합된 합금이고, 상기 금속막은 상기 홈의 내측면에 밀착되고,상기 슬릿은 상기 금속막의 증착 이후, 식각을 이용한 패터닝 공정 또는 집속 이온빔 밀링 공정 또는 마스터 몰드에 의한 임프린팅 공정에 의해 형성되고,상기 유전체층 및 상기 금속층들은 상기 슬릿의 형성 이후 상기 금속막에 증착되는 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서,상기 유전체층들의 두께와 상기 금속층들의 두께의 합은 입사되는 빛의 파장보다 작은 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서,상기 유전체층들과 상기 금속층들은 소정의 파장에 대한 비등방성 메타물질을 형성하는 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서,상기 금속막은 크롬으로 형성되는 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서,상기 금속층과 상기 유전체층의 사이에는 상기 금속층을 이루는 금속과 표면 상호작용할 수 있는 표면 반응층이 제공되는 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서,상기 유전체층은 실리콘(Si)이고 상기 금속층은 은(Ag)인 리소그래피 장치용 헤더
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제 1 항에 있어서, 상기 집광렌즈의 빛이 방출되는 후면에 형성되는 오목부는 광투과성 물질로 채워지는 리소그래피 장치용 헤더
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리소그래피 장치의 구동부에 연결되어 이동되며, 광원부로부터 제공되는 빛을 집광시켜 기판에 조사하는 헤더의 제조방법으로서,지지체에 하나 이상의 홈을 형성하는 제1 단계;상기 홈에 금속막을 증착하는 제2 단계;상기 금속막에 슬릿을 형성하는 제3 단계; 및상기 슬릿이 형성된 금속막에 다수 개의 유전체층들과 다수 개의 금속층들을 교대로 적층하여, 빛이 입사되는 방향으로 볼록하게 형성되는 집광렌즈를 형성하는 제4 단계를 포함하고, 상기 지지체는 상기 집광렌즈가 설치되기 위한 반원 형상의 단면을 갖는 홈을 포함하고,상기 금속막은, 크롬, 알루미늄, 은, 금, 플래티늄, 티타늄, 탄탈륨, 니켈, 아연, 구리, 코발트 중 하나의 금속 또는 그 이상이 조합된 합금이고, 상기 금속막은 상기 홈의 내측면에 밀착되고,상기 슬릿은 상기 금속막의 증착 이후, 식각을 이용한 패터닝 공정 또는 집속 이온빔 밀링 공정 또는 마스터 몰드에 의한 임프린팅 공정에 의해 형성되고,상기 유전체층 및 상기 금속층들은 상기 슬릿의 형성 이후 상기 금속막에 증착되는리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 홈 이외의 부분에 형성된 상기 금속막과 상기 유전체층과 상기 금속층을 그라인딩하는 제5 단계를 더 포함하는 리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 집광렌즈가 형성된 상기 지지체를 상기 구동부에 결합되어 이동되는 몸체에 결합하는 제6 단계를 더 포함하는 더 포함하는 리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 금속막은 크롬 소재인 리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 집광렌즈에 조사되는 빛은 가시광선 영역의 파장대를 갖고,상기 슬릿은 30nm 내지 50nm인 리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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제 14 항에 있어서,상기 유전체층은 실리콘(Si)이고 상기 금속층은 은(Ag)인 리소그래피 장치용 헤더의 제조방법
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