1 |
1
하기 구조식 1로 표시되는 전도성 고분자
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 전도성 고분자는 정공 전달 물질인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 전도성 고분자는 D-A (Donor-Acceptor) 타입의 고분자인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자
|
4 |
4
제1항에 있어서,상기 구조식 1에서 m 및 p는 2이고, n 및 q는 3인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 구조식 1로 표시되는 전도성 고분자가 하기 전도성 고분자 1 내지 3 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자
|
6 |
6
제1항의 전도성 고분자를 포함하는 유기전자소자
|
7 |
7
제6항에 있어서,상기 유기전자소자는 유기태양전지, 유기박막트랜지스터 및 유기발광다이오드 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
8 |
8
제7항에 있어서,상기 유기전자소자가 유기태양전지인 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
9 |
9
제8항에 있어서,상기 유기태양전지는 페로브스카이트 태양전지인 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
10 |
10
제9항에 있어서,상기 페로브스카이트 태양전지가,제1 전극;상기 제1 전극 상에 형성된 전자수송층;상기 전자수송층 상에 형성된 페로브스카이트 광흡수층; 상기 페로브스카이트 광흡수층 상에 형성되고 하기 구조식 1로 표시되는 전도성 고분자를 포함하는 정공수송층; 및상기 정공수송층 상에 형성된 제2 전극;을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
11 |
11
제10항에 있어서,상기 전자수송층이 산화주석(SnO2), 산화아연(ZnO), 산화마그네슘(MgO), 삼산화텅스텐(WO3), 산화납(PbO), 산화인듐(In2O3), 삼산화비스무트(Bi2O3), 오산화탄탈(Ta2O5), 티탄산바륨(BaTiO3), 지르코늄산바륨(BaZrO3) 및 삼산화지르코늄 (ZrO3) 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
12 |
12
제10항에 있어서,상기 페로브스카이트 광흡수층이 페로브스카이트(perovskite) 구조의 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
13 |
13
제12항에 있어서,상기 페로브스카이트(perovskite) 구조의 화합물은 CH3NH3PbI3-xClx(0≤x≤3인 실수), CH3NH3PbI3-xBrx(0≤x≤3인 실수), CH3NH3PbCl3-xBrx(0≤x≤3인 실수), CH3NH3PbI3-xFx(0≤x≤3인 실수), NH2CH=NH2PbI3-xClx (0≤x≤3인 실수), NH2CH=NH2PbI3-xBrx(0≤x≤3인 실수), NH2CH=NH2PbCl3-xBrx(0≤x≤3인 실수), NH2CH=NH2PbI3-xFx(0≤x≤3인 실수) 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
14 |
14
제12항에 있어서,상기 페로브스카이트(perovskite) 구조의 화합물이 (NH2CH=NH2PbI3)1-x(CH3NH3PbBr3)x (0≤x≤1인 실수)인 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
15 |
15
제10항에 있어서,상기 제2 전극은 금(Au), 은(Ag), 백금(Pt), 니켈(Ni), 구리(Cu), 인듐(In), 루테듐(Ru), 팔라듐(Pd), 로듐(Rh), 이리듐(Ir), 오스뮴(Os), 탄소(C) 및 전도성 고분자 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 유기전자소자
|
16 |
16
하기 구조식 2로 표시되는 화합물과 하기 구조식 3으로 표시되는 화합물을 반응시켜 하기 구조식 1로 표시되는 전도성 고분자를 제조하는 전도성 고분자의 제조방법
|
17 |
17
제16항에 있어서,(a) 상기 구조식 2로 표시되는 화합물 및 상기 구조식 3으로 표시되는 화합물에 착화합물 촉매 및 조촉매를 첨가하여 혼합물을 제조하는 단계;(b) 상기 혼합물에 용매를 용해시켜 혼합용액을 제조하는 단계; 및(c) 상기 혼합물을 가열하여 반응시키는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자의 제조방법
|
18 |
18
제17항에 있어서,상기 용매가 톨루엔, 벤젠, 헥산, 나프탈렌, 에틸벤젠, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 디클로로메탄, 트리클로로메탄, 테트라클로로메탄, 사이클로헥산 및 사염화탄소 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자의 제조방법
|
19 |
19
제17항에 있어서,상기 착화합물 촉매가 트리스(다이벤질리덴아세톤)다이팔라듐(Tris(dibenzylideneacetone)dipalladium(0), Pd2(dba)3), 비스(다이벤질리텐아세톤)팔라듐(Bis(dibenzylideneacetone)palladium(0), Pd(dba)2) 및 테트라키스(트리페닐포스핀)팔라듐(Tetrakis(triphenylphosphine)palladium(0), Pd(PPh3)4) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자의 제조방법
|
20 |
20
제17항에 있어서,상기 조촉매가 트리(o-토릴)포스핀(Tri(o-tolyl)phosphine, P(o-tolyl)3), 트라이페닐포스핀(Triphenylphosphine, PPh3) 및 트라이사이클로헥실포스포늄(Tricyclohexylphosphine tetrafluoroborate, PCy3HBF4) 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전도성 고분자의 제조방법
|
21 |
21
제17항에 있어서,단계 c가 80 내지 200℃의 온도에서 수행되는 것을 특징으로 하는 전도성 고분자의 제조방법
|