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(a) 기재 상에 다수의 전도성 나노시트를 위치시키는 단계;(b) 상기 다수의 전도성 나노시트에 압력을 가하여 평탄화시켜 상기 기재 상에 전도층을 형성하는 단계;(c) 상기 전도층 상 및 상기 전도층 외부의 상기 기재 상에 블록공중합체를 포함하는 용액을 코팅하고 건조시켜 기재/전도층/블록공중합체매트릭스를 제조하는 단계;(d) 상기 기재/전도층/블록공중합체매트릭스의 블록공중합체매트릭스 상에 탄성중합체를 포함하는 유연기판을 부착하여 기재/전도층/블록공중합체매트릭스/유연기판을 제조하는 단계; 및(e) 상기 기재/전도층/블록공중합체매트릭스/유연기판에서 상기 전도층/블록공중합체매트릭스/유연기판을 분리하여 전도층/블록공중합체매트릭스/유연기판을 포함하는 전도성 복합체를 제조하는 단계;를 포함하고,상기 단계 (c)가 기재 상에 블록공중합체를 포함하는 용액을 코팅한 후 진공조건에서 150~170℃로 어닐링(annealing)하는 단계를 포함하고,상기 단계 (e) 이후에 상기 전도성 복합체를 170~190℃에서 압착(pressurizing)하는 단계를 추가로 포함하고,상기 전도성 복합체가 블록공중합체를 포함하는 매트릭스;상기 매트릭스의 일면에 함입되고, 전도성 나노시트를 포함하는 전도층;을 포함하고,상기 전도층은 상기 블록 공중합체의 점착력에 의해 상기 블록 공중합체에 점착되고,상기 전도층이 복수의 상기 전도성 나노시트를 포함하고,상기 전도층은 상기 전도성 나노시트 사이의 공간을 포함하고, 상기 공간에 상기 블록 공중합체가 위치하는 것인 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전도성 복합체가 상기 매트릭스 상에서 상기 전도층의 반대측에 위치하고 탄성중합체를 포함하는 유연기판을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 블록공중합체가 친수성인 부타디엔 블록과 소수성인 스타이렌 블록을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 블록공중합체가 열가소성 블록공중합체인 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 블록공중합체가 SBS 블록공중합체, SEBS 블록공중합체 및 SIS 블록공중합체(polystyrene-block-polyisoprene-block-polystyrene)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 매트릭스의 두께가 5 내지 20 ㎛인 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전도성 나노시트가 금(Au), 니켈(Ni), 코발트(Co), 이리듐(Ir), 알루미늄(Al), 은(Ag), 티타늄(Ti), 바나듐(V,) 크롬(Cr), 망간(Mn)으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제3항에 있어서, 상기 탄성중합체가 PDMS, 실리콘 또는 폴리우레탄으로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 블록공중합체를 포함하는 용액에서 블록공중합체의 농도는 5 내지 20중량%인 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 블록공중합체매트릭스의 두께는 블록공중합체를 포함하는 용액 내 블록공중합체의 농도에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 (c) 및 단계 (d) 사이에 블록공중합체매트릭스 및 유연기판의 표면을 O2 플라즈마에 의해 표면처리하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 단계 (e) 이후에 상기 전도성 복합체를 패터닝(patterning)하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 전도성 복합체의 제조방법
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제1항에 따른 전도성 복합체의 제조방법을 포함하는 전극의 제조방법
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제17항에 따른 전극의 제조방법에 따라 제1 전극을 제조하는 단계;상기 제1 전극 상에 전기화학적 발광 겔 층을 형성하는 단계; 및상기 전기화학적 발광 겔 층 상에 제2 전극을 형성하는 단계;를포함하는 전기화학적 발광디스플레이의 제조방법
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