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챔버 내에 배치된 식각 대상으로부터 방출된 빛을 통과시키는 광학필터;상기 광학필터를 통과한 빛을 전기적 신호로 변화시키는 감광센서; 및상기 전기적 신호를 증폭 및 노이즈 제거하여 디스플레이에 표시하며, 식각 종말점 또는 챔버 내 누설을 판단할 수 있도록 연산하여 공정 또는 설비를 직접적으로 제어하거나 상기 설비로 제어 가능한 신호를 전달하는 신호 처리부;를 포함하고,상기 광학필터 및 상기 감광센서는 복수 개로 마련되며,상기 복수 개의 광학필터 및 상기 복수 개의 감광센서는 서로 다른 물질로부터 방출된 빛을 검출하고,상기 복수 개의 광학필터는,상기 식각 대상에 인접하게 존재하는 반응물 또는 부산물로부터 방출되는 빛을 통과시키는 식각 종말점 검출용 광학필터; 및상기 챔버 내 유입된 외기 가스로부터 방출되는 빛을 통과시키는 챔버 누설 검출용 광학필터;를 포함하고,상기 식각 종말점 검출용 광학필터는 상기 식각 대상을 향하여 배치되며,상기 챔버 누설 검출용 광학필터는 상기 식각 종말점 검출용 광학필터보다 하부에 배치되어 상기 식각 대상의 식각을 위한 공정 가스가 유입되는 가스 유입부를 향하여 경사지게 배치되고,상기 반응물 또는 부산물로부터 방출된 빛 및 외기 가스로부터 방출되는 빛은 상기 식각 종말점 검출용 광학필터 및 상기 챔버 누설 검출용 광학필터를 통해 개별적으로 감광 센서를 거쳐 식각 종말점 및 챔버의 누설 여부가 실시간으로 동시적으로 검출되는 식각 상태 감시 장치
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제1항에 있어서,상기 식각 종말점 검출용 광학필터는,상기 식각 대상에 인접하게 존재하는 반응물 또는 부산물로부터 방출되는 제1 빛을 통과시키는 제1 식각 종말점 검출용 광학필터; 및상기 식각 대상에 인접하게 존재하는 반응물 또는 부산물로부터 방출되는 제2 빛을 통과시키는 제2 식각 종말점 검출용 광학필터;를 포함하고,상기 제1 식각 종말점 검출용 광학필터 및 상기 제2 식각 종말점 검출용 광학필터는 상기 식각 대상을 향하여 서로 나란히 배치되는 식각 상태 감시 장치
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플라즈마 식각 공정이 수행되는 챔버의 일 측에 장착된 케이스;상기 케이스의 일 측에 구비되어, 식각 대상으로부터 방출되는 빛을 받아들이는 수광부; 및상기 케이스 내에 배치되어, 상기 수광부에서 받아들여진 빛으로부터 식각 종말점 또는 챔버 내 누설을 검출하는 신호 처리부; 및상기 케이스의 일 측과 마주보는 타 측에 구비되어, 상기 신호 처리부에서 검출된 식각 종말점 또는 챔버 내 누설 여부를 표시하는 디스플레이;를 포함하고,상기 디스플레이에 구비된 제어 요소에 의해 상기 플라즈마 식각 공정이 실시간으로 제어되며,상기 수광부는 식각 대상으로부터 방출되는 빛 중 특정 파장의 빛을 통과시키는 복수 개의 광학필터 및 상기 복수 개의 광학필터를 통과한 빛을 전기적 신호로 변화시키는 복수 개의 감광센서를 포함하고,상기 복수 개의 광학필터는,상기 식각 대상에 인접하게 존재하는 반응물 또는 부산물로부터 방출되는 빛을 통과시키는 식각 종말점 검출용 광학필터; 및상기 챔버 내 유입된 외기 가스로부터 방출되는 빛을 통과시키는 챔버 누설 검출용 광학필터;를 포함하고,상기 식각 종말점 검출용 광학필터는 상기 식각 대상을 향하여 배치되며,상기 챔버 누설 검출용 광학필터는 상기 식각 종말점 검출용 광학필터보다 하부에 배치되어 상기 식각 대상의 식각을 위한 공정 가스가 유입되는 가스 유입부를 향하여 경사지게 배치되고,상기 반응물 또는 부산물로부터 방출된 빛 및 외기 가스로부터 방출되는 빛은 상기 식각 종말점 검출용 광학필터 및 상기 챔버 누설 검출용 광학필터를 통해 개별적으로 감광 센서를 거쳐 식각 종말점 및 챔버의 누설 여부가 실시간으로 동시적으로 검출되는 식각 상태 감시 장치
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제4항에 있어서,상기 처리부는 상기 복수 개의 감광센서에서 변환된 전기적 신호를 연산 또는 판단하는 메인 보드 및 상기 메인 보드로부터 이격 배치되어 상기 디스플레이의 작동을 제어하는 구동 보드를 포함하는 식각 상태 감시 장치
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