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클리닝 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2019035368
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 클리닝 장치 및 방법이 개시된다. 클리닝 장치는, 기판(Substrate), 기판 위에 배열되는 적어도 하나의 전극(Electrode), 전극에 미리 설정된 기준 주파수를 기준으로 고주파 교류 전압을 인가하는 전압 인가부 및 기준 주파수를 기준으로 저주파수로 인가되는 고주파 교류 전압을 온오프(on/off) 스위칭하는 스위칭부를 포함하되, 스위칭에 따라 전도성 액적(droplet) 및 비전도성 액적이 모두 제거 가능하다.
Int. CL G02B 27/00 (2006.01.01) G02B 26/00 (2006.01.01)
CPC G02B 1/18(2013.01) G02B 1/18(2013.01)
출원번호/일자 1020170057410 (2017.05.08)
출원인 명지대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1816480-0000 (2018.01.02)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180221) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.05.08)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 명지대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 처인구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정상국 대한민국 경기도 용인시 기흥구
2 이강용 대한민국 경기도 고양시 덕양구
3 이대영 대한민국 경기도 여주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최관락 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)
2 송인호 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로**길 ** (역삼동) 동림빌딩 *층(아이피즈국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 명지대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 처인구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2017.05.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-0438053-05
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.06.22 수리 (Accepted) 1-1-2017-0598859-95
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2017.06.26 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2017.07.06 수리 (Accepted) 9-1-2017-0021285-75
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.08.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0558554-95
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2017-0952386-16
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.09.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0952387-51
8 등록결정서
Decision to grant
2017.12.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0909696-03
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.09.17 수리 (Accepted) 4-1-2019-5194058-21
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2020-5014795-00
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판(Substrate);상기 기판 위에 배열되는 적어도 하나의 전극(Electrode);상기 전극에 미리 설정된 기준 주파수를 기준으로 고주파 교류 전압을 인가하는 전압 인가부; 및상기 기준 주파수를 기준으로 저주파수 주기로 상기 인가되는 고주파 교류 전압을 온오프(on/off) 스위칭하여 한 주기 내에 고주파 교류 전압 및 저주파 교류 전압을 모두 발생시키는 스위칭부를 포함하되,상기 스위칭에 따라 전도성 액적(droplet) 및 비전도성 액적이 모두 제거 가능한 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 전도성 액적 및 상기 비전도성 액적은 상기 고주파 교류 전압과 상기 저주파 교류 전압이 상기 전극에 동시에 인가됨으로써, 진동하는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
4 4
제3항에 있어서,상기 비전도성 액적 및 상기 전도성 액적은 상기 진동에 의하여 상기 기판 표면과의 접촉각이 변화하여 접착력이 감소하고, 상기 기판의 경사에 의하여 상기 기판의 바깥 측으로 이동하는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
5 5
제4항에 있어서,상기 비전도성 액적 및 상기 전도성 액적은 상기 경사에 의하여 이동 방향 부분의 접촉각과 이동 방향의 반대 방향 부분의 접촉각 사이에서 차이가 발생하며, 상기 차이는 상기 이동을 도와주는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
6 6
제1항에 있어서,상기 전극의 상면에 적층되는 절연 층(Dielectric Layer); 및상기 절연 층의 상면에 적층되며, 액적(droplet)이 표면에 형성되는 소수성 층(Hydrophobic Layer)을 더 포함하는 클리닝 장치
7 7
제6항에 있어서,상기 전극은 복수의 하이(high) 전압 전극 및 복수의 그라운드(ground) 전압 전극을 포함하며, 하이(high) 전압 전극과 그라운드(ground) 전압 전극이 상기 기판 위에서 서로 분리된 상태에서 번갈아 가도록 연속적으로 배열되는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
8 8
제7항에 있어서,상기 배열에 의하여 생성되는 결의 방향은 상기 액적의 이동 방향과 일치하는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
9 9
제8항에 있어서,상기 액적과 상기 표면의 접촉각은 상기 결의 방향에서 더 크게 발생하는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
10 10
제7항에 있어서,상기 복수의 하이(high) 전압 전극 및 상기 복수의 그라운드(ground) 전압 전극은 각각 일체로 형성됨으로써, 하이(high) 전압 전극끼리 및 그라운드(ground) 전압 전극끼리 연결되는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
11 11
제1항에 있어서,상기 전극은 하이(high) 전압 전극 및 그라운드(ground) 전압 전극을 포함하며, 상기 하이(high) 전압 전극과 상기 그라운드(ground) 전압 전극은 각각 comb 형태를 가지고, 서로 닿지 않고 맞물려있는 형태로 배치되는 것을 특징으로 하는 클리닝 장치
12 12
삭제
13 13
기판(Substrate), 상기 기판 위에 배열되는 적어도 하나의 전극(Electrode)을 포함하는 클리닝 장치가 수행하는 클리닝 방법에 있어서,(a) 액적 제거 요청 신호를 입력받는 단계;(b) 상기 전극에 미리 설정된 기준 주파수를 기준으로 고주파 교류 전압을 인가하는 단계;(c) 상기 기준 주파수를 기준으로 저주파수로 상기 인가되는 고주파 교류 전압을 온오프(on/off) 스위칭하여 한 주기 내에 고주파 교류 전압 및 저주파 교류 전압을 모두 발생시키는 단계; 및(d) 미리 정해진 시간이 경과하거나 액적 제거 해제 요청 신호가 입력되면, 상기 고주파 교류 전압의 인가 및 상기 온오프(on/off) 스위칭을 중단하는 단계를 포함하되,상기 스위칭에 따라 전도성 액적(droplet) 및 비전도성 액적이 모두 제거 가능한 것을 특징으로 하는 클리닝 방법
14 14
삭제
15 15
제13항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 고주파 교류 전압과 상기 저주파 교류 전압이 상기 전극에 동시에 인가됨으로써, 상기 전도성 액적 및 상기 비전도성 액적이 진동하는 것을 특징으로 하는 클리닝 방법
16 16
제15항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 비전도성 액적 및 상기 전도성 액적이 상기 진동에 의하여 상기 기판 표면과의 접촉각이 변화하여 접착력이 감소하고, 상기 기판의 경사에 의하여 상기 기판의 바깥 측으로 이동하는 것을 특징으로 하는 클리닝 방법
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4 KR102010635 KR 대한민국 FAMILY
5 KR1020170130151 KR 대한민국 FAMILY
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8 KR1020180045079 KR 대한민국 FAMILY
9 KR1020180086173 KR 대한민국 FAMILY
10 KR1020180086174 KR 대한민국 FAMILY
11 KR1020180089817 KR 대한민국 FAMILY
12 KR1020190098939 KR 대한민국 FAMILY
13 US20190277787 US 미국 FAMILY
14 WO2017200242 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
15 WO2017200242 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN109154580 CN 중국 DOCDBFAMILY
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