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방사성 물질의 생산에 사용되는 기체가 수용되는 원통형 공간이 구비된 타겟 챔버;상기 타겟 챔버로 조사되는 빔의 양을 제한하도록 구성되는 콜리메이터; 및냉각수가 상기 타겟 챔버 주위를 나선형으로 와류를 줄이면서 유동하여 상기 타겟 챔버를 냉각할 수 있도록 구성되는 제1 냉각유로를 포함하여 구성되는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제1 항에 있어서,상기 제1 냉각유로는 상기 타겟 챔버에 상기 빔이 조사되는 방향으로 형성된 나선형 유로로 구성되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제2 항에 있어서,상기 타겟 챔버는,내측에 상기 빔의 이동방향에 따라 원통형으로 형성된 핵반응공간; 및외측에 상기 제1 냉각유로가 구비되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제3 항에 있어서,상기 타겟 챔버를 외측에서 감싸는 타겟 챔버 커버를 더 포함하며,상기 타겟 챔버는 외면에 나선으로 형성되며, 반경방향으로 돌출된 냉각핀을 더 포함하여 구성되며, 상기 제1 냉각유로는 상기 타겟 챔버의 외면, 상기 냉각핀 및 상기 타겟 챔버 커버의 내면으로 구획된 유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제3 항에 있어서,상기 콜리메이터는 조사되는 빔의 일부가 통과될 수 있도록 개구가 형성된 차단벽을 포함하여 구성되며,상기 쿨링 시스템은 상기 차단벽의 외측에 형성되어 상기 차단벽을 냉각할 수 있도록 구성되는 제2 냉각유로를 더 포함하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제5 항에 있어서,상기 냉각수는 상기 제2 냉각유로를 통과한 뒤 상기 제1 냉각유로를 통과하도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제6 항에 있어서,상기 콜리메이터와 상기 타겟 챔버는 길이방향으로 결합되며,상기 타겟 챔버의 상기 핵반응공간이 밀폐될 수 있도록 상기 콜리메이터와 상기 타겟 챔버 사이에 구비되는 인슐레이팅 플레이트; 및상기 인슐레이팅 플레이트 외부에서 상기 제1 냉각유로와 상기 제2 냉각유로를 연결하여 냉각수의 유로를 형성하는 연결라인을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제7 항에 있어서,상기 타겟 챔버는,상기 타겟 챔버의 상기 콜리메이터 측에 형성된 유입구;상기 타겟 챔버의 타측에 형성된 유출구를 더 포함하여 구성되며,상기 유입구 및 상기 유출구는 제1 냉각유로와 연통되며, 상기 유입구는 상기 제2 냉각유로로부터 유출된 냉각수가 유입되도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링시스템이 구비된 가스 타겟
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제3 항에 있어서,상기 타겟 챔버는 상기 핵반응공간을 밀폐할 수 있도록 끝단에 구비되는 앤드캡을 더 포함하며,상기 제1 냉각유로는 상기 앤드캡을 감싸도록 구성된 것을 특징으로 하는 쿨링 시스템이 구비된 가스 타겟
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