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회수 가능한 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템

  • 기술번호 : KST2019036296
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템에 관한 것으로, 웨이퍼의 식각 또는 표면처리를 위한 플라즈마가 발생되는 챔버(10)와; 챔버(10)의 일측에 설치되면서 챔버(10)의 내부를 고진공 상태로 만드는 터보펌프(20)와; 터보펌프(20)와 제1 유로(L1)를 통해 연결되면서 터보펌프(20)의 진공펌핑을 조력하는 드라이펌프(30) 및; 제1 유로(L1)상에 설치되면서 터보펌프(20)에 의해 챔버(10)에서 배출되는 공정가스를 분리 회수하는 멤브레인필터(40); 를 포함하고, 챔버(10)로 공급되는 공정가스는 플루오르카본계 전구체가 사용되는 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명은 상기한 멤브레인필터(40) 대신에 액체질소흡착부(41)가 부가된 것을 특징으로 하는 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템을 제공한다. 또한 본 발명은 상기 챔버(10)로 공급되는 공정가스인 플루오르카본계 전구체는 CnHrFm의 구조로서 C(탄소)와 F(플루오르)의 결합비(n:m)가 1:1 ~ 1:3의 범위 내로 이루어진 플루오르카본계 전구체인 것을 특징으로 하는 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템을 제공한다. 상기와 같은 구성에 의해 본 발명은 지구 온난화 지수(GWP)가 낮은 플루오르카본계 전구체를 공정가스로 사용하면서도 멤브레인을 통해 사용된 공정가스를 배출가스로부터 분리하여 회수할 수 있다.
Int. CL H01L 21/67 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01) C23C 16/02 (2006.01.01) C23C 16/455 (2006.01.01) H01L 21/3065 (2006.01.01)
CPC H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01) H01L 21/67017(2013.01)
출원번호/일자 1020180062501 (2018.05.31)
출원인 대전대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-2185404-0000 (2020.11.25)
공개번호/일자 10-2019-0136588 (2019.12.10) 문서열기
공고번호/일자 (20201201) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.05.31)
심사청구항수 2

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 대전대학교 산학협력단 대한민국 대전광역시 동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김경남 경기도 수원시 장안구
2 오광진 충청북도 청주시 흥덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 길준연 대한민국 대전광역시 서구 둔산중로 ***, ***호 길국제특허법률사무소 (둔산동, 주은오피스텔)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대전대학교 산학협력단 대전광역시 동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2018-0536368-82
2 보정요구서
Request for Amendment
2018.06.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0089279-46
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0576317-91
4 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0576382-48
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2019.01.17 수리 (Accepted) 1-1-2019-0058516-09
6 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.09.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
7 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.11.08 수리 (Accepted) 9-1-2019-0051638-16
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.11.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0824447-05
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.01.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0040734-04
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2020-0040830-89
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0303136-04
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2020-0669474-57
13 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.06.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0669375-35
14 등록결정서
Decision to grant
2020.11.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0810326-20
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
웨이퍼의 식각 또는 표면처리를 위한 플라즈마가 발생되는 챔버(10)와;상기 챔버(10)의 일측에 설치되면서 상기 챔버(10)의 내부를 고진공 상태로 만드는 터보펌프(20)와;상기 터보펌프(20)와 제1 유로(L1)를 통해 연결되면서 상기 터보펌프(20)의 진공펌핑을 조력하는 드라이펌프(30) 및;상기 제1 유로(L1)상에 설치되면서 상기 터보펌프(20)에 의해 상기 챔버(10)에서 배출되는 공정가스를 분리 회수하는 액체질소흡착부(41)가 부가되되, 상기한 액체질소흡착부(41)는 액체질소를 흘려보내 지나가는 기체분자를 냉각시켜 흡착시키는 기능으로 공정가스를 분리 회수하는 기능을 수행하고,챔버(10)와 드라이펌프(30)를 직접 연결하는 제2 유로(L2)가 구비되며,상기 드라이펌프(30)에 제3 유로(L3)가 설치되고, 제3 유로(L3)상에 멤브레인필터(40)가 설치되며,상기 멤브레인필터(40)는 원통 모양의 필터하우징(41)과, 필터하우징(41)의 상류쪽에 필터하우징(41)의 내부와 연통되도록 형성되면서 배출되는 미반응 공정가스가 유입되는 유입구(42)와, 필터하우징(41)의 하류쪽에 필터하우징(41)의 내부와 연통되도록 형성되어 클린 가스가 배출되는 제1 배출구(43)와, 필터하우징(41)의 내부에 설치되면서 내부로 유입된 미반응 공정가스를 분리하는 중공사 분리막(45) 및 필터하우징(41)의 일측에 위치되어 필터하우징(41)의 내부와 연통되도록 형성되고 중공사 분리막(45)을 통해 분리된 미반응 공정가스가 배출되는 제2 배출구(44)로 구성되고,상기 챔버(10)로 공급되는 공정가스는 플루오르카본계 전구체가 사용되는 것을 특징으로 하는 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템
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삭제
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제1항에 있어서,상기 챔버(10)로 공급되는 공정가스인 플루오르카본계 전구체는 CnHrFm의 구조로서 C(탄소)와 F(플루오르)의 결합비(n:m)가 1:1 ~ 1:3의 범위 내로 이루어진 플루오르카본계 전구체인 것을 특징으로 하는 플루오르카본계 전구체를 이용한 반도체 소자 제조용 시스템
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패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 성균관대학교산학협력단 에너지수요관리핵심기술 PFC 가스 대체용 Fluorocarbon 계열 Precursor를 이용한 식각 공정 개발