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실리콘 나노 입자를 준비하는 단계;유기 용매에 질소 함유물이 혼합된 혼합용액을 준비하는 단계;상기 실리콘 나노 입자를 상기 혼합 용액에 투입하여 교반하여 혼합물을 형성하는 단계;상기 혼합물을 공기 중에서 예비 건조하여 상기 유기 용매가 제거된 슬러리를 형성하는 단계; 및상기 슬러리를 불활성 분위기에서 열처리하여 질소가 도핑된 탄소 코팅층을 가지는 실리콘 나노 입자들을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 유기 용매는 아세톤, 톨루엔, 벤젠, 디에틸에테르, 에틸알콜, 메틸알콜, 부틸알콜, 및 에틸렌 글리콜 중 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 질소 함유물은 1-에틸-3-메틸이미다조늄 디시안아미드 (1-ethyl-3-methylimidazolium dicyanamide, EMI-DCA) ), 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 아세테이트 (1-Ethyl-3-methylimidazolium acetate), 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 테트라플루오르붕산염 (1-Ethyl-3-methylimidazolium tetrafluoroborate), 1-에틸-3-메틸이미다조늄 비스(트리플로로메틸술포닐)이미드 (1-Ethyl-3-methyl imidazolium bis(trifluoromethylsulfonyl)imide, 1-에틸-3-메틸이미다조늄 염화물 (1-Ethyl-3-methylimidazolium chloride), 1-에틸-3-메틸이미다조늄 질산염 (1-Ethyl-3-methylimidazolium nitrate), 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 요오드화물 (1-Ethyl-3-methylimidazolium iodide_, 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 티오시아네이트 (1-Ethyl-3-methylimidazolium thiocyanate), 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 테트라클로로알루미늄산염 (1-Ethyl-3-methylimidazolium tetrachloroaluminate), 1-에틸-3-메틸 이미다조늄 아미노초산 (1-Ethyl-3-methylimidazolium aminoacetate) 중 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 유기 용매와 상기 질소 함유물은 부피 비율이 20:1 내지 20:3 의 범위를 가지며,상기 탄소 코팅층은 0
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제 1 항에 있어서, 상기 열처리는 550℃ 내지 650℃의 온도 범위에서 수행되는, 리튬 이온 전지용 애노드 소재의 제조 방법
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청구항 제1항 및 제4항 중 어느 한 항의 방법을 이용하여 형성된 리튬 이온 전지용 애노드 소재로서, 나노 구조체; 및상기 나노 구조체를 둘러싸고, 도전성 물질이 도핑된 탄소 코팅층;를 포함하는, 리튬 이온 전지용 애노드 소재
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제 6 항에 있어서,상기 나노 구조체는 실리콘, 저매늄, 및 주석 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 리튬 이온 전지용 애노드 소재
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제 6 항에 있어서,상기 도전성 물질은, 질소, 인, 비소, 안티몬, 붕소, 알루미늄, 인듐, 및 갈륨 중 적어도 어느 하나를 포함하는, 리튬 이온 전지용 애노드 소재
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제 6 항에 있어서,상기 나노 구조체는 50 nm 내지 150 nm 범위의 직경을 가지는, 리튬 이온 전지용 애노드 소재
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