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유기발광다이오드 패널 제조용 파인 메탈 마스크

  • 기술번호 : KST2019036796
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 마스크 기재 및 상기 마스크 기재의 표면에서 증착면을 포함하는 영역에 옴니포빅 물질이 코팅되어 형성되는 나노쉴드층을 포함하며, 상기 마스크 기재는 표면에서 상기 증착면을 포함하는 영역에 요철 패턴이 형성되고, 상기 나노쉴드층은 상기 요철 패턴에 형성되거나, 상기 마스크 기재와 상기 나노쉴드층 사이에 형성되어 상기 마스크 기재와 나노쉴드층의 결합력을 증가시키는 계면층을 더 포함하는 파인 메탈 마스크를 개시한다.
Int. CL H01L 51/00 (2006.01.01) C07F 7/12 (2006.01.01) C23C 14/04 (2006.01.01)
CPC H01L 51/0011(2013.01) H01L 51/0011(2013.01) H01L 51/0011(2013.01)
출원번호/일자 1020170042283 (2017.03.31)
출원인 경기대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1866382-0000 (2018.06.04)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20180612) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020180037431;
심사청구여부/일자 Y (2017.03.31)
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경기대학교 산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 주상현 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김호종 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-*, *층 (역삼동, 신도빌딩)(태산특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경기대학교 산학협력단 경기도 수원시 영통구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2017.03.31 수리 (Accepted) 1-1-2017-0320979-79
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2017.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-0413178-73
3 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search		 2017.05.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search		 2017.05.08 수리 (Accepted) 9-1-2017-0013962-34
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2017.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0580612-17
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2017.10.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-1046568-91
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2017.10.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-1046681-42
8 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2017.11.23 수리 (Accepted) 1-1-2017-1170674-53
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2017.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0835172-22
10 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
 2018.01.02 수리 (Accepted) 1-1-2018-0003130-77
11 법정기간연장승인서
 2018.01.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2018-0005925-97
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2018.01.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0102177-56
13 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2018.01.29 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2018-0102212-67
14 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2018.03.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0148860-35
15 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2018.03.30 수리 (Accepted) 1-1-2018-0320086-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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2 2
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3 3
증착 홀을 구비하는 파인 메탈 마스크로서,마스크 기재 및상기 마스크 기재의 표면에서 유기물이 증착되는 영역인 증착면을 포함하는 영역에 옴니포빅 물질이 코팅되어 형성되는 나노쉴드층을 포함하며,상기 마스크 기재는 표면에서 상기 증착면을 포함하는 영역에 요철 패턴이 형성되고,상기 나노쉴드층은 상기 요철 패턴에 형성되며,상기 증착면은 상기 마스크 기재의 표면에서 상기 증착 홀 사이의 영역을 포함하며,상기 요철 패턴은 상기 나노쉴드층의 옴니포빅 특성을 증가시키며,상기 요철 패턴은 상기 마스크 기재의 표면으로부터 하부로 형성되는 트렌치 구조를 갖는 격자 형상 패턴 또는 벌집 형상 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
4 4
제 3 항에 있어서,상기 트렌치 구조는 연장 방향에 수직인 방향의 폭이 1nm ~ 100㎛이 되도록 형성되며,상기 요철 패턴은 상기 트렌치 구조의 서로 이격되는 이격 거리가 10nm ~ 1,000㎛이 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
5 5
증착 홀을 구비하는 파인 메탈 마스크로서,마스크 기재 및상기 마스크 기재의 표면에서 유기물이 증착되는 영역인 증착면을 포함하는 영역에 옴니포빅 물질이 코팅되어 형성되는 나노쉴드층을 포함하며,상기 마스크 기재는 표면에서 상기 증착면을 포함하는 영역에 요철 패턴이 형성되고,상기 나노쉴드층은 상기 요철 패턴에 형성되며,상기 증착면은 상기 마스크 기재의 표면에서 상기 증착 홀 사이의 영역을 포함하며,상기 요철 패턴은 상기 나노쉴드층의 옴니포빅 특성을 증가시키며,상기 요철 패턴은 상기 마스크 기재의 표면으로부터 상부로 돌출되는 돌기 구조로 형성되며,상기 돌기 구조는 원기둥, 사각 기둥, 육각 기둥, 원뿔대, 사각뿔대 또는 육각뿔대 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
6 6
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 요철 패턴은 에칭 공정에 의하여 불규칙한 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
7 7
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 나노쉴드층과 요철 패턴은 상기 마스크 기재의 표면에서 상기 증착면과 반대면인 대향면에 더 형성되는 것을 하는 파인 메탈 마스크
8 8
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 마스크 기재와 상기 나노쉴드층 사이에 형성되어 상기 마스크 기재와 나노쉴드층의 결합력을 증가시키는 계면층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
9 9
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10 10
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 나노쉴드층은 0
11 11
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 옴니포빅 물질은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(1)로 표시되는 실란계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
12 12
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 옴니포빅 물질은 (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) trichlorosilane (HDF-S)인 것을 특징으로 파인 메탈 마스크
13 13
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14 14
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15 15
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 옴니포빅 물질은 CF(탄화불소)기 또는 CH(탄화수소)기를 포함하는 하기의 구조식(2)로 표시되는 인산계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
16 16
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 옴니포빅 물질은 Octadecylphosphonic acid (OD-PA) 또는 (1H,1H,2H,2H-heptadecafluorodec-1-yl) phosphonic acid (HDF-PA)인 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
17 17
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18 18
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19 19
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20 20
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21 21
제 3 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 마스크 기재는 인바(INVAR) 합금, 철(Fe), 합금스테인레스 스틸(SUS), 니켈(Ni), 텅스텐(W), 크롬(Cr), 코발트(Co), 몰리브덴(Mo), 백금(Pt), 은(Ag), 티타늄(Ti), 니켈 코발트 합금, 모넬 합금, 인코넬 및 듀플렉스로 이루어진 군에서 선택되는 상대적으로 내부식성이 약한 금속 재질에 상대적으로 내부식성이 강한 금속 재질이 1층 또는 2층으로 코팅되어 형성되는 것을 특징으로 하는 파인 메탈 마스크
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1 KR102149060 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 경기대학교 산학협력단 원천기술개발사업-첨단융합기술개발사업-신기술융합형성장동력사업 신개념의 NSEA방식을 이용한 NIT 융합형 나노 디스플레이 개발
2 미래창조과학부 경기대학교 산학협력단 이공분야기초연구사업〉중견연구자지원사업〉도약연구지원사업〉도약연구지원사업(전략)(상향식) 자기조립단분자 포면제어를 이용한 기능성 나노전자소자 개발
3 미래창조과학부 경기대학교 산학협력단 이공분야기초연구사업〉중견연구자지원사업〉도약연구지원사업〉도약연구지원사업(전략)(성과확산)) 엑소켄버스 디스플레이 플랫폼 개발
4 미래창조과학부 경기대학교 산학협력단 원천기술개발사업〉나노소재기술개발사업〉나노소재원천기술개발사업 방수방오 기능성 복합 섬유 제작
5 미래창조과학부 경기대학교 산학협력단 산학연협력·실용화·기술사업화〉공공연구성과기술사업화지원〉2017년 연구성과사업화지원 기술업그레이드 R＆D(1차) 스마트 쉴더 개발