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여과공정을 거친 여과수 내의 입자 유무를 측정하는 여과수 입자 감시시스템으로서, 여과수를 수용하며, 상기 여과수 내의 기체를 탈기하는 탈기부; 및상기 탈기부와 연결되며, 상기 탈기부를 거치며 탈기된 여과수가 유입되어 상기 탈기된 여과수 내의 입자를 센싱하는 센싱부를 포함하고,상기 센싱부에 연결되어, 상기 센싱부로부터 센싱된 입자 정보를 전달받고, 상기 입자 정보를 표시하는 표시부를 더 포함하며,상기 센싱부에 결합되어, 상기 센싱부를 세척하는 세척부를 더 포함하고,상기 센싱부는, 상기 탈기부를 거친 여과수가 이동하는 측정셀;상기 측정셀을 이동하는 상기 여과수에 광을 조사하는 광원; 및상기 여과수를 통과한 광을 검출하여 상기 여과수 내의 입자 유무를 파악하는 광검출기를 포함하고,상기 세척부는,산세정액을 저장하는 저장탱크; 및상기 저장탱크에 결합되어 상기 산세정액을 상기 측정셀로 유입시키는 세정액펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템
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제1항에 있어서,상기 탈기부는,상기 여과수를 수용하는 수용부;상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부 내로 상기 여과수를 유입할 수 있는 유입라인;상기 유입라인에 결합되어, 상기 수용부로 상기 여과수의 유입을 조절하는 제1 밸브;상기 수용부에 결합되어, 상기 수용부내에 수용된 상기 여과수로부터 분리된 기체가 배출되는 탈기라인;상기 탈기라인에 결합되어, 상기 기체의 배출을 조절하는 제2 밸브;상기 탈기라인에 결합되어, 상기 수용부 내부의 압력을 감압하여 상기 여과수로부터 기체를 분리시키는 감압펌프;상기 수용부에 결합되어, 상기 기체가 분리된 여과수가 배출되는 배출라인; 및상기 배출라인에 결합되어, 상기 수용부로부터 배출되는 여과수의 배출을 조절하는 제3 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템
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제1항에 있어서,상기 광원은 레이저 광원이고,상기 광검출기는 상기 여과수 내의 입자에 의해 발생하는 그림자를 측정하는 광센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템
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제1항에 있어서,상기 센싱부는 실시간 데이터 연산처리 프로그램을 포함하고,상기 실시간 데이터 연산처리 프로그램은 상기 여과수를 통과한 광으로부터 노이즈를 분리하고, 상기 노이즈가 분리된 입자 정보를 증폭하는 것을 특징으로 하는 여과수 입자 감시시스템
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