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도전성 입자의 주입 방법

  • 기술번호 : KST2019038396
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 도전성 입자의 주입 방법에 있어서, 매트리스 형태의 격벽들에 의하여 정의되는 셀들 및 상기 셀들 각각에 형성된 구동 전극을 구비하는 셀 플레이트를 준비한다. 한편, 상기 셀들에 각각 대응되는 위치에 형성된 홀들 내에 도전성 박막 패턴을 갖는 캐리어를 준비한다. 이후, 상기 캐리어에 형성된 상기 홀들 각각 내에 도전성 입자들 각각을 위치시킨다. 이후, 상기 셀 플레이트 및 상기 캐리어를 상호 마주보도록 정렬한 상태에서, 상기 구동 전극 및 상기 도전성 박막 패턴 사이의 전위차를 이용하여 상기 홀들 내에 위치한 도전성 입자들 각각을 상기 셀들 각각의 내부로 전사시킨다.
Int. CL G02F 1/1679 (2019.01.01) G02F 1/167 (2019.01.01) H01B 5/16 (2006.01.01)
CPC G02F 1/1679(2013.01) G02F 1/1679(2013.01) G02F 1/1679(2013.01)
출원번호/일자 1020160022506 (2016.02.25)
출원인 고려대학교 세종산학협력단
등록번호/일자 10-1853633-0000 (2018.04.25)
공개번호/일자 10-2017-0100223 (2017.09.04) 문서열기
공고번호/일자 (20180502) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.02.25)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 세종산학협력단 대한민국 세종특별자치시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 홍문표 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 윤호원 대한민국 서울특별시 강북구
3 양경환 대한민국 경기도 수원시 팔달구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)
2 최내윤 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 ** *동 ***호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 세종산학협력단 세종특별자치시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2016-0186043-14
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0179192-25
3 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.05.10 수리 (Accepted) 1-1-2017-0444460-60
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2017.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2017-0546942-24
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2017.06.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2017-0546919-84
6 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2017.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2017-0732725-97
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0723738-15
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2017.12.18 수리 (Accepted) 1-1-2017-1259264-56
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.18 수리 (Accepted) 1-1-2018-0060133-84
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.01.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0060040-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2018-5011666-45
12 등록결정서
Decision to grant
2018.04.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0276158-15
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2018-5138839-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5165251-68
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5228968-96
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2020-5073634-85
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
매트리스 형태의 격벽들에 의하여 정의되는 셀들 및 상기 셀들 각각에 형성된 구동 전극을 구비하는 셀 플레이트를 준비하는 단계;상기 셀들에 각각 대응되는 위치에 형성된 홀들 각각 내에 도전성 박막 패턴을 갖는 별도의 캐리어를 준비하는 단계; 상기 캐리어에 형성된 상기 홀들 각각 내에 상자성을 가지지 않는 도전성 입자들 각각을 위치시키는 단계; 및상기 셀 플레이트 및 상기 캐리어를 상호 마주보도록 정렬한 상태에서, 상기 구동 전극 및 상기 도전성 박막 패턴 사이의 전위차를 이용하여 상기 홀들 내에 위치한 도전성 입자들 각각을 상기 셀들 각각의 내부로 전사시키는 단계를 포함하되,상기 별도의 캐리어는, 베이스 기판, 상기 베이스 기판 상에 형성되고, 상기 홀을 정의하는 홀 패턴 및 상기 홀 패턴 및 상기 베이스 기판을 함께 덮는 도전성 박막 패턴을 포함하는 도전성 입자의 주입 방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 셀들에 각각 대응되는 위치에 형성된 홀들 내에 상기 도전성 박막 패턴을 갖는 캐리어를 준비하는 단계는, 기판 상에 스트라이프 형상을 갖도록 상기 도전성 박막 패턴을 형성하는 단계; 상기 기판 상에 상기 도전성 박막 패턴과 서로 다른 평면에서, 상기 도전성 박막 패턴과 교차 영역에서 교차하도록 전극 패턴을 형성하는 단계;상기 도전성 박막 패턴을 노출시켜 상기 홀들을 형성하는 단계; 및상기 도전성 박막 패턴 및 상기 전극 패턴으로 이루어진 상기 기판의 상부에 채널 플레이트를 배치시켜 상기 기판 및 상기 채널 플레이트 사이에 마이크로 채널을 형성하는 단계를 포함하는 도전성 입자의 주입 방법
3 3
제2항에 있어서, 상기 홀들을 형성하는 단계 이전에, 상기 전극 패턴을 덮는 보호막을 형성하는 단계; 및상기 보호막의 상부 표면 중, 상기 홀들이 형성된 영역을 제외한 나머지 부분에 상기 도전성 입자의 표면과 동일한 물질로 코팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 입자의 주입 방법
4 4
제2항에 있어서, 상기 캐리어에 형성된 상기 홀들 각각 내에 도전성 입자들 각각을 위치시키는 단계는,상기 마이크로 채널로 도전성 입자들을 포함한 분산액을 공급하는 단계; 상기 전극 패턴 및 상기 도전성 박막 패턴에 전압을 인가함으로써 상기 도전성 입자들 각각을 상기 홀들 각각 내에 위치시키는 단계; 및상기 마이크로 채널에 잔류하는 도전성 입자들을 제거하는 단계를 포함하는 도전성 입자의 주입 방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 홀들 각각 내에 도전성 입자들 각각을 위치시키는 단계는, 상기 캐리어 상에 상기 도전성 입자들이 분산된 절연성 액체로 이루어진 분산액을 공급하는 단계; 및상기 분산액을 상기 캐리어에 대하여 러버를 이용하여 러빙함으로써, 상기 홀들 각각 내에 도전성 입자들 각각을 위치시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 입자의 주입 방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 홀들 내에 위치한 도전성 입자들을 상기 셀 내부로 전사시키는 단계는, 상기 홀들 사이의 피치와 동일한 피치로 배열된 복수의 팁들을 이용하여 전위차로 상기 도전성 입자들을 개별적으로 픽업하는 단계;상기 팁들에 부착된 상기 도전성 입자들을 상기 셀들로 정렬하는 단계; 및상기 전위차를 해제하여 상기 도전성 입자들을 상기 셀들로 인입시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 입자의 주입 방법
7 7
제6항에 있어서, 상기 팁들 각각은,니들부, 상기 니들부의 단부에 형성된 도전성 박막 및 상기 도전성 박막을 감싸도록 구비된 절연성 박막을 포함하는 것을 특징으로 하는 도전성 입자의 주입 방법
8 8
제7항에 있어서, 상기 팁들 각각의 단부는 상기 도전성 입자의 반지름의 5배 이하의 곡률 반지름을 갖는 것을 특징으로 하는 도전성 입자의 주입 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.