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하프니아 계열 강유전체를 포함하는 반도체 소자, 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2019038424
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 하프니아 계열 강유전체를 포함하는 반도체 소자, 및 그 제조 방법이 개시된다. 반도체 소자는, 하프니아 계열의 강유전체층을 포함하는 반도체 소자로서, 강유전체층은 미리 설정된 기준 기압보다 높은 기압에서 열처리가 수행된다. 하프니아 계열의 강유전체층을 미리 설정된 기준 압력보다 높은 압력에서 열처리를 수행하여 반도체 소자에 적용함으로써, 강유전체층이 낮은 온도에서의 열처리에도 우수한 특성을 유지할 수 있게 된다.
Int. CL H01L 29/66 (2006.01.01) H01L 29/78 (2006.01.01) H01L 29/51 (2006.01.01) H01L 21/324 (2017.01.01)
CPC H01L 29/6684(2013.01) H01L 29/6684(2013.01) H01L 29/6684(2013.01) H01L 29/6684(2013.01) H01L 29/6684(2013.01)
출원번호/일자 1020160096242 (2016.07.28)
출원인 고려대학교 세종산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2018-0013091 (2018.02.07) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 세종산학협력단 대한민국 세종특별자치시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전상훈 대한민국 서울특별시 서초구
2 김태호 대한민국 부산광역시 해운대구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박상열 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 *** **층 ****호(나눔국제특허법률사무소)
2 최내윤 대한민국 서울 금천구 가산디지털*로 ** *동 ***호(나눔국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2016.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2016-0735958-08
2 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2017.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2017-0732725-97
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0042961-49
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2018-5011666-45
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.20 수리 (Accepted) 4-1-2018-5138839-36
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.20 수리 (Accepted) 4-1-2019-5165251-68
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.01 수리 (Accepted) 4-1-2019-5228968-96
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.03.30 수리 (Accepted) 4-1-2020-5073634-85
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번호 청구항
1 1
하프니아 계열의 강유전체층을 포함하는 반도체 소자로서,상기 강유전체층은 미리 설정된 기준 기압보다 높은 기압에서 열처리가 수행되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
2 2
청구항 1에 있어서,상기 강유전체층은 N2 분위기에서 열처리 되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
3 3
청구항 1에 있어서,상기 강유전체층은 Ar 분위기에서 열처리 되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
4 4
제 1항에 있어서,상기 강유전체층은 금속층과 반도체층 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
5 5
청구항 4에 있어서,상기 반도체층과 상기 강유전체층 사이에 형성된 절연층, 및 상기 절연층과 상기 강유전체층 사이에 형성된 금속층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
6 6
청구항 1에 있어서,상기 강유전체층은 서로 이격된 금속층 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자
7 7
하프니아 계열의 강유전체층을 포함하는 반도체 소자 제조 방법으로서,미리 설정된 기준 기압보다 높은 기압에서 상기 강유전체층의 열처리를 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
8 8
청구항 7에 있어서,상기 열처리를 N2 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
9 9
청구항 7에 있어서,상기 열처리를 Ar 분위기에서 수행하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
10 10
청구항 7에 있어서,상기 열처리 이전 상기 강유전체층을 금속층상에 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
11 11
청구항 10에 있어서,상기 열처리 이전 상기 강유전체층의 형성 이후 상기 강유전체층상에 금속층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
12 12
청구항 10에 있어서,상기 열처리 수행 이후 상기 강유전체층상에 금속층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조 방법
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1 WO2018021709 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

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1 WO2018021709 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 고려대학교 세종산학협력단 산업핵심기술개발사업 고성능 (Endurance 1012, Retention 85℃/105초, 스위칭 시간 15ns 이내) 하프늄옥사이드 강유전체 트랜지스터 메모리 소자 기술개발 및 이론연구