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압연이 완료된 후판의 제1 평탄도가 제1 목표값에 도달하도록 프레스 교정공정을 수행하는 프레스 교정부;상기 프레스 교정부를 통과한 상기 후판의 제2 평탄도가 제2 목표값에 도달하도록 냉간 교정공정을 수행하는 냉간 교정부; 및상기 프레스 교정부 및 상기 냉간 교정부의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제1 평탄도는 선단부 휨 평탄도, C 만곡 평탄도, L 만곡 평탄도 중 어느 하나이고, 상기 제2 평탄도는 웨이브 평탄도인 후판 후물재 교정장치
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제1항에 있어서,상기 프레스 교정부와 상기 냉간 교정부 간에 상기 후판을 이송하는 롤러 테이블; 및상기 롤러 테이블로 이송된 후판을 상기 프레스 교정부 및 상기 냉간 교정부의 기 설정된 지점으로 이동시키는 판 이동설비를 더 포함하는 후판 후물재 교정장치
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제1항에 있어서,상기 후판 후물재 교정장치는,상기 프레스 교정공정 및 상기 냉간 교정공정을 연속적으로 수행하는 후판 후물재 교정장치
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제1항에 있어서,상기 프레스 교정부는,상기 후판의 제1 면단위 평탄도를 측정하는 제1 평탄도계;외부에서 제공된 초기 평탄도와 상기 제1 면단위 평탄도를 비교한 후, 비교결과에 따라 상기 초기 평탄도 또는 상기 제1 면단위 평탄도를 기준 평탄도로 선택하는 기준 평탄도 설정부;상기 기준 평탄도가 상기 제1 목표값에 도달하도록 상기 후판을 가압하여 교정하는 프레스 교정기;상기 프레스 교정기를 통과한 상기 후판의 제1 점단위 평탄도를 측정하는 제2 평탄도계; 및상기 제1 점단위 평탄도와 상기 기준 평탄도와의 차가 제1 목표오차를 초과하는 지 여부를 판단하는 제1 판단부를 포함하는 후판 후물재 교정장치
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제4항에 있어서,상기 프레스 교정부는,상기 제1 점단위 평탄도와 상기 기준 평탄도와의 차가 상기 제1 목표오차를 초과할 경우, 프레스 교정을 재 수행하는 후판 후물재 교정장치
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제1항에 있어서,상기 냉간 교정부는,상기 프레스 교정부를 통과한 상기 후판의 제2 면단위 평탄도를 측정하는 제1 평탄도계;상기 제2 면단위 평탄도가 상기 제2 목표값에 도달하도록 상기 후판을 냉간교정하는 냉간 교정기;상기 냉간 교정기를 통과한 상기 후판의 제2 점단위 평탄도를 측정하는 제2 평탄도계; 및상기 제2 점단위 평탄도와 상기 제2 면단위 평탄도가 제2 목표오차를 초과하는 지 여부를 판단하는 제2 판단부를 포함하는 후판 후물재 교정장치
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제6항에 있어서,상기 냉간 교정부는,상기 제2 점단위 평탄도와 상기 제2 면단위 평탄도와의 차가 상기 제2 목표오차를 초과할 경우, 상기 냉간교정을 재 수행하는 후판 후물재 교정장치
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압연이 완료된 후판의 제1 평탄도가 제1 목표값에 도달하도록 프레스 교정공정을 반복 수행하는 프레스 교정단계; 및상기 프레스 교정단계가 완료된 후판의 제2 평탄도가 제2 목표값에 도달하도록 냉간 교정공정을 반복 수행하는 냉간 교정단계를 포함하고,상기 제1 평탄도는 선단부 휨 평탄도, C 만곡 평탄도, L 만곡 평탄도 중 어느 하나이고, 상기 제2 평탄도는 웨이브 평탄도인 후판 후물재 교정방법
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제8항에 있어서,상기 후판 후물재 교정방법은,상기 프레스 교정단계 및 상기 냉간 교정단계를 연속적으로 수행하는 후판 후물재 교정방법
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제8항에 있어서,상기 프레스 교정단계는,상기 후판의 제1 면단위 평탄도를 측정하는 제1 평탄도 측정단계;외부에서 제공된 초기 평탄도와 상기 제1 면단위 평탄도를 비교한 후, 비교결과에 따라 상기 초기 평탄도 또는 상기 제1 면단위 평탄도를 기준 평탄도로 선택하는 기준 평탄도 설정단계;상기 기준 평탄도가 상기 제1 목표값에 도달하도록 상기 후판을 가압하여 교정하는 1차 교정단계;상기 1차 교정단계를 통과한 상기 후판의 제1 점단위 평탄도를 측정하는 제2 평탄도 측정단계; 및상기 제1 점단위 평탄도와 상기 기준 평탄도와의 차가 제1 목표오차를 초과하는 지 여부를 판단하는 제1 판단단계를 포함하는 후판 후물재 교정방법
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제10항에 있어서,상기 1차 교정단계는,상기 제1 점단위 평탄도와 상기 기준 평탄도와의 차가 상기 제1 목표오차를 초과할 경우, 상기 1차 교정단계를 재 수행하는 후판 후물재 교정방법
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제8항에 있어서,상기 냉간 교정단계는,상기 프레스 교정단계를 통과한 상기 후판의 제2 면단위 평탄도를 측정하는 제1 평탄도 측정단계;상기 제2 면단위 평탄도가 상기 제2 목표값에 도달하도록 상기 후판을 냉간교정하는 2차 교정단계;상기 2차 교정단계를 통과한 상기 후판의 제2 점단위 평탄도를 측정하는 제2 평탄도 측정단계; 및상기 제2 점단위 평탄도와 상기 제2 면단위 평탄도가 제2 목표오차를 초과하는 지 여부를 판단하는 제2 판단단계를 포함하는 후판 후물재 교정방법
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제12항에 있어서,상기 냉간 교정단계는,상기 제2 점단위 평탄도와 상기 제2 면단위 평탄도와의 차가 상기 제2 목표오차를 초과할 경우, 상기 2차 교정단계를 재 수행하는 후판 후물재 교정방법
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제8항에 있어서,상기 후판 후물재 교정방법은,상기 냉간 교정단계 완료 후, 냉간 교정부 후면에서 평탄도를 측정했을 때, 판선단부 휨, C 만곡, L 만곡 등이 교정되지 않고 남아 있을 경우, 냉간 교정이 완료된 판을 프레스 교정부으로 이송하여 상기 프레스 교정단계를 재 수행하는 후속 프레스 교정단계를 더 포함하는 후판 후물재 교정방법
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제14항에 있어서,상기 후판 후물재 교정방법은,상기 후속 프레스 교정이 완료된 판을 냉간교정의 수행을 위하여 냉간교정기로 이송 하려고 할 때, 냉간 교정부에서 다른 판이 교정중인 경우, 판 이동 설비를 이용하여 롤러 테이블로 판을 이송하여 대기한 후, 상기 냉간 교정단계에서 작업이 완료되면 상기 롤러 테이블에서 대기하던 판을 판 이동설비를 이용하여 냉간교정부의 전면으로 이송하고 평탄도를 측정하고 냉간교정을 수행하는 후속 냉간교정단계를 더 포함하는 후판 후물재 교정방법
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