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내부 공간을 가지는 후드;상기 후드 내부 및 외부로 이동 가능하며, 슬라브의 표면을 용융시키는 스카핑 장치;냉각수를 분사하도록 상기 후드 내부에 설치된 노즐;상기 슬라브의 선단부가 상기 후드 내부에서 프리 히팅 위치에 도달했는지 여부를 판단하고, 프리 히팅 위치 도달 여부에 따라 상기 노즐로부터의 냉각수 분사 여부를 제어하는 제어부;를 포함하고,상기 노즐은,상기 후드 내부에 설치되어, 상기 스카핑 장치에 의해 용융된 슬라브 표면을 향해 고압의 냉각수를 분사하는 고압수 노즐; 및상기 후드 내부에 설치되어, 상기 후드 내벽 및 상기 후드 내부에 설치된 스카핑 장치를 포함한 구조체들에 저압수를 분사하는 저압수 노즐;을 포함하는 스카핑 설비
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청구항 1에 있어서,상기 후드 외부에 설치되어, 상기 슬라브의 위치를 감지하는 위치 감지 센서; 및상기 노즐로의 냉각수 공급 여부를 조절하는 밸브를 포함하는 냉각수 조절부;를 포함하고,상기 제어부는 상기 위치 감지 센서로부터 슬라브의 위치 데이타를 전달받아, 상기 슬라브의 선단부가 상기 프리 히팅 위치에 도달했는지 여부를 판단하고, 상기 프리 히팅 위치 도달 여부에 따라 상기 냉각수 조절부의 동작을 조절하여, 상기 노즐로의 냉각수 공급 여부를 조절하는 스카핑 설비
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청구항 2에 있어서,상기 노즐과 연결되어, 상기 노즐로 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 라인을 포함하고,상기 냉각수 공급 라인은,상기 고압수 노즐과 연결된 고압수 공급 라인; 및 상기 저압수 노즐 및 스카핑 장치와 연결된 저압수 공급 라인;을 포함하고,상기 냉각수 조절부는 상기 저압수 공급 라인의 연장 경로 상에 설치된 저압수 조절부를 포함하는 스카핑 설비
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청구항 3에 있어서,상기 냉각수 공급 라인의 연장 경로 상에 설치된 메인 밸브를 포함하고,상기 저압수 조절부는 상기 저압수 노즐 및 스카핑 장치와 상기 메인 밸브 사이에서 상기 저압수 공급 라인의 연통을 제어하는 스카핑 설비
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청구항 4에 있어서,상기 프리 히팅 위치는 상기 후드 내부에서 상기 스카핑 장치가 배치된 위치와 대응하는 위치이고,상기 제어부는 상기 후드로 진입하는 상기 슬라브의 선단부가 상기 스카핑 장치와 대응하는 프리 히팅 위치에 도달하기 전까지 상기 저압수 조절부를 닫고,상기 제어부는 상기 후드로 진입하는 상기 슬라브의 선단부가 상기 스카핑 장치와 대응하는 프리 히팅 위치에 위치할 때, 상기 저압수 조절부를 오픈시켜, 상기 저압수 노즐로부터 냉각수가 분사되도록 하는 스카핑 설비
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청구항 4에 있어서,상기 저압수 조절부는,상기 냉각수 공급 라인의 연장 경로 상에서, 상기 저압수 노즐 및 스카핑 장치와 상기 메인 밸브 사이에 위치하도록 설치된 제 1 밸브;상기 냉각수 공급 라인의 연장 경로 상에서 상기 저압수 노즐 및 스카핑 장치와 상기 제 1 밸브 사이에 위치하도록 설치되어, 상기 저압수 공급 라인의 압력을 검출하는 압력 검출기;상기 제 1 밸브와 연결되어, 상기 압력 검출기에서 측정된 압력에 따라, 상기 제 1 밸브의 오픈 정도를 조절하는 제 2 밸브;를 포함하는 스카핑 설비
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청구항 3 내지 청구항 6 중 어느 한 항에 있어서,상기 후드의 일측 외측에서부터 상기 후드 내부 및 상기 후드의 타측 외측까지 연장 되도록 설치되어, 상기 슬라브를 이송시키는 이송부;상기 고압수 공급 라인의 연장 경로 상에 설치되어, 상기 고압수 노즐로의 냉각수 공급을 조절하는 고압수 조절부;를 포함하고,상기 제어부는 상기 후드, 스카핑 장치, 이송부 및 고압수 조절부의 동작을 제어하는 스카핑 설비
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8
슬라브를 후드 내로 진입시키는 과정;상기 슬라브의 선단부가 상기 후드 내의 프리 히팅 위치에 도달했는지를 검출하는 과정;상기 슬라브의 선단부가 상기 프리 히팅 위치에 도달한 것으로 판단되면, 저압의 냉각수 분사를 시작하는 과정;을 포함하고, 상기 프리 히팅 위치는 상기 후드 내에 배치되어, 상기 슬라브의 표면을 용융시키는 스카핑 장치가 설치된 주변 공간이며,상기 슬라브의 선단부가 상기 프리 히팅 위치에 도달한 것으로 판단되면, 상기 후드 내에 설치된 저압수 노즐로부터 상기 후드 내벽 및 상기 후드 내에 위치된 스카핑 장치를 포함한 구조체들을 향해 저압의 냉각수를 분사하기 시작하고,상기 프리 히팅이 종료되면, 상기 스카핑 장치를 동작시켜, 상기 슬라브 표면을 용융시키고, 상기 슬라브 표면을 향해 냉각수를 분사하는 스카핑 과정을 포함하는 스카핑 방법
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삭제
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청구항 8에 있어서,상기 프리 히팅시키는 과정 전에,상기 후드 내로 이동중인 슬라브의 선단부가 상기 스카핑 장치를 지나 상기 프리 히팅 위치의 전방 위치인 클로징 위치에 도달했는지를 검출하는 과정;상기 슬라브의 선단부가 상기 클로징 위치에 도달하면, 상기 슬라브 표면과 인접하도록 스카핑 장치를 상기 슬라브를 향해 이동시키는 클로징 과정; 및상기 클로징 과정 후에, 상기 슬라브를 상기 프리 히팅 위치를 향해 후진시키는 과정;을 포함하는 스카핑 방법
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11
청구항 10에 있어서,상기 슬라브가 상기 후드 내로 진입하고, 상기 슬라브의 선단이 프리 히팅 위치에 도달하기 전까지 상기 저압수 노즐로부터의 냉각수 분사를 중지시키고,상기 슬라브의 선단이 상기 프리 히팅 위치에 도달했을 때부터, 상기 슬라브의 스카핑이 종료될때까지 상기 저압수 노즐로부터의 냉각수를 분사하는 스카핑 방법
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12
청구항 10 또는 청구항 11에 있어서,상기 슬라브 표면을 향해 분사되는 냉각수에 비해, 상기 저압수 노즐로부터 분사된 상기 후드 내벽 및 상기 후드 내에 위치된 스카핑 장치를 포함한 구조체들을 향해 분사되는 냉각수의 압력이 상대적으로 낮은 스카핑 방법
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