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표면 플라즈몬 공명 이미징을 위한 광학적 미분조사 방법에 있어서,제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계;상기 제1 입사광에 따른 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 입사광에 따른 제2 반사광의 세기를 검출하는 단계; 및상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이를 이용하여 상기 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제1항에 있어서,상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이를 이용하여 상기 시료를 식별하는 단계는상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 0(zero)가 되는 제1 각도를 검출하는 단계, 그리고상기 제1 각도에 대응하는 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제2항에 있어서,상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이를 이용하여 상기 시료를 식별하는 단계는상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 양수인 제2 각도 및 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 음수인 제3 각도를 검출하는 단계, 그리고상기 제2 각도와 상기 제3 각도에 기반하여 상기 제1 각도를 검출하는 단계를 포함하는방법
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제1항에 있어서,상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이를 이용하여 상기 시료를 식별하는 단계는제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이의 크기를 판단하는 단계, 그리고상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이의 크기에 기반하여 상기 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제4항에 있어서,상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이의 크기가 임계값 이하인 경우, 상기 제4 각도로부터 기 설정된 제1 간격만큼 이격된 제5 각도를 확인하는 단계, 그리고상기 제5 각도에 대응하는 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 0인 경우, 상기 제5 각도에 대응하는 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제4항에 있어서,상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이의 크기가 임계값 이상이면서 상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 양수인 경우, 상기 제4 각도보다 기 설정된 제2 간격만큼 큰 제6 각도를 확인하는 단계, 그리고상기 제6 각도에 대응하는 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 0인 경우, 상기 제6 각도에 대응하는 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제4항에 있어서,상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이의 크기가 임계값 이상이면서 상기 제4 각도에서의 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 음수인 경우, 상기 제4 각도보다 기 설정된 제2 간격만큼 작은 제7 각도를 확인하는 단계, 그리고상기 제7 각도에 대응하는 상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 차이가 0인 경우, 상기 제7 각도에 대응하는 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제6항 또는 제7항에 있어서,상기 제1 간격은 상기 제2 간격보다 큰방법
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제8항에 있어서,상기 임계값은 상기 제1 입사광 및 상기 제2 입사광에 대한 전반사 영역에서, 상기 제1 입사광과 상기 제2 입사광의 차이값에 대응되는방법
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제3항에 있어서,상기 제1 반사광의 세기와 상기 제2 반사광의 세기를 각도에 대하여 미분하는 단계;상기 미분 값이 음수인 제8 각도 및 제9 각도를 식별하는 단계; 및상기 제8 각도 및 상기 제9 각도에 기반하여 상기 제1 각도를 검출하는 단계를 포함하는방법
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표면 플라즈몬 공명 이미징을 위한 광학적 미분조사 방법에 있어서,제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계;상기 제1 입사광에 따른 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 입사광에 따른 제2 반사광의 세기를 검출하는 단계; 및상기 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 반사광의 세기의 합을 이용하여 상기 시료를 식별하는 단계를 포함하는방법
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제11항에 있어서,상기 제1 파장과 상기 제2 파장 사이의 간격은 상기 제1 입사광의 파장 범위의 제1 반치 폭 및 상기 제2 입사광의 파장 범위의 제2 반치 폭보다 큰방법
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제11항에 있어서,상기 제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계는 파장 가변 광원을 이용하여 상기 제1 입사광 및 상기 제2 입사광을 입사시키는 단계를 포함하는방법
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제11항에 있어서,상기 제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계는 상기 제1 입사광 및 제2 입사광을 각각 서로 다른 광원으로부터 광섬유 결합기를 통하여 결합시키는 단계, 그리고상기 결합된 제1 입사광 및 상기 제2 입사광을 단일 광섬유를 통하여 시료 상에 입사시키는 단계를 포함하는방법
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제11항에 있어서,상기 제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계는 상기 제1 입사광 및 상기 제2 입사광을 서로 다른 광원으로부터 공간 상에서 파장 다중 결합 필터를 이용하여 동일 경로 상에서 상기 시료 상에 중첩되도록 입사시키는 단계를 포함하는방법
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제11항에 있어서,상기 제1 입사광에 따른 제1 반사광의 세기 및 상기 제2 입사광에 따른 제2 반사광의 세기를 검출하는 단계는 상기 제1 반사광 및 상기 제2 반사광이 파장 분배기에 의해 분기되어 서로 다른 검출기 또는 서로 다른 카메라를 통해 검출되는 단계를 포함하는방법
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제16항에 있어서,상기 제1 파장의 제1 입사광 및 제2 파장의 제2 입사광을 입사 각도를 변화시키며 시료에 대하여 입사시키는 단계는 상기 제1 입사광 및 상기 제2 입사광을 상기 검출기 또는 상기 카메라의 검출 속도에 대응하는 시간 차를 두고 순차적으로 상기 시료에 입사시키는 단계를 포함하는방법
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