요약 | 반도체 소자에서의 불순물 활성화 방법이 개시된다. 상기 불순물 활성화 방법은 (a) 반도체 기판에 불순물을 주입하는 단계, (b) 상기 반도체 기판을 500℃ 내지 550℃에서 열처리하여 상기 불순물을 제1차 활성화하는 단계, 및 (c) 상기 불순물이 주입된 반도체 기판의 표면에 가시광 레이저를 조사하여 상기 불순물을 제2차 활성화하는 단계를 포함한다. |
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Int. CL | H01L 21/324 (2017.01.01) H01L 21/22 (2006.01.01) H01L 21/268 (2006.01.01) |
CPC | H01L 21/324(2013.01) H01L 21/324(2013.01) H01L 21/324(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020180078879 (2018.07.06) |
출원인 | 고려대학교 산학협력단 |
등록번호/일자 | |
공개번호/일자 | 10-2020-0005310 (2020.01.15) 문서열기 |
공고번호/일자 | |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 거절 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2018.07.06) |
심사청구항수 | 6 |