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안테나를 통해 송신한 전파주파수에 대한 반사주파수의 신호를 분석하여 검출 영역을 다수 개의 셀(lⅹm, 여기서, l 및 m은 자연수)로 나누고,상기 검출 영역의 각 셀에 순차적으로 전파빔을 송신하고,상기 검출 영역의 각 셀별로 측정된 전파빔의 신호값을 목표 매트릭스(lⅹm)에 대응되는 각 셀에 저장하고,가중치의 중앙값이 주변값보다 큰 값을 갖는 가중치 매트릭스(nⅹn, 여기서, n은 l 및 m과 같거나 작은 자연수)를 생성하여 상기 목표 매트릭스의 각 셀의 신호값에 상기 가중치 매트릭스를 적용하고, 상기 가중치 매트릭스가 적용된 결과 매트릭스 중 최대값을 가지는 셀을 타겟의 동작위치로 검출하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 1 항에 있어서,상기 목표 매트릭스의 각 셀의 신호값에 상기 가중치 매트릭스를 적용하는 것은,상기 가중치 매트릭스의 중앙값은 상기 목표 매트릭스의 목표셀에 적용되어 결과값을 산출하고,상기 가중치 매트릭스의 주변값은 상기 목표 매트릭스의 목표셀의 주변 셀들에 적용되어 결과값을 산출하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 2 항에 있어서,상기 결과 매트릭스 중 최대값을 가지는 셀을 타겟의 동작위치로 검출하는 것은,상기 목표 매트릭스의 각 셀이 상기 가중치 매트릭스의 적용으로 인해 결과값이 산출되면, 각 셀과 목표셀의 주변값을 더하여 최종 결과값을 산출하고,상기 목표 매트릭스의 각 셀에 저장된 각 최종 결과값에 따라 상기 결과 매트릭스를 생성하여 동작위치를 검출하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 1 항에 있어서,상기 목표 매트릭스는,상기 목표 매트릭스의 모서리에 존재하는 셀, 상기 모서리를 제외한 최외각에 존재하는 셀, 상기 모서리와 최외각을 제외한 중앙에 존재하는 셀로 나뉘는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 4 항에 있어서,상기 모서리에 존재하는 셀 및 상기 모서리를 제외한 최외각에 존재하는 셀의 각 신호값에 추가 가중치값을 부여하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 1 항에 있어서,상기 검출 영역은,상기 안테나가 움직이는 물체를 감지한 경우, 상기 물체의 주변을 상기 전파주파수로 스캐닝하는 공간이고,상기 검출 영역에 송신한 전파빔의 세기가 반이 되는 지점을 기준으로 공간을 나누어 각 셀을 형성하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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제 1 항에 있어서,상기 목표 매트릭스는,상기 검출 영역의 각 셀의 신호값을 저장할 수 있도록 상기 검출 영역의 다수 개의 셀과 대응하는 매트릭스로 생성하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 방법
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안테나를 통해 송신한 전파주파수에 대한 반사주파수의 신호를 분석하고, 다수 개의 셀(lⅹm, 여기서, l 및 m은 자연수)로 나누어 검출 영역을 생성하는 검출 영역 생성부;상기 검출 영역의 각 셀별로 측정된 전파빔의 신호값에 대응되는 목표 매트릭스(lⅹm)를 생성하고, 상기 신호값을 상기 목표 매트릭스에 매칭되는 셀에 저장하는 제1 매트릭스 생성부;상기 제1매트릭스에서 생성한 상기 목표 매트릭스의 각 셀의 신호값에 가중치를 부여하는 가중치 매트릭스(nⅹn, n은 l 및 m과 같거나 작은 자연수)를 생성하는 제2 매트릭스 생성부;상기 가중치 매트릭스가 적용된 결과 매트릭스 중 최대값을 가지는 셀을 타겟의 동작위치로 검출하는 검출부;를 포함하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 8 항에 있어서,상기 제2 매트릭스 생성부는,상기 가중치 매트릭스의 중앙값은 상기 목표 매트릭스의 목표셀과 적용되어 결과값을 산출하는 제1 결과산출부; 및상기 가중치 매트릭스의 주변값은 상기 목표 매트릭스의 목표셀의 주변 셀들과 적용되어 결과값을 산출하는 제2 결과산출부;를 포함하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 9 항에 있어서,상기 제2 매트릭스 생성부는,상기 목표 매트릭스의 각 셀이 상기 가중치 매트릭스의 적용으로 인해 결과값이 산출되면, 상기 목표 매트릭스의 목표셀에 해당하는 상기 제1 결과산출부에서 산출하는 결과값과 상기 제2 결과산출부에서 산출하는 결과값을 더하여 최종 결과값을 산출하는 제3 결과산출부; 및상기 목표 매트릭스의 각 셀에 저장된 각 최종 결과값에 따라 상기 결과 매트릭스를 생성하는 제4 결과산출부;를 더 포함하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 8 항에 있어서,상기 목표 매트릭스는,상기 목표 매트릭스의 모서리에 존재하는 셀, 상기 모서리를 제외한 최외각에 존재하는 셀, 상기 모서리와 최외각을 제외한 중앙에 존재하는 셀로 나뉘는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 11 항에 있어서,상기 모서리에 존재하는 셀 및 상기 모서리를 제외한 최외각에 존재하는 셀의 각 신호값에 추가 가중치값을 부여하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 8 항에 있어서,상기 검출 영역은,상기 안테나가 움직이는 물체를 감지한 경우, 상기 물체의 주변을 상기 전파주파수로 스캐닝하는 공간이고,상기 검출 영역에 송신한 전파빔의 세기가 반이 되는 지점을 기준으로 공간을 나누어 각 셀을 형성하는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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제 8 항에 있어서,상기 목표 매트릭스는 상기 검출 영역의 각 셀의 신호값을 저장할 수 있도록 상기 검출 영역의 다수 개의 셀과 대응하는 매트릭스로 생성하고,상기 가중치 매트릭스는 가중치의 중앙값이 주변값보다 큰 값을 갖는, 빔 스캐닝 분석시 가중치를 적용하는 동작위치 검출 장치
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