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물, MEG(mono-ethylene glycol), 고용해도 염, 저용해도 염을 포함하는 원료에서 MEG를 회수하는 장치로서,원료 공급부로부터 상기 원료를 공급받아 상기 저용해도 염을 제거하는 전처리부;상기 전처리부에 연결되고, 상기 저용해도 염이 제거된 상기 원료를 공급받아 상기 물을 기화시켜 처리용액을 생성하는 증류부;상기 증류부와 연결되고, 상기 처리용액의 적어도 일부를 공급받아 기화시키는 플래쉬 드럼부; 상기 플래쉬 드럼부와 연결되고, 상기 처리용액 내의 상기 고용해도 염을 제거하는 고용해도 염 제거부;상기 플래쉬 드럼부와 연결되고, 기화된 MEG를 추출하는 추출부; 및상기 증류부 및 상기 추출부와 연결되고, MEG를 회수하는 회수부를 포함하고상기 증류부는,증기 이젝터; 및상기 증류부 및 상기 증기 이젝터와 연결되고, 상기 증류부에서 기화된 물 일부가 유입되어 고압증기를 만드는 압출부를 포함하고,상기 압출부에서 만들어진 고압증기는 상기 증기 이젝터로 이송되며,상기 증기 이젝터는, 상기 증류부에서 기화된 물, 외부의 고압증기, 및 상기 압출부로부터 만들어지는 고압증기가 유입되어 상기 증류부 내부를 저진공 상태로 유지하는, MEG 회수장치
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제1항에 있어서,상기 저진공 상태는 0
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제1항에 있어서,상기 증류부의 가열온도는 상기 물의 끓는점보다 높고, 상기 MEG의 끓는점보다 낮은, MEG 회수장치
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제7항에 있어서,상기 증류부의 가열온도는 120℃ 내지 130℃인, MEG 회수장치
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제1항에 있어서,상기 고용해도 염은 1가염, 상기 저용해도 염은 2가염인, MEG 회수 장치
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물, MEG(mono-ethylene glycol), 고용해도 염, 저용해도 염을 포함하는 원료에서 MEG를 회수하는 방법으로서,(a) 상기 원료에서 상기 저용해도 염을 제거하는 단계;(b) 상기 저용해도 염이 제거된 상기 원료에서 상기 물을 기화시켜 처리용액을 생성하는 단계;(c) 상기 처리용액 내의 상기 고용해도 염을 제거하는 단계;(d) 상기 고용해도 염이 제거된 기화된 MEG를 추출하는 단계; 및 (e) 상기 MEG를 회수하는 단계를 포함하고,증류부는, 증기 이젝터; 및 상기 증류부 및 상기 증기 이젝터와 연결되고, 상기 증류부에서 기화된 물 일부가 유입되어 고압증기를 만드는 압출부를 포함하고,상기 압출부에, 상기 증류부에서 기화된 물 일부가 유입되어 고압증기가 만들어지고, 만들어진 고압증기가 상기 증기 이젝터로 이송되며,상기 (b) 단계는, 상기 증류부에서 기화된 물, 외부의 고압증기, 및 상기 압출부로부터 만들어지는 고압증기가 상기 증기 이젝터로 유입되어 저진공 상태에서 진행되는, MEG 회수방법
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제10항에 있어서,상기 저진공 상태는 0
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제10항에 있어서,상기 (b) 단계에서, 상기 물의 기화를 위한 가열온도는 상기 물의 끓는점보다 높고, 상기 MEG의 끓는점보다 낮은, MEG 회수방법
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제13항에 있어서,상기 가열 온도는 120℃ 내지 130℃인, MEG 회수방법
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제10항에 있어서,상기 고용해도 염은 1가염, 상기 저용해도 염은 2가염인, MEG 회수방법
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