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광을 발생하는 광 발생기;상기 광을 선형 편광하는 제1 선형 편광자;상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고, 상기 제1 광 및 상기 제2 광이 공간적 위상 차이 정보를 갖도록 하는 편광 간섭계;측정 대상물을 투과 또는 반사한 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 수광하고 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 선형 편광하여, 상기 측정 대상물의 이방성 정보가 포함된 공간 주파수를 갖는 간섭 이미지 패턴을 생성하는 제2 선형 편광자; 및상기 제2 선형 편광자로부터 상기 간섭 이미지 패턴을 촬영하는 이미지 센싱 모듈을 포함하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 편광 간섭계는:상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고, 상기 제1 광 및 상기 제2 광이 각각 입사되고 서로 인접하는 제1 면 제2 면을 갖는 편광 빔 스플리터; 상기 제1 면 상에 배치된 제1 미러; 및상기 제2 면 상에 배치된 제2 미러를 포함하는 검사 장치
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청구항 2에 있어서,상기 제1 미러와 상기 제2 미러는 수직에서 벗어나는 각도를 갖는 검사 장치
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청구항 3에 있어서,상기 벗어나는 각도는 0
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청구항 2에 있어서,상기 제1 선형 편광자와 상기 편광 빔 스플리터 사이에 배치된 제1 비편광 빔 스플리터를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 5에 있어서,상기 제1 비편광 빔 스플리터와 상기 측정 대상물 사이에 배치된 제2 비편광 빔 스플리터를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 6에 있어서,상기 제2 선형 편광자는 상기 제2 비편광 빔 스플리터의 일 측에 배치된 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 광 발생기로부터의 상기 광을 수광하여 평행 광으로 변환하는 평행 광 렌즈를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제2 선형 편광자 및 상기 이미지 센싱 모듈 사이에 배치된 수광 렌즈를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 1에 있어서,상기 광 발생기로부터의 상기 광은 단색 광인 검사 장치
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광을 발생하는 광 발생기;상기 광을 선형 편광하는 제1 선형 편광자;상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고, 상기 제1 광 및 상기 제2 광이 각각 입사되고 서로 인접하는 제1 면 제2 면을 갖는 빔 스플리터;상기 제1 면 및 상기 제2 면 상에 각각 배치된 제1 미러 및 제2 미러;상기 빔 스플리터로부터의 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 수광하여, 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 선형 편광하는 제2 선형 편광자; 및 상기 제2 선형 편광자로부터의 간섭 이미지를 촬영하는 이미징 센싱 모듈을 포함하되,상기 제1 미러와 상기 제2 미러는 수직에서 벗어나는 각도를 갖는 검사 장치
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청구항 11에 있어서,상기 벗어나는 각도는 0
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청구항 11에 있어서,상기 빔 스플리터는 편광 빔 스플리터인 검사 장치
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청구항 13에 있어서,상기 제1 선형 편광자와 상기 편광 빔 스플리터 사이에 배치되는 비편광 빔 스플리터를 더 포함하는 검사 장치
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청구항 11에 있어서,상기 광 발생기로부터의 상기 광은 단색 광인 검사 장치
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광을 선형 편광하고;상기 선형 편광된 광을 제1 광 및 제2 광으로 분리하고;상기 제1 광 및 상기 제2 광이 공간적 위상 차이를 갖도록 하고;상기 공간적 위상 차이를 갖는 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 측정 대상물에 조사하고;상기 측정 대상물로부터의 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 수광하고, 상기 제1 광 및 상기 제2 광을 선형 편광하고; 그리고상기 선형 편광된 상기 제1 광 및 상기 제2 광으로부터 상기 측정 대상물의 간섭 이미지 패턴을 촬영하는 것을 포함하는 검사 방법
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청구항 16에 있어서,상기 광은 단색 광인 검사 방법
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청구항 16에 있어서,상기 제1 광 및 상기 제2 광은 각각 P- 편광파 및 S- 편광파인 검사 방법
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청구항 16에 있어서,상기 간섭 편광 이미지 패턴은 스냅샷 방식으로 촬영되는 검사 방법
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청구항 16에 있어서,상기 광의 파장은 가변되는 검사 방법
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