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플라즈마 식각 방법

  • 기술번호 : KST2020001739
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 플라즈마 식각 방법은 식각 대상이 배치된 플라즈마 챔버에 헥사플루오로이소프로판올(Hexafluoroisopropanol, HFIP) 가스 및 아르곤 가스를 제공하여, 식각 대상을 플라즈마 식각하는 단계를 포함한다.
Int. CL H01L 21/3065 (2006.01.01) H01L 21/311 (2006.01.01) H01L 21/3213 (2006.01.01)
CPC H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01) H01L 21/3065(2013.01)
출원번호/일자 1020180086632 (2018.07.25)
출원인 아주대학교산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0011767 (2020.02.04) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.07.25)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 아주대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 영통구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창구 서울특별시 송파구
2 김준현 경기도 성남시 중원구
3 박진수 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남건필 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2 차상윤 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3 박종수 대한민국 서울특별시 영등포구 경인로 ***, *동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2018-0735950-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.09.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.11.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0128212-14
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.11.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0858108-73
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.01.28 수리 (Accepted) 1-1-2020-0085745-94
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.01.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0085746-39
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.04.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0292728-64
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견서·답변서·소명서
2020.06.29 수리 (Accepted) 1-1-2020-0668891-15
9 심사처리보류(연기)보고서
Report of Deferment (Postponement) of Processing of Examination
2020.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2020-0160854-70
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번호 청구항
1 1
식각 대상이 배치된 플라즈마 챔버에 헥사플루오로이소프로판올(Hexafluoroisopropanol, HFIP) 가스 및 아르곤 가스를 제공하여, 식각 대상을 플라즈마 식각하는 단계를 포함하는,플라즈마 식각 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 헥사플루오로이소프로판올 가스 및 상기 아르곤 가스는 1:1 내지 1:9의 유량비로 제공하는 것을 특징으로 하는,플라즈마 식각 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 헥사플루오로이소프로판올 가스 및 상기 아르곤 가스는 1:1
4 4
제3항에 있어서,상기 헥사플루오로이소프로판올 가스 및 상기 아르곤 가스는 1:2의 유량비로 제공하는 것을 특징으로 하는,플라즈마 식각 방법
5 5
제1항에 있어서,상기 식각 대상은 실리콘의 산화물 및 질화물 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는,플라즈마 식각 방법
6 6
제1항에 있어서,상기 식각 대상은 홀 패턴 마스크가 형성된 실리콘의 산화물 및 질화물 중 적어도 어느 하나이고,상기 플라즈마 식각하는 단계에서, 고종횡비 식각 구조물이 형성되는 것을 특징으로 하는,플라즈마 식각 방법
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20200035502 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2020035502 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 아주대학교 중견연구(총연구비0.5억이상~3억이하) 콘택홀 직경 조절과 고종횡비 비등방성 식각의 동시 구현이 가능한 다중순환 플라즈마 식각
2 산업통상자원부 아주대학교산학협력단 에너지수요관리핵심기술개발(에특)(R&D) PFC 가스 대체용 Fluoro-ether 및 Fluoro-alcohol 계열 Precursor를 이용한 식각공정 기술 개발