| 1 |
1
스피넬 분말, 이트리아, 분산제, pH 조절제, 및 물을 혼합하여 제조된 원료 슬러리를 볼 밀링한 후 분산시키고, 분산된 원료 슬러리를 성형하여 형성된 성형체가 상압 소결되어 1차 소결체가 제조되고, 상기 1차 소결체를 열간 정수압 소결법으로 1,000℃ 내지 1,500℃ 온도에서 소결하여 형성되며,상기 이트리아는 전체 스피넬 분말 100mol%를 기준으로 0
|
| 2 |
2
삭제
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,상기 볼 밀링은 12시간 내지 48시간 동안 이루어지며, 상기 볼 밀링 후 상기 원료 슬러리는 50MPa 내지 120MPa 압력으로 나노 분산되는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 성형체는 슬립 캐스팅법을 통하여 원료 슬러리를 성형하여 형성되는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 성형체는 1,450℃ 내지 1,550℃온도에서 1시간 내지 3시간 동안 상압 소결되는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬
|
| 6 |
6
삭제
|
| 7 |
7
(a) 스피넬 분말, 이트리아, 분산제, pH 조절제, 및 물을 혼합하여 원료 슬러리를 제조하는 단계;(b) 상기 원료 슬러리를 볼 밀링한 후, 분산시키는 단계;(c) 상기 (b) 단계를 통해 분산된 원료 슬러리를 성형하여 성형체를 형성하는 단계;(d) 상기 성형체를 상압 소결하여 1차 소결체를 제조하는 단계; 및(e) 상기 1차 소결체를 열간 정수압 소결법으로 1,000℃ 내지 1,500℃ 온도에서 소결하는 단계;를 포함하며,상기 이트리아는, 전체 스피넬 분말 100mol%를 기준으로 0
|
| 8 |
8
삭제
|
| 9 |
9
제7항에 있어서,상기 (b) 단계는,상기 원료 슬러리를 12시간 내지 48시간 동안 볼 밀링하는 볼 밀링 단계; 및상기 볼 밀링 단계를 거친 원료 슬러리를 50MPa 내지 120MPa 압력으로 나노 분산시키는 나노 분산 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬 제조 방법
|
| 10 |
10
제7항에 있어서,상기 (c) 단계는,슬립 캐스팅법을 통하여 원료 슬러리를 성형하여 성형체를 형성하는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬 제조 방법
|
| 11 |
11
제7항에 있어서,상기 (d) 단계는,상기 성형체를 1,450℃ 내지 1,550℃온도에서 1시간 내지 3시간 동안 상압 소결하는 것을 특징으로 하는 적외선 투과 스피넬 제조 방법
|
| 12 |
12
삭제
|
