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피드백 루프 동작을 이용하는 피드백 전계효과 전자소자 및 이를 이용한 배열 회로

  • 기술번호 : KST2020002197
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 피드백 루프 동작을 이용하는 피드백 전계효과 전자소자 및 이를 이용한 배열 회로를 개시한다. 본 발명의 일실시예에 따르면 배열 회로는 다이오드 구조체의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 전자소자를 포함하고, 상기 다이오드 구조체는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고, 상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며, 상기 비트 라인, 상기 제1 워드 라인 및 상기 제2 워드 라인에 선택적으로 전압을 인가하여 임의 접근(random access) 동작을 수행할 수 있다.
Int. CL G11C 11/39 (2006.01.01) H01L 27/06 (2006.01.01)
CPC G11C 11/39(2013.01) G11C 11/39(2013.01)
출원번호/일자 1020180106114 (2018.09.05)
출원인 고려대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0027821 (2020.03.13) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.09.05)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상식 서울특별시 강남구
2 조경아 서울특별시 광진구
3 조진선 서울특별시 노원구
4 임두혁 서울특별시 송파구
5 우솔아 경기도 과천시 별양로 **,

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 고려대학교 산학협력단 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.09.05 수리 (Accepted) 1-1-2018-0884385-76
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2018.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2018-0916292-13
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.10.10 수리 (Accepted) 4-1-2019-5210941-09
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2020.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0037373-90
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2020.02.10 수리 (Accepted) 1-1-2020-0136700-25
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2020.02.10 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2020-0136706-09
7 등록결정서
Decision to grant
2020.06.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0411208-48
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
다이오드 구조체의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 전자소자를 포함하고,상기 다이오드 구조체는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고,상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며,상기 비트 라인, 상기 제1 워드 라인 및 상기 제2 워드 라인에 선택적으로 전압을 인가하여 임의 접근(random access) 동작을 수행하고,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 워드 라인을 통해 제1 게이트 전압을 인가 받고, 상기 제2 워드 라인을 통하여 인가된 제2 게이트 전압을 상기 접근 전자소자를 통해 인가 받으며, 상기 비트 라인의 전압 크기가 기준 전압보다 클 경우, 제1 논리 상태의 데이터를 저장하고, 상기 비트 라인의 전압 크기가 상기 기준 전압보다 작을 경우, 제2 논리 상태의 데이터를 저장하는배열 회로
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 워드 라인과 상기 접근 전자소자를 통하여 상기 제1 게이트 전압 및 상기 제2 게이트 전압이 인가되지 않고, 상기 비트 라인의 전압 크기가 상기 기준 전압보다 클 경우, 상기 저장된 데이터를 유지하는배열 회로
4 4
제3항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 게이트 전압이 제1 문턱 전압보다 높을 경우, 상기 제1 게이트 전압을 제1 상태로 인식하고, 상기 제2 게이트 전압이 제2 문턱 전압보다 높을 경우, 상기 제2 게이트 전압을 상기 제1 상태로 인식하는배열 회로
5 5
제1항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제2 게이트 전압만이 인가되고, 상기 비트 라인의 전압 크기가 상기 기준 전압보다 클 경우, 상기 소오스 영역을 통하여 상기 소오스 라인으로 전류를 출력하는배열 회로
6 6
제5항에 있어서,상기 출력된 전류의 크기가 기준 전류보다 클 경우, 상기 저장된 데이터의 상태는 제1 논리 상태이고, 상기 출력된 전류의 크기가 상기 기준 전류보다 작을 경우, 상기 저장된 데이터의 상태는 제2 논리 상태인배열 회로
7 7
다이오드 구조체의 소오스 영역과 접근 전자소자의 드레인 영역이 직렬 연결된 복수의 피드백 전계효과 전자소자를 포함하고,상기 다이오드 구조체는 비트 라인 및 제1 워드 라인과 연결되고,상기 접근 전자소자는 소오스 라인 및 제2 워드 라인과 연결되며,상기 비트 라인, 상기 제1 워드 라인 및 상기 제2 워드 라인에 선택적으로 전압을 인가하여 임의 접근(random access) 동작을 수행하고,상기 다이오드 구조체는 제1 소오스 영역, 제1 드레인 영역, 상기 제1 소오스 영역과 상기 제1 드레인 영역 사이에 배치된 진성 영역 및 상기 진성 영역과 상기 제1 드레인 영역 사이에 배치된 장벽영역, 상기 진성 영역을 둘러싸도록 배치되는 제1 게이트 전극을 포함하고,상기 접근 전자 소자는 제2 소오스 영역, 제2 드레인 영역, 게이트 영역 및 상기 게이트 영역을 둘러싸도록 배치되는 제2 게이트 전극을 포함하고, 상기 제2 드레인 영역이 상기 제1 소오스 영역과 직렬로 연결되는배열 회로
8 8
제7항에 있어서,상기 제1 드레인 영역은 비트 라인에 연결되고,상기 제2 소오스 영역은 소오스 라인에 연결되며,상기 제1 게이트 전극은 제1 워드 라인에 연결되고,상기 제2 게이트 전극은 제2 워드 라인에 연결되는배열 회로
9 9
제8항에 있어서,상기 접근 전자소자는 수직 방향으로, 상기 소오스 라인 상에 상기 제2 소오스 영역이 형성되고, 상기 게이트 영역이 형성된 후, 상기 제2 게이트 전극을 통하여 상기 제2 워드 라인이 연결되고, 상기 제2 드레인 영역이 형성되며, 상기 제2 드레인 영역 상에 상기 제1 소오스 영역이 형성되어 직렬 연결되는배열 회로
10 10
제9항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 수직 방향으로, 상기 제1 소오스 영역 상에 상기 진성 영역이 형성된 후, 상기 제1 게이트 전극을 통하여 상기 제1 워드 라인이 연결되고, 상기 진성 영역 상에 상기 장벽 영역이 형성되며, 상기 장벽 영역 상에 상기 제1 드레인 영역이 형성되고, 상기 제1 드레인 영역에 비트 라인이 연결되는배열 회로
11 11
제8항에 있어서,상기 다이오드 구조체는 상기 제1 워드 라인과 상기 제2 워드 라인을 통하여 게이트 전압을 인가받은 경우, 상기 비트 라인의 전압 크기에 기초하여 데이터를 저장하는배열 회로
12 12
제7항에 있어서,상기 피드백 전계효과 전자 소자는 상기 제1 게이트 전극과 상기 진성 영역 사이에 배치되는 제1 게이트 절연막; 및상기 제2 게이트 전극과 상기 게이트 영역 사이에 배치되는 제2 게이트 절연막을 더 포함하는배열 회로
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1 CN110880347 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 US2020075077 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 과학기술정보통신부 고려대학교 산학협력단 전자정보디바이스산업원천기술개발사업 인공지능용 feedback Si channel 1T-SRAM의 공정 및 구조 최적화 기술 개발