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리튬 이차 전지용 후막 전극 및 리튬 이차 전지

  • 기술번호 : KST2020002271
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 리튬 이차전지용 후막 전극이 개시된다. 본 발명의 실시 예에 따른 리튬 이차전지용 후막 전극은, 양극 활물질을 포함하는 양극, 및, 음극 활물질을 포함하는 음극을 포함하고, 상기 양극 및 상기 음극은, 250 μm 내지 1500 μm의 두께를 가지며, 레이저 식각되어 표면에 하나 이상의 홈이 형성된다.
Int. CL H01M 4/13 (2010.01.01) H01M 10/052 (2010.01.01) B23K 26/364 (2014.01.01) H01M 4/02 (2006.01.01)
CPC H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01) H01M 4/13(2013.01)
출원번호/일자 1020190035426 (2019.03.27)
출원인 광주과학기술원
등록번호/일자 10-2086783-0000 (2020.03.03)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20200309) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020200026637;
심사청구여부/일자 Y (2019.04.23)
심사청구항수 14

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형진 광주광역시 북구
2 전찬영 광주광역시 북구
3 박준수 광주광역시 북구
4 정성호 광주광역시 북구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김기문 대한민국 서울시 강남구 역삼로 *** *층 (역삼동 현죽빌딩)(한미르특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 광주과학기술원 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2019.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2019-0316324-14
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.04.23 수리 (Accepted) 1-1-2019-0417147-20
3 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2019.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2019-0944875-67
4 [우선심사신청]선행기술조사의뢰서
[Request for Preferential Examination] Request for Prior Art Search
2019.09.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2019.09.23 수리 (Accepted) 9-1-2019-0043856-19
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0700177-08
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.11.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1195347-37
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.11.20 수리 (Accepted) 1-1-2019-1195346-92
9 등록결정서
Decision to grant
2019.12.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0879214-41
10 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2020.03.03 수리 (Accepted) 1-1-2020-0226777-63
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
집전체 상에 형성되고 양극 활물질을 포함하는 양극; 및집전체 상에 형성되고 음극 활물질을 포함하는 음극을 포함하고,상기 양극 및 상기 음극은,500 μm 내지 1500 μm의 두께를 가지며, 레이저 식각되어 표면에 하나 이상의 홈이 형성되고,상기 양극 및 상기 음극의 한계 두께는, 미 가공된 전극의 한계 두께보다 크고,상기 양극 및 상기 음극의 단위 면적 당 전극 용량이 최대 값을 나타내는 전극의 두께는, 미 가공된 전극의 단위 면적 당 전극 용량이 최대 값을 나타내는 전극의 두께보다 큰리튬 이차전지용 후막 전극
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서,상기 하나 이상의 홈의 깊이는,상기 양극 및 상기 음극의 두께의 1% 내지 100%인리튬 이차전지용 후막 전극
4 4
제 3항이 있어서상기 하나 이상의 홈의 깊이는,상기 양극 및 상기 음극의 두께의 100%인리튬 이차전지용 후막 전극
5 5
제 1항에 있어서,상기 양극 및 상기 음극은,레이저 식각되어 표면에 일정한 간격의 복수의 홈이 형성되고,상기 일정한 간격은, 10 μm 내지 1000 μm인리튬 이차전지용 후막 전극
6 6
제 5항에 있어서상기 일정한 간격은, 10 μm 내지 200 μm인리튬 이차전지용 후막 전극
7 7
제 3항에 있어서,상기 하나 이상의 홈의 깊이는,방전 전류 속도(C-rate)가 0
8 8
제 5항에 있어서,상기 일정한 간격은,방전 전류 속도(C-rate)가 0
9 9
제 1항에 있어서,상기 후막 전극은,방전 전류 속도(C-rate) 0
10 10
제 1항에 있어서,상기 후막 전극은,방전 전류 속도(C-rate) 0
11 11
제 10항에 있어서,상기 후막 전극은,방전 전류 속도(C-rate) 0
12 12
제 1항에 있어서,상기 후막 전극은,전도성 집전체 상에 단일 막 형태로 형성되는리튬 이차전지용 후막 전극
13 13
제 1항에 있어서,상기 후막 전극의 한계 두께는,상기 후막 전극의 표면적 비의 제곱과 미가공 전극의 한계 두께의 곱인리튬 이차전지용 후막 전극
14 14
제 1항에 있어서,상기 하나 이상의 홈은,직선, 격자 또는 점의 형상인리튬 이차전지용 후막 전극
15 15
양극 활물질을 포함하는 양극 및 음극 활물질을 포함하는 음극을 포함하는 후막 전극;상기 후막 전극이 형성되는 집전체;분리막; 및전해액을 포함하고,상기 양극 및 상기 음극은,500 μm 내지 1500 μm의 두께를 가지며,레이저 식각되어 표면에 하나 이상의 홈이 형성되고,상기 양극 및 상기 음극의 한계 두께는, 미 가공된 전극의 한계 두께보다 크고,상기 양극 및 상기 음극의 단위 면적 당 전극 용량이 최대 값을 나타내는 전극의 두께는, 미 가공된 전극의 단위 면적 당 전극 용량이 최대 값을 나타내는 전극의 두께보다 큰리튬 이차 전지
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1 KR102144937 KR 대한민국 FAMILY

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