맞춤기술찾기

이전대상기술

이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형 및 이를 이용한 광도파로 제조 방법

  • 기술번호 : KST2020002318
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 패턴이 표면상에 형성된 고분자 몰드 위에 산소 플라즈마 공정을 통해 상대적 자유도를 높여 롤투롤 임프린트 리소그래피의 금형으로 이용될 때에 이형성을 높일 수 있도록 한 이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형 및 이를 이용한 광도파로 제조 방법에 관한 것으로, 플라즈마 장비내에서 평판 PDMS 금형을 제 1 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면;플라즈마 장비내에서 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 2 벽면;을 포함하고, 제 1 벽면과 제 2 벽면을 포함하는 평판 PDMS 금형의 패턴은 저표면에너지 금형 표면 영역과 고표면에너지 금형 표면 영역을 갖는 것이다.
Int. CL G03F 7/00 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01) G02B 6/12 (2006.01.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020180102279 (2018.08.29)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2020-0025234 (2020.03.10) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2018.08.29)
심사청구항수 3

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정명영 부산광역시 금정구
2 김지원 부산광역시 강서구
3 강호주 부산광역시 해운대구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
3 나성곤 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2018.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2018-0859903-41
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2019.02.15 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2019.04.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2019-0092358-93
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.08.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0614408-10
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.10.28 수리 (Accepted) 1-1-2019-1102387-06
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2019.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1218676-27
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.12.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-1343998-12
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.12.26 수리 (Accepted) 1-1-2019-1343980-02
9 등록결정서
Decision to grant
2020.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2020-0203183-16
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
플라즈마 장비내에서 평판 PDMS 금형을 제 1 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면;플라즈마 장비내에서 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 2 벽면;을 포함하고,제 1 벽면과 제 2 벽면을 포함하는 평판 PDMS 금형의 패턴은 저표면에너지 금형 표면 영역과 고표면에너지 금형 표면 영역을 갖고,평판 PDMS 금형의 패턴에서 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면과 제 2 벽면 영역이 저표면에너지 금형 표면 영역이고, 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어지지 않은 영역이 고표면에너지 금형 표면 영역인 것을 특징으로 하는 이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형
2 2
삭제
3 3
광도파로 패턴 제작 단계;PDMS 광도파로 패턴 복제하여 평판 PDMS 금형을 제작하는 단계;PDMS 금형 표면 플라즈마 처리 단계; 및 금형용 금속원통에 PDMS 금형을 부착하는 단계를 포함하고,PDMS 금형 표면 플라즈마 처리 단계는,플라즈마 장비내에 평판 PDMS 금형을 제 1 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 조사 방향에 평판 PDMS 금형 패턴의 제 1 벽면이 노출되도록 하여 부분 이형 처리를 하여 저표면에너지 금형 표면 영역과 고표면에너지 금형 표면 영역을 갖는 1차 표면 처리 평판 PDMS 금형을 제작하는 단계;플라즈마 장비내에 1차 표면 처리 평판 PDMS 금형을 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 조사 방향에 1차 표면 처리 평판 PDMS 금형 패턴의 제 2 벽면이 노출되도록 하여 부분 이형 처리를 하여 저표면에너지 금형 표면 영역과 고표면에너지 금형 표면 영역을 갖는 2차 표면 처리 평판 PDMS 금형을 제작하는 단계;를 포함하고,평판 PDMS 금형의 패턴에서 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면과 제 2 벽면 영역이 저표면에너지 금형 표면 영역이고, 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어지지 않은 영역이 고표면에너지 금형 표면 영역인 것을 특징으로 하는 이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형의 제조 방법
4 4
삭제
5 5
저표면에너지 금형 표면 영역과 고표면에너지 금형 표면 영역을 갖는 평판 PDMS 금형을 롤투롤 시스템용 원통에 부착하는 단계;롤투롤 임프린트 리소그래피 공정을 통한 광도파로 하층 클래드를 제작하는 단계;광도파로 하층 클래드의 패턴내에 코어 레진을 충진하고, 충진된 코어 레진을 경화시키는 단계;상층 클래드(clad) 코팅을 하고, 클래드 상층부 경화 및 표면 다듬기, 패키징 단계를 수행하여 광도파로를 제작하는 단계;를 포함하고,광도파로 하층 클래드를 제작하는 단계에서,플라즈마 장비내에서 평판 PDMS 금형을 제 1 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면; 플라즈마 장비내에서 제 1 방향과 반대인 제 2 방향으로 기울인 상태에서 산소 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 2 벽면;을 포함하고 롤투롤 시스템용 원통에 부착된 PDMS 금형에 의해 하층 클래드를 제작하기 위한 물질층이 제1,2 벽면 영역에서 공기층이 없이 충진되고,평판 PDMS 금형의 패턴에서 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어진 제 1 벽면과 제 2 벽면 영역이 저표면에너지 금형 표면 영역이고, 플라즈마 처리를 통한 부분 이형 처리가 이루어지지 않은 영역이 고표면에너지 금형 표면 영역인 것을 특징으로 하는 이형성을 높인 롤투롤 임프린트 유연 금형을 이용한 광도파로 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업통상자원부 부산대학교 산학협력단 나노금형기반맞춤형융합제품상용화지원센터구축사업 (RCMS) 나노금형기반 맞춤형 융합제품 상용화지원센터 구축