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나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법 및 패턴화된 나노갭

기술번호 : KST2020002646
담당센터 : 서울서부기술혁신센터
전화번호 : 02-6124-6930

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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법 및 이를 이용하여 형성된 패턴화된 나노갭에 관한 것이다. 구체적으로 본 발명은 나노 크기의 갭을 패터닝하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 패턴화된 마스크 및 자외선 조사라는 간단한 방법으로 원하는 곳에만 금속 입자를 흡착시킴으로써 기판과 금속 입자 사이에 나노갭을 형성함에 있어 공간적인 제어가 가능하다. 또한, 포토리소그래피 공정을 이용하여 나노미터 스케일 크기의 매우 작은 사이즈의 패턴화도 가능하다. 이러한 나노갭의 패턴화를 조절하여 궁극적으로 나노갭의 공간적 분포를 제어할 수 있고, 이에 의해 여러가지 광학적 특성 또는 현상을 제어할 수 있다.
Int. CL	G03F 7/00 (2006.01.01) G03F 7/20 (2006.01.01) H01L 21/027 (2006.01.01) H01L 21/02 (2006.01.01)
CPC	G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자	1020180107883 (2018.09.10)
출원인	중앙대학교 산학협력단
등록번호/일자
공개번호/일자	10-2020-0029259 (2020.03.18) 문서열기
공고번호/일자	문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2018.09.10)
심사청구항수	6

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	중앙대학교 산학협력단	대한민국	서울특별시 동작구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	윤상운		경기도 성남시 분당구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	남건필	대한민국	서울특별시 영등포구 경인로 **, 동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
2	차상윤	대한민국	서울특별시 영등포구 경인로 **, 동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)
3	박종수	대한민국	서울특별시 영등포구 경인로 **, 동 ***호(엔씨 국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	중앙대학교 산학협력단		서울특별시 동작구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2018.09.10	수리 (Accepted)	1-1-2018-0897886-32
2	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2019.03.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2019.05.14	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2019-0092305-84
4	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.07.29	수리 (Accepted)	4-1-2019-5151122-15
5	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.01	수리 (Accepted)	4-1-2019-5153932-16
6	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2019.11.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0852079-07
7	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2020.01.22	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2020-0073168-23
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2020.01.22	수리 (Accepted)	1-1-2020-0073167-88
9	등록결정서 Decision to grant	2020.04.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0268081-14

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 금속 기판 상에 제 1 자기 조립 단분자층(Self-Assembled Monolayer; SAM)을 형성하는 단계;상기 제 1 자기 조립 단분자층 위에 패턴화된 마스크를 배치하고 자외선을 조사하는 단계;상기 자외선 조사를 받은 자기 조립 단분자층이 제거되고, 패턴화된 제 1 자기 조립 단분자층이 형성되는 단계;상기 기판을 금속 입자 용액에 침지시켜 금속 입자를 패턴화된 제 1 자기 조립 단분자층에 흡착시키는 단계; 및상기 금속 기판과 상기 금속 입자 사이에 제 1 갭(gap)이 형성되는 단계를 포함하고,상기 패턴화된 마스크의 패턴에 의해 상기 갭의 공간 분포를 조절하여 광학 효과를 제어하며,상기 제 1 갭은 나노미터 크기의 갭이고,상기 자기 조립 단분자층 위에 패턴화된 마스크를 배치하고 자외선 조사하는 단계에서 포토리소그래피 공정을 이용함으로써 나노미터 크기의 갭이 형성되고 나노미터 크기의 패턴이 제어되는,나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법
2	2 제 1 항에 있어서,상기 자기 조립 단분자층은 티올(thiol) 화합물로 이루어진,나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법
3	3 삭제
4	4 금속 기판 상에 제 1 자기 조립 단분자층(Self-Assembled Monolayer; SAM)을 형성하는 단계; 상기 제 1 자기 조립 단분자층 위에 패턴화된 마스크를 배치하고 자외선을 조사하는 단계; 상기 자외선 조사를 받은 자기 조립 단분자층이 제거되고, 패턴화된 제 1 자기 조립 단분자층이 형성되는 단계; 자외선 조사에 의해 제 1 자기 조립 단분자층이 제거된 영역에 제 2 자기 조립 단분자층을 추가로 형성하는 단계; 상기 기판을 금속 입자 용액에 침지시켜 금속 입자를 패턴화된 제 1 자기 조립 단분자층 및 패턴화된 제 2 자기 조립 단분자층에 흡착시키는 단계; 및상기 패턴화된 제 1 자기 조립 단분자층이 형성된 영역에서 상기 금속 기판과 상기 금속 입자 사이에 제 1 갭이 형성되고, 상기 패턴화된 제 2 자기 조립 단분자층이 형성된 영역에서 상기 금속 기판과 상기 금속 입자 사이에 제 2 갭이 형성되는 단계를 포함하고,상기 패턴화된 마스크의 패턴에 의해 상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭의 공간 분포를 조절하여 광학 효과를 제어하며,상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭은 나노미터 크기의 갭이고,상기 자기 조립 단분자층 위에 패턴화된 마스크를 배치하고 자외선 조사하는 단계에서 포토리소그래피 공정을 이용함으로써 나노미터 크기의 갭이 형성되고 나노미터 크기의 패턴이 제어되는,나노갭을 패터닝하여 형성하는 방법
5	5 삭제
6	6 제 4 항에 따른 방법에 의해 형성된 갭으로서,상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭은 나노미터 크기의 갭이고,상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭은 패턴화되어 있고,상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭에 의해 플라즈몬 효과가 나타나고 제어되는,패턴화된 나노갭
7	7 제 6 항에 있어서,상기 제 1 갭 및 상기 제 2 갭은 서로 상이한 두 종류 이상의 패턴의 갭들로 이루어질 수 있으며,이 경우 서로 상이한 패턴에 속하는 갭 간에는 광학 효과가 상이한,패턴화된 나노갭
8	8 제 7 항에 있어서,서로 상이한 패턴에 속하는 갭은,자기 조립 단분자층의 물질이 상이하거나 또는 상기 자기 조립 단분자층에 흡착되는 금속 입자가 상이한,패턴화된 나노갭

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순번	연구부처	주관기관	연구사업	연구과제
1	과학기술정보통신부	중앙대학교	이공분야기초연구사업	나노갭 특성 조절을 통한 나노입자 조립체와 빛의 상호작용 연구

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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2018.09.10	수리 (Accepted)	1-1-2018-0897886-32
2	선행기술조사의뢰서	2019.03.15	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
3	선행기술조사보고서	2019.05.14	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-6-2019-0092305-84
4	출원인정보변경(경정)신고서	2019.07.29	수리 (Accepted)	4-1-2019-5151122-15
5	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.01	수리 (Accepted)	4-1-2019-5153932-16
6	의견제출통지서	2019.11.25	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2019-0852079-07
7	[명세서등 보정]보정서	2020.01.22	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2020-0073168-23
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2020.01.22	수리 (Accepted)	1-1-2020-0073167-88
9	등록결정서	2020.04.16	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2020-0268081-14

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