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입방정 질화붕소(cubic boron nitride, cBN) 분말을 준비하는 단계;상기 준비된 분말을 산처리하는 단계;상기 산처리된 분말을 세척하는 단계; 상기 세척된 분말을 건조하는 단계;TTIP(Titanium terta isoproxide)가 포함된 무수에탄올과 상기 건조된 분말을 혼합하여 혼합물을 형성하는 단계; 상기 혼합물에 증류수를 첨가하는 단계;상기 혼합물을 세척하는 단계;상기 세척된 혼합물을 건조하는 단계; 및상기 건조된 혼합물을 열처리하는 단계를 포함하는 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 cBN 분말의 입도는 2 내지 4 ㎛인, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 산처리는, 질산 및 황산의 혼합물로 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 산처리는, 45-55 중량%: 55-45 중량%로 혼합된 질산 및 황산의 혼합물로 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 산처리하는 단계에서, 상기 분말이 2 내지 4시간 동안 교반되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 분말을 세척하는 단계는, 한 번 또는 그 이상의 세척이 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 분말을 건조하는 단계는, 60 내지 100 ℃에서 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 세척하는 단계는, 한 번 또는 그 이상의 세척이 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 열처리하는 단계는, 질소 및 수소 분위기에서 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 열처리하는 단계는, 95% 질소 및 5% 수소 분위기에서 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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제1항에 있어서,상기 열처리하는 단계는, 800 내지 1000 ℃의 온도에서 3 내지 5시간 동안 실시되는, 입방정 질화붕소의 질화티타늄 코팅방법
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