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기판 상에 형성된 세라믹 전구체층에 백색광을 조사하는 백색광 조사부;상기 백색광 조사부로부터 방출되는 백색광을 반사시키는 반사판;상기 기판의 하부에 배치되고, 상기 세라믹 전구체층에 열을 가하는 열원을 포함하는 지지부;상기 백색광 조사부에 전력을 공급하는 파워 서플라이;상기 파워 서플라이에 연결되어 상기 백색광 조사부에 고전력을 공급하는 커패시터; 및상기 백색광 조사부로부터 방출되는 백색광이 적어도 둘 이상의 펄스 사이클로 조사되도록 제어하는 컨트롤러를 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 둘 이상의 펄스 사이클은 펄스 파라미터가 상이하고,상기 펄스 파라미터는 펄스 강도, 펄스 갭, 펄스 폭 및 펄스 수 중 적어도 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 적어도 둘 이상의 펄스 사이클은 제1 펄스 사이클 및 제2 펄스 사이클을 포함하고,상기 제1 펄스 사이클은 제1 파워 서플라이 및 제1 커패시터를 통해 수행되고, 상기 제2 펄스 사이클은 제2 파워 서플라이 및 제2 커패시터를 통해 수행되는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제2항에 있어서, 상기 컨트롤러는,상기 세라믹 전구체층의 물질에 따라 상기 펄스 사이클의 펄스 파라미터를 변화시키는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제4항에 있어서, 상기 세라믹 전구체층은 세라믹 전구체를 포함하고,상기 컨트롤러는, 상기 세라믹 전구체의 구성 성분에 따라 상기 펄스 사이클의 펄스 파라미터를 변화시키는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 둘 이상의 펄스 사이클 간의 펄스 갭은 10ms 내지 1min인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 열원은 가열판, 히터(heater) 또는 오븐인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 기판의 목표 온도는 100℃내지 700℃인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 지지부는 상기 기판을 수평 방향으로 이동시키는 슬라이더(slider)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제9항에 있어서, 상기 슬라이더는 상기 기판이 목표 온도에 도달하면 상기 기판을 상기 백색광 조사부의 하부로 이동시키는 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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제1항에 있어서, 상기 지지부는 상기 기판을 수평 방향으로 이동시키는 컨베이어 벨트인 것을 특징으로 하는 광소결 장치
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