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반응용기에 고상의 인산리튬 및 황산을 투입하는 단계;상기 고상의 인산리튬 및 황산을 교반하여 고상의 황산리튬 및 인산을 포함하는 혼합물을 제조하는 단계;상기 혼합물을 가압하고, 여과하여 상기 인산을 포함하는 여과액을 회수하는 단계; 및상기 혼합물이 가압된 상태로 세척액을 분사하여 상기 혼합물의 세척 및 여과를 수행하는 단계;를 포함하는 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 세척액을 분사하는 단계에서,상기 혼합물의 세척 및 여과를 동시에 수행하는 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 여과하는 단계에서,상기 혼합물 중의 액체 함유 비율인 함수율이 45 내지 53 중량%일 때, 상기 세척액의 분사를 시작하는 황산리튬 제조방법
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제3항에 있어서,상기 세척액을 분사하는 단계에서,상기 혼합물의 함수율이 45 내지 53 중량%가 유지되도록 상기 세척액을 분사하는 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 여과하는 단계에서, 상기 혼합물을 2 내지 4bar로 가압하고,상기 세척액을 분사하는 단계에서, 상기 혼합물을 2 내지 4bar로 가압하는 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 세척액을 분사하는 단계 이후,상기 혼합물로부터 여과되는 여과액의 밀도를 측정하여 상기 여과액의 밀도가 1
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제6항에 있어서,상기 여과액의 밀도를 측정하는 단계 이후,상기 여과액의 밀도가 1
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제1항에 있어서,상기 세척액을 분사하는 단계 이후,상기 혼합물로부터 여과액이 여과되고 남은 고상의 황산리튬에 용해액을 공급하는 단계: 및상기 용해액에 용해된 황산리튬을 수득하는 단계;를 더 포함하는 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 여과하는 단계에서,상기 여과액의 인(P) 및 황(S)의 합계 농도가 5mol/L 이상인 황산리튬 제조방법
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제1항에 있어서,상기 혼합물을 제조하는 단계에서,상기 고상의 인산리튬 및 황산의 직접 반응을 통해 상기 혼합물이 제조되며
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제1항에 있어서,상기 세척액을 분사하는 단계에서,상기 분사되는 세척액의 전체 중량은 상기 세척액 분사 전의 혼합물 중, 함유된 고상의 입자 중량의 0
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