1 |
1
반응기;상기 반응기 내부의 하부에 배치되고 상부에 미환원 산화물이 포함된 금속 전환체가 놓이는 분산판;상기 반응기 내부에서 상기 분산판의 상부에 배치되고, 전원이 인가되면 상기 금속 전환체를 이온화시키고 이온화된 금속 전환체가 용해된 전해질을 통과시키며, 그 하부 표면에는 상기 미환원 산화물이 부착되는 양극 여과막;상기 반응기 내부에서 상기 양극 여과막의 상부에 배치되고, 상기 전원이 인가되면 그 하부 표면에 상기 이온화된 금속 전환체 중 제1 금속을 환원시켜 전착시키며, 상기 이온화된 금속 전환체 중 제2 금속이 용해된 전해질은 통과시키는 음극 여과막;상기 분산판, 상기 양극 여과막 및 상기 음극 여과막이 침지되도록 상기 반응기 내부에 채워지는 상기 전해질; 및상기 양극 여과막에 상기 전원의 양극이 연결되며, 상기 음극 여과막에 상기 전원의 음극이 연결된 전원 공급 장치;를 포함하는, 미환원 산화물 분리 장치
|
2 |
2
제1항에 있어서,상기 분산판에는 다수의 관통홀이 형성되며,상기 반응기에는,상기 분산판의 하부에 형성되어 상기 분산판에 형성된 다수의 관통홀을 통해 기체를 상기 반응기 내부의 상부 방향으로 취입시킴으로써 상기 분산판 위에 놓인 상기 미환원 산화물이 포함된 금속 전환체와 상기 전해질을 유동화하기 위한 운반 기체 공급 유로;가 더 형성된, 미환원 산화물 분리 장치
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 양극 여과막 및 상기 음극 여과막은,판(plate) 형상을 가지며, 상기 반응기의 내부에서 경사지게 배치되는, 미환원 산화물 분리 장치
|
4 |
4
제3항에 있어서,상기 반응기에는,상기 양극 여과막의 하부 표면에 기체를 취입함으로써 상기 양극 여과막 하부 표면에 부착된 미환원 산화물을 제거하기 위한 제1 기체 유입 유로; 및상기 양극 여과막으로부터 제거된 미환원 산화물을 회수하기 위한 미환원 산화물 회수 유로;가 더 형성된, 미환원 산화물 분리 장치
|
5 |
5
제4항에 있어서, 상기 미환원 산화물 회수 유로를 통해 회수된 미환원 산화물은, 전해환원장치로 공급되는, 미환원 산화물 분리 장치
|
6 |
6
제3항에 있어서, 상기 반응기에는,상기 음극 여과막의 하부 표면에 기체를 취입함으로써 상기 음극 여과막 하부 표면에 전착된 제1 금속을 제거하기 위한 제2 기체 유입 유로; 및상기 제2 기체 유입 유로의 대향하는 위치에 형성되어 상기 음극 여과막으로부터 제거된 제1 금속을 회수하기 위한 생성물 회수 유로;가 더 형성된, 미환원 산화물 분리 장치
|
7 |
7
제1항에 있어서,상기 반응기의 상부에는, 이온화된 금속 전환체 중 제2 금속이 용해된 전해질을 분말 형태로 응축시키기 위한 응축부;가 더 형성된, 미환원 산화물 분리 장치
|
8 |
8
제7항에 있어서, 상기 미환원 산화물 분리 장치는,상기 응축부에 의해 응축된 분말 형태의 전해질로부터 기체를 분리하기 위한 싸이클론;을 더 포함하는, 미환원 산화물 분리 장치
|
9 |
9
제8항에 있어서, 상기 미환원 산화물 분리 장치는,응축된 상기 분말 형태의 전해질을 회수하여 전해제련장치로 공급하기 위한 염 회수 유로; 및응축된 상기 분말 형태의 전해질을 상기 반응기 내부로 다시 유입시키기 위한 염 공급 유로;를 더 포함하는, 미환원 산화물 분리 장치
|
10 |
10
제1항에 있어서, 상기 제1 금속은, 우라늄이며,상기 제2 금속은, 초우라늄인, 미환원 산화물 분리 장치
|
11 |
11
반응기 내부의 하부로부터 상부 방향으로 분산판, 양극 여과막, 음극 여과막이 순차로 구비되며, 상기 분산판에 형성된 다수의 관통홀을 통해 기체를 상기 반응기 내부의 상부 방향으로 취입시킴으로써 상기 분산판 위에 놓인 미환원 산화물이 포함된 금속 전환체와 전해질을 유동화하는 유동화 단계;상기 양극 여과막 및 상기 음극 여과막에 전원을 공급함으로써 상기 양극 여과막에서는 상기 금속 전환체를 이온화시키고 이온화된 금속 전환체가 용해된 전해질을 통과시키며 그 하부 표면에는 상기 미환원 산화물이 부착되며, 상기 음극 여과막에서는 그 하부 표면에 상기 이온화된 금속 전환체 중 제1 금속을 환원시켜 전착시키며 상기 이온화된 금속 전환체 중 제2 금속이 용해된 전해질은 통과시키는 미산화물 분리 단계; 및반응이 완료되면, 상기 양극 여과막의 하부 표면에 기체를 취입함으로써 상기 양극 여과막 하부 표면에 부착된 미환원 산화물을 제거한 후 제거된 미환원 산화물을 회수하여 전해환원장치로 공급하며, 상기 음극 여과막의 하부 표면에 기체를 취입함으로써 상기 음극 여과막 하부 표면에 전착된 제1 금속을 제거한 후 제거된 제1 금속을 회수하여 전해정련장치로 공급하며, 이온화된 금속 전환체 중 제2 금속이 용해된 전해질을 분말 형태로 응축한 후 회수하여 전해제련장치로 공급하는 미환원 산화물, 생성물 및 전해질 염 회수 단계를 포함하는, 미환원 산화물 분리 방법
|