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제염 폐액에 금속 이온; 산소 또는 아산화질소; 및 반도체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상; 및 산화제를 첨가하여 전처리 용액을 제조하는 단계; 및상기 전처리 용액에 방사선을 조사하는 단계;를 포함하고,상기 산화제는 방사선 조사에 의해 설페이트 라디칼을 형성할 수 있는 화합물을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 금속 이온은 전이금속 이온인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 2에 있어서,상기 전이금속 이온은 스칸듐 이온, 티타늄 이온, 바나듐 이온, 크롬 이온, 망간 이온, 철 이온, 코발트 이온, 니켈 이온, 구리 이온, 아연 이온, 이트륨 이온, 지르코늄 이온, 니오브 이온, 몰리브덴 이온, 테크네튬 이온, 루테늄 이온, 로듐 이온, 팔라듐 이온, 은 이온, 카드뮴 이온, 하프늄 이온, 탄탈 이온, 텅스텐 이온, 레늄 이온, 오스뮴 이온, 이리듐 이온, 백금 이온, 금 이온 및 수은 이온으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 3에 있어서,상기 전이금속 이온은 철 이온, 구리 이온, 니켈 이온 또는 이의 혼합물인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 방사선 조사에 의해 설페이트 라디칼을 형성할 수 있는 화합물은 과황산, 황산 및 이의 염으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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삭제
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청구항 1에 있어서,상기 방사선 조사에 의해 설페이트 라디칼을 형성할 수 있는 화합물은 과황산칼륨, 과황산나트륨 및 과황산암모늄으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 반도체는 유기 또는 무기 원소로 도핑된 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 전처리 용액을 제조하는 단계는 상기 제염폐액에 금속 이온 및 산화제의 첨가를 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 9에 있어서,상기 전처리 용액 내 금속 이온 및 산화제의 몰당량비는 1:1 내지 1:10인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 10에 있어서,상기 금속 이온 및 산화제의 몰당량비는 1:2 내지 1:5인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 전처리 용액을 제조하는 단계는 상기 제염폐액에 금속 이온 및 산소 또는 아산화질소의 첨가를 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 12에 있어서,상기 금속 이온 및 산소 또는 아산화질소의 몰당량비는 1:0
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청구항 1에 있어서,상기 방사선 조사는 전자선, 알파선, 베타선, 감마선, 엑스선 및 중성자선으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상을 조사하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 방사선 조사의 조사선량은 흡수선량 기준으로 1 내지 100 kGy인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 9에 있어서,상기 방사선 조사의 조사선량은 흡수선량 기준으로 5 내지 25 kGy인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 제염 폐액의 pH는 2 내지 10인 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 1에 있어서,상기 제염 폐액은 유기 제염제를 포함하는 것이며, 상기 제염 폐액의 처리는 상기 유기 제염제를 제거하는 것을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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청구항 18에 있어서,상기 유기 제염제는 옥살산, 시트릭산, 개미산, 피콜릭산, EDTA, 글루코닉산, 아세트산 및 설파믹산으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것인 제염 폐액의 처리 방법
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