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(S1) 도핑 대상 원자를 포함하는 도핑 용액에, 다공성 탄소 전구체를 혼합하는 단계;(S2) 마이크로파-용매열합성법에 의해 상기 다공성 탄소 전구체에 이원자를 도핑시키는 단계; 및 (S3) 상기 이원자가 도핑된 다공성 탄소 전구체를 열처리하여 탄화시키는 단계;를 포함하는, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 도핑 대상 원자는 N 및 S인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제1항에 있어서,상기 도핑 용액은 상기 도핑 대상 원자의 전구체를 용매에 용해시켜 제조된 것인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 도핑 대상 원자의 전구체는 티오요소(thiourea), 요소(urea), 다이벤질 다이설파이드 (dibenzyl disulfide) 및 싸이오사이안산암모늄(ammonium thiocyanate)로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 용매는 디메틸 카보네이트, 디메틸 포름아미드, N-메틸 포름아미드, 술폴란(테트라히드로티오펜-1,1-디옥사이드), 3-메틸술폴란, N-부틸 술폰, 디메틸 설폭사이드, 피로리디논(HEP), 디메틸피페리돈(DMPD), N-메틸 피롤리디논(NMP), N-메틸 아세트아미드, 디메틸 아세트아미드(DMAc), 디메틸포름아미드(DMF), 디에틸아세트아마이드(DEAc) 디프로필아세트 아마이드(DPAc), 에탄올, 프로판올, 부탄올, 헥산올, 에틸렌글리콜, 테트라클로로에틸렌, 프로필렌글리콜, 톨루엔, 트르펜틴, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 페트롤 에테르, 아세톤, 크레졸 및 글리세롤로 이루어진 군에서 선택된 1종 이상의 유기용매인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제3항에 있어서,상기 도핑 용액의 농도는 0
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제1항에 있어서,상기 다공성 탄소 전구체는 금속 유기 골격체(Metal Organic Frameworks, MOF)인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제7항에 있어서,상기 MOF는 연속적으로 결합된 금속 이온과 유기 리간드를 포함하는 것인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 금속 이온은 Li+, Na+, K+, Rb+, Be2+, Mg2+, Ca2+, Sr2+, Ba2+, Sc3+, Y3+, Ti4+, Zr4+, Hf+, V4+, V3+, V2+, Nb3+, Ta3+, Cr3+, Mo3+, W3+, Mn3+, Mn2+, Re3+, Re2+, Fe3+, Fe2+, Ru3+, Ru2+, Os3+, Os2+, Co3+, Co2+, Rh2+, Rh+, Ir2+, Ir+, Ni2+, Ni+, Pd2+, Pd+, Pt2+, Pt+, Cu2+, Cu+, Ag+, Au+, Zn2+, Cd2+, Hg2+, Al3+, Ga3+, In3+, Tl3+, Si4+, Si2+, Ge4+, Ge2+, Sn4+, Sn2+, Pb4+, Pb2+, As5+, As3+, As+, Sb5+, Sb3+, Sb+, Bi5+, Bi3+ 및 Bi+ 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 유기 리간드는 할라이드, 카르복실레이트, 시아노, 이소시아네이트, 이소사이오시아네이트, 나이트릴, 피리딜, 니트로소, 니트로 및 포스페이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 금속 이온과 유기 리간드의 몰비는 1:0
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제1항에 있어서,상기 마이크로파-용매열합성법은 0
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제3항에 있어서,상기 열처리는 불활성 분위기 하에서 500 내지 1500 ℃의 온도로 3 내지 10 시간 동안 실시하는 것인, 다공성 탄소 구조체의 제조방법
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