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기재, 및 상기 기재 상에 형성되고 산화바나듐 입자를 포함하는 열변색층을 포함하는 광학 적층체를 제조하는 방법에 있어서,산화바나듐 전구 물질을 포함하는 제1 용액을 수열 합성하여 산화바나듐 입자를 합성하는 합성 단계; 상기 산화바나듐 입자를 포함하는 제2 용액을 기재 상에 도포하여 도포층을 형성하는 형성 단계; 및광을 조사하여 도포층의 유기물을 증발하는 광증발 단계 및 광을 조사하여 상기 도포층에 포함되어 있는 산화바나듐 입자를 광소결시켜 열변색층을 제조하는 광소결 단계를 포함하는 제조 단계를 포함하고,광증발 단계 및 광소결 단계는 일정한 펄스 폭을 갖고 반복적으로 광을 조사하되, 광증발 단계에서 광의 반복 조사 횟수는, 광소결 단계에서 광의 반복 조사 횟수 이상인 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 합성 단계는 제1 용액의 몰농도(Molarity)를 조절하는 단계를 포함하는 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 합성 단계는 제1 용액의 pH를 조절하는 단계를 포함하는 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 합성 단계는 산화바나듐 입자를 열처리 하는 단계를 추가로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 산화바나듐 전구 물질을 포함하는 제1 용액은 산화바나듐 전구 물질; 환원제; pH조절제 및 제1 용매를 포함하는 광학 적층체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 산화바나듐 전구 물질과 환원제의 몰 비율은 1 : 1 내지 5 인 광학 적층체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 산화바나듐 전구 물질은 오산화바나듐, 옥시황산바나듐 또는 바나듐산 암모늄인 광학 적층체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 환원제는 하이드라진, 하이드라진 수화물, 수산화 나트륨, 옥살산, 또는 옥살산 수화물인 광학 적층체의 제조 방법
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제 5 항에 있어서, 제1 용액은 도펀트를 추가로 포함하는 광학 적층체의 제조 방법
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제 9 항에 있어서, 도펀트는 산화바나듐 전구 물질 100 중량부 대비 1 내지 10 중량부인 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 산화바나듐 입자를 포함하는 제2 용액은 산화바나듐 입자; 제2 용매; 고분자 분산제; 및 바인더를 포함하고, 상기 고분자 분산제의 분자량은 10,000 내지 360,000이고, 점도는 1 내지 100cP인 광학 적층체의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 고분자 분산제의 함량은 제2 용액 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 10 중량%인 광학 적층체의 제조방법
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제 11 항에 있어서, 바인더의 함량은 제2 용액 조성물 총 중량에 대하여 0
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제 11 항에 있어서, 제2 용매는 물 및 알코올의 혼합물인 광학 적층체의 제조방법
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제 14 항에 있어서, 물 및 알코올 중량비는 1 : 0
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제 11 항에 있어서, 산화바나듐 입자의 함량은 제2 용액 조성물 총 중량에 대하여 1 내지 50중량%인 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 형성 단계는 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅에 의해 수행되는 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 광증발 단계에서 광의 출력 전압은, 광소결 단계에서 광의 출력 전압 보다 낮은 광학 적층체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서, 광증발 단계에서 광의 펄스 폭은, 광소결 단계에서 광의 펄스 폭보다 넓은 광학 적층체의 제조 방법
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