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광 생성 영역, 파장 가변 영역 및 광 변조 영역을 포함하는 도파로;상기 광 생성 영역 내에 제공되고, 광이 생성되는 제1 광도파층;상기 파장 가변 영역 내에 제공되고, 상기 제1 광도파층과 연결되는 제2 광도파층;상기 광 변조 영역 내에 제공되고, 상기 제2 광도파층과 연결되는 링형의 제3 광도파층; 및상기 광 변조 영역을 사이에 두고 서로 이격되는 제1 광 변조 전극 및 제2 광 변조 전극을 포함하고,상기 제1 광 변조 전극, 상기 제3 광도파층 및 상기 제2 광 변조 전극은 서로 수직적으로 중첩되는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 파장 가변 영역 내에 제공되는 격자들을 더 포함하는 광학 장치
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제2 항에 있어서,상기 제2 광도파층은 제1 방향으로 연장하고,상기 격자들은 상기 제1 방향으로 배열되는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 제1 광 변조 전극 및 상기 광 변조 영역 사이의 오믹층을 더 포함하는 광학 장치
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제1 항에 있어서,상기 파장 가변 영역 상의 파장 변경부를 더 포함하는 광학 장치
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제5 항에 있어서,상기 파장 변경부는 발열체를 포함하는 광학 장치
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제5 항에 있어서,상기 파장 변경부에 의해 상기 광의 피크 파장이 제1 파장에서 제2 파장으로 변경되고,상기 제1 파장과 상기 제2 파장의 차이가 제1 파장차로 정의되고,상기 광 변조 영역에서 방출된 상기 광의 FSR(free spectral range)가 제2 파장차로 정의되고, 상기 제2 파장차의 정수배는 상기 제1 파장차와 동일한 광학 장치
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제7 항에 있어서,상기 제2 파장차는 아래의 수학식을 만족하는 광학 장치:[수학식]제2 파장차 = c/nL상기 수학식에서, c는 빛의 속도이고, n은 상기 제3 광도파층의 군굴절율(group refractive index)이고, L은 상기 제3 광도파층의 둘레이다
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도파로의 광 생성 영역 내에서 광을 생성하는 것;상기 도파로의 파장 가변 영역 내에서 상기 광의 피크 파장을 변경하는 것, 상기 광의 상기 피크 파장은 제1 파장에서 제2 파장으로 변경되고; 및상기 도파로의 광 변조 영역 내에서 상기 광을 변조하는 것을 포함하고,상기 제1 파장 및 상기 제2 파장의 차이가 제1 파장차로 정의되고,상기 변조된 광의 FSR(free spectral range)가 제2 파장차로 정의되고,상기 제2 파장차의 정수배는 상기 제1 파장차와 동일한 광학 장치의 구동방법
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제9 항에 있어서,상기 광 변조 영역 내에서 상기 광을 변조하는 것은,상기 광 변조 영역 내의 링형 광도파층을 이용하여 상기 파장 가변 영역에서 파장이 변경된 상기 광을 변조하는 것을 포함하는 광학 장치의 구동방법
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제10 항에 있어서,상기 광 변조 영역 내에서 상기 광을 변조하는 것은,상기 링형 광도파층과 수직적으로 중첩되는 전극을 이용하여 상기 광 변조 영역 및 상기 링형 광도파층의 굴절률을 변경시키는 것을 포함하는 광학 장치의 구동방법
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제10 항에 있어서,상기 제2 파장차는 아래의 수학식을 만족하는 광학 장치의 구동방법:[수학식]제2 파장차 = c/nL상기 수학식에서, c는 빛의 속도이고, n은 상기 링형 도파로의 군굴절율이고, L은 상기 링형 도파로의 둘레이다
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제9 항에 있어서,상기 가변 영역 내에서 상기 광의 피크 파장을 변경하는 것은,상기 가변 영역 상에 제공되는 파장 변경부를 이용하여 상기 광의 상기 피크 파장을 변경하는 것을 포함하는 광학 장치의 구동방법
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제13 항에 있어서,상기 파장 변경부는 발열체를 포함하는 광학 장치의 구동방법
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제13 항에 있어서,상기 파장 변경부는 오믹층 및 전극을 포함하는 광학 장치의 구동방법
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