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제 1 산화물 반도체층; 및 상기 제 1 산화물 반도체층 상에 배치된 제 2 산화물 반도체층을 포함하고,상기 제 1 산화물 반도체층의 물질은 상기 제 2 산화물 반도체층의 물질보다 밴드 갭이 더 작은 것이 이용되며,상기 제 1 산화물 반도체층과 상기 제 2 산화물 반도체층의 경계면은 요철 구조로 이루어지며,용액 공정을 통해 상기 제 1 산화물 반도체층 및 상기 제 2 산화물 반도체층이 형성되고,높은 전자 이동도 및 낮은 누설 전류 특성을 나타내는,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 산화물 반도체층의 물질은 InZnO, InZrZnO, ZnO, InSnZnO 중 어느 하나인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 제 2 산화물 반도체층의 물질은 AlZnO, GaZnO, InGaO, InGaZnO 중 어느 하나인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 1 항에 있어서,상기 요철 구조는 상기 제 1 산화물 반도체층이 요철 형태로 배치되어 있으며, 서로 평행한 복수개의 막대 형상의 요철이 나란히 배열된 형태인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 4 항에 있어서,상기 제 1 산화물 반도체층은 요철 구조에 따라 두께가 두꺼운 부분과 두께가 얇은 부분으로 이루어지며, 상기 요철 구조의 두께가 두꺼운 부분의 두께는 동일하고, 상기 요철 구조의 두께가 얇은 부분의 두께는 동일한,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 5 항에 있어서,요철 구조에서 상기 제 1 산화물 반도체층의 두께가 두꺼운 부분의 두께가 상기 제 1 산화물 반도체층의 두께가 얇은 부분의 두께의 1
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제 1 항에 있어서,상기 요철 간의 간격은 일정한 것을 특징으로 하는,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체를 포함한 박막 트랜지스터
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제 1 산화물 반도체층을 이루는 물질을 포함한 용액 및 제 2 산화물 반도체층을 이루는 물질을 포함한 용액을 각각 준비하는 단계;상기 제 1 산화물 반도체층을 이루는 물질을 포함한 용액을 이용해 제 1 산화물 반도체층을 형성하는 단계;상기 제 1 산화물 반도체층을 패턴화하여 식각하는 단계;상기 식각된 패턴화된 층 상에 제 1 산화물 반도체 물질층을 이루는 물질을 포함한 용액을 추가로 도포하여 제 1 산화물 반도체층을 성장시켜 패턴화된 제 1 산화물 반도체층을 얻는 단계; 및상기 패턴화된 제 1 산화물 반도체층 위에 제 2 산화물 반도체층을 이루는 물질을 포함한 용액을 도포하여 제 2 산화물 반도체층을 형성시키는 단계를 포함하고,상기 제 1 산화물 반도체층의 물질은 상기 제 2 산화물 반도체층의 물질보다 밴드 갭이 더 작은 것이 이용되며,상기 제 1 산화물 반도체층과 상기 제 2 산화물 반도체층의 경계면은 요철 구조로 이루어지며,용액 공정을 통해 상기 제 1 산화물 반도체층 및 상기 제 2 산화물 반도체층이 형성되는,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제 1 산화물 반도체층의 물질은 InZnO, InZrZnO, ZnO, InSnZnO 중 어느 하나인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 제 2 산화물 반도체층의 물질은 AlZnO, GaZnO, InGaO, InGaZnO 중 어느 하나인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 요철 구조는 상기 제 1 산화물 반도체층이 요철 형태로 배치되어 있으며, 서로 평행한 복수개의 막대 형상의 요철이 나란히 배열된 형태인,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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제 12 항에 있어서,상기 제 1 산화물 반도체층은 요철 구조에 따라 두께가 두꺼운 부분과 두께가 얇은 부분으로 이루어지며, 상기 요철 구조의 두께가 두꺼운 부분의 두께는 동일하고, 상기 요철 구조의 두께가 얇은 부분의 두께는 동일한,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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제 9 항에 있어서,상기 요철 간의 간격은 일정한 것을 특징으로 하는,요철 구조를 포함한 이종접합 산화물 반도체 구조체의 제조 방법
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